JPH0331363B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0331363B2
JPH0331363B2 JP4441684A JP4441684A JPH0331363B2 JP H0331363 B2 JPH0331363 B2 JP H0331363B2 JP 4441684 A JP4441684 A JP 4441684A JP 4441684 A JP4441684 A JP 4441684A JP H0331363 B2 JPH0331363 B2 JP H0331363B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
image
gap width
enlargement
enlarged
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP4441684A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS60187805A (ja
Inventor
Koji Uchiumi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
Priority to JP4441684A priority Critical patent/JPS60187805A/ja
Publication of JPS60187805A publication Critical patent/JPS60187805A/ja
Publication of JPH0331363B2 publication Critical patent/JPH0331363B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/024Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness by means of diode-array scanning

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
(技術分野) 本発明は、印刷配線板用フオトマスク等のパタ
ーン間隙幅の測定方式に関する。 (従来技術) 従来、印刷配線板製造工程の一過程で行なわれ
るフオトマスクの検査は自動化がなされておら
ず、作業者が、ルーペ、座標測定機等を用い目視
により多大な工数を費して検査を行なつており、
目視検査であるためフオトマスクの欠陥検出率が
低く2重、3重の検査が必要であつた。 近年印刷配線板の製造技術の向上に伴い急速に
高密度化がなされ、パターン間隙幅も微細にな
り、フオトマスクパターンの間隙幅の測定規格と
検査規格はさらに厳しくなつてきている。そのた
め従来方法は一層多大の検査工数が必要となり、
疲労による検査ミスの増大及び個人差による測定
のバラツキなどの無視できない欠点があつた。 (発明の目的) 本発明の目的は、上記欠点を除去することによ
り、自動的にかつ正確に測定できるところのフオ
トマスク等のパターン間隙幅の測定方式を提供す
ることにある。 (発明の構成) 本発明のパターン間隙測定方式は、フオトマス
ク等のパターン間隙幅の測定方式において、それ
ぞれパターン拡大処理回路を介して縦続接続され
たN個の画像メモリと、該画像メモリにそれぞれ
接続された消去判定回路とを備え、前記フオトマ
スク等のパターンの2値化された画像を実時間で
第1番目の前記画像メモリに記憶されると同時
に、前記パターン拡大処理回路によりその記憶さ
れた前記画像の一部を切出し各ビツトの状態の組
合せにより1ビツト拡大処理を行ないその結果を
次段の前記画像メモリへ出力する一連の前記画像
の記憶・切出し・拡大の処理を第N番目の前記画
像メモリに記憶されるまで行ない、得られたN個
の1ビツト毎にパターンの拡大された前記画像に
対し、前記消去判定回路により実時間でその拡大
された前記画像の一部を切出し各ビツトの状態の
組合せでパターン間隙幅の消去判定を行ない消去
と判定された場合は消去判定信号を出力させ、該
消去判定信号が第X番目の前記画像メモリより出
力された場合のパターン間隙幅をXビツトと判定
することから構成される。 (実施例) 以下、本発明の実施例について図面を参照して
説明する。 第1図は、本発明の一実施例に用いるパターン
拡大処理過程の説明図である。1〜Kビツトを持
つ受光素子で構成される一次元光センサ1を受光
素子の列方向に対して垂直方向に定ピツチで移動
させながら一次元光センサ1でフオトマスクを光
学的に読取り、二値化(パターン部を“1”、間
隙部を“0”とする)した画像信号を、実時間で
Kビツトのシフトレジスタ2列と3ビツトシフト
レジスタで構成される第1番目の画像メモリ2−
1に記憶する。同時に2ビツト×2ビツトで二値
化された画像を切り出し、パターン拡大処理回路
3−1で処理した結果を第2番目の画像メモリ2
−2へ出力する。第2番目の画像メモリ2−2に
は、パターンの1ビツト拡大された画像が記憶さ
れている。さらに第2番目の画像メモリ2−2に
ついても同様に2ビツト×2ビツトで画像の切出
しを行ない、パターン拡大処理回路3−2で処理
し、さらに1ビツト、パターンを拡大して第3番
目の画像メモリ2−3へ出力する。以下同様の処
理をN回繰返し、第N番目の画像メモリ2−Nに
記憶するまで行なう。 この処理により、被検査パターンの画像からN
ビツトパターン拡大した画像まで、1ビツトパタ
ーン拡大される毎の画像すべて実時間で記憶する
ことができ、かつ実時間で読出すことが可能とな
る。 第2図及び第3図はそれぞれパターン拡大処理
回路3−1,3−2,…の一例を示す回路図であ
る。第1図の画像メモリ2−1〜2−Nより切出
された4個の画像の単位ビツト4−1〜4−4に
対して、いずれか1個のビツトがパターン部であ
る場合に、パターン拡大処理回路3aは拡大され
たパターン信号を次段に出力する。 しかしながらすべてのパターン拡大操作に第2
図のパターン拡大処理回路3aを適用すると第1
表の(1)、(2)に示すように水平・垂直パターンに対
しては1ビツトずつパターン拡大されるが、斜め
45°のパターンに対しては、そのパターン拡大割
合が√2ビツトずつとなり水平・垂直パターンよ
りも急速にパターン拡大が行なわれ不具合が生ず
る。
【表】 (例えば、7ビツトの間隙幅を想定する。第1表
より、水平・垂直パターンの間隙幅に対しては、
7回のパターン拡大処理で間隙幅が消去されるの
に対し、斜め45°の間隙幅は5回のパターン拡大
処理で間隙幅が消去され、この回数は間隙幅を示
すビツト数が多くなればなるほど著しくなる。) 上記の不具合点を解決する手段として、第3図
のように、水平・垂直パターンに対しては1ビツ
トパターン拡大するが、斜め45°のパターンに対
してはパターン拡大を行なわないような方法をと
る。すなわち1対角線上の画像の単位ビツト4−
5,4−8のいずれかがパターン部であり、かつ
他の対角線上の画像の単位ビツト4−6,4−7
のいずれかがパターン部である場合のみ拡大され
たパターン信号を出力する斜めパターン補正拡大
処理回路3bを使用し水平・垂直及び斜めのパタ
ーン拡大の均一化を計る。 第1表中の(3)は、斜めパターン補正拡大処理回
路3bを2回目と6回目に行なつた場合の斜め
45°のパターンの拡大割合を示したもので、例え
ば7回拡大した場合には7.070となり0.070ビツト
だけ余分に拡大されたことになるがこの値は無視
できるほど小さい。 従つて7回の拡大過程の2回目と6回目を斜め
パターン補正拡大処理回路3bで処理するブロツ
クをN/7個すなわち、パターン補正拡大処理回
路3bを2N/7個、パターン拡大処理回路3a
を5N/7個接続すればNビツトの均等のとれた
パターンの拡大を行なうことができる。 第4図は本発明の一実施例に用いる画像消去瞬
間判定の消去判定回路のブロツク図である。 画像メモリ2−1〜2−Nから3ビツト×3ビ
ツトで画像の一部を切出し、消去判定回路5によ
り次段のパターン拡大処理で消去されるべき間隙
幅を検出する。第5図はパターン間隙の消去瞬間
画像例6−1〜6−3であり、3ビツト×3ビツ
トで切出された画像(斜線で塗りつぶされた部分
がパターン部)は、次段のパターン拡大処理で間
隙幅が消去すると判定される。この方法により29
=512通りのすべてのパターンに対し、各々消去
瞬間の判定処理を行なう。 上記1ビツトずつパターン拡大処理されたパタ
ーンを持つN個の画像メモリ2−1〜2−Nの
各々に消去判定回路5を接続し、N個の画像のい
ずれかに間隙の消去瞬間画像6−1〜6−3が存
在すれば、その画像メモリ2−1〜2−Nに接続
された消去判定回路5により消去判定信号7が出
力され次のパターン拡大処理で間隙幅が消去する
ことを検出する。 例えば、Xビツトの幅の間隙幅は、パターンを
X−1ビツト拡大すれば消去瞬間画像6−1〜6
−3となり、第X番目の画像メモリ2−Xに間隙
の消去瞬間画像6−1〜6−3が記憶され、第X
番目の画像メモリ2−Xに接続された消去判定回
路5により消去瞬間を検出する。 Xビツト幅の間隙はXビツトのパターン拡大を
すれば消去されるため、被測定間隙幅が何ビツト
パターン拡大されて消去したかを計数し、パター
ン間隙幅を計測する。 すなわち、画像メモリ2−Xで切出された3ビ
ツト×3ビツトの画像で表わされる間隙がX回目
のパターン拡大処理で消去する場合、画像メモリ
2−Xに記憶されている画像を消去判定回路5に
より検出し、間隙幅がXビツトあると測定する。 (発明の効果) 以上、詳細に説明したとおり、本発明によれ
ば、上記の構成により、パターンの実時間拡大処
理結果を利用するだけでパターン間隙幅を、正確
に、かつ短時間にしかも完全に自動的に測定する
ことができるパターン間隙幅の測定方式が得られ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例に用いるパターン
拡大処理システムの構成を示すブロツク図。第2
図、第3図はそれぞれ第1図のパターン拡大処理
回路の一例の回路図。第4図は、本発明の一実施
例に用いる消去判定回路のブロツク図。第5図は
そのパターン間隙の消去瞬間画像例を示す図であ
る。 1……一次元光センサ、2−1〜2−N……画
像メモリ、3−1,3−2,3−3,3−X……
パターン拡大処理回路、3a……パターン拡大処
理回路、3a……斜めパターン補正拡大処理回
路、4,4−1〜4−8……画像の単位ビツト、
5……消去判定回路、6−1〜6−3……消去瞬
間画像、7……消去判定信号。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 フオトマスク等のパターン間隙幅の測定方式
    において、それぞれパターン拡大処理回路を介し
    て縦続接続されたN個の画像メモリと、該画像メ
    モリにそれぞれ接続された消去判定回路とを備
    え、前記フオトマスク等のパターンの2値化され
    た画像を実時間で第1番目の前記画像メモリに記
    憶させると同時に、前記パターン拡大処理回路に
    よりその記憶された前記画像の一部を切出し各ビ
    ツトの状態の組合せにより1ビツト拡大処理を行
    ないその結果を次段の前記画像メモリへ出力する
    一連の前記画像の記憶・切出し・拡大の処理を第
    N番目の前記画像メモリに記憶されるまで行な
    い、得られたN個の1ビツト毎にパターンの拡大
    された前記画像に対し、前記消去判定回路により
    実時間でその拡大された前記画像の一部を切出し
    各ビツトの状態の組合せでパターン間隙幅の消去
    判定を行ない消去と判定された場合は消去判定信
    号を出力させ、該消去判定信号が第X番目の前記
    画像メモリより出力された場合のパターン間隙幅
    をXビツトと判定することを特徴とするパターン
    間隙幅の測定方式。 2 一連の画像の拡大処理が、水平・垂直パター
    ンは拡大し斜めパターンの拡大は行なわない第1
    の拡大処置と、水平・垂直・斜めパターンを共に
    拡大する第2の拡大処理を設け、前記第1の拡大
    処理を2N/7回、前記第2の拡大処理を5N/7
    回行なうように設定したことからなる特許請求の
    範囲第1項記載のパターン間隙幅の測定方式。
JP4441684A 1984-03-08 1984-03-08 パタ−ン間隙幅の測定方式 Granted JPS60187805A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4441684A JPS60187805A (ja) 1984-03-08 1984-03-08 パタ−ン間隙幅の測定方式

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4441684A JPS60187805A (ja) 1984-03-08 1984-03-08 パタ−ン間隙幅の測定方式

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60187805A JPS60187805A (ja) 1985-09-25
JPH0331363B2 true JPH0331363B2 (ja) 1991-05-02

Family

ID=12690889

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4441684A Granted JPS60187805A (ja) 1984-03-08 1984-03-08 パタ−ン間隙幅の測定方式

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60187805A (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPS60187805A (ja) 1985-09-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0691003B2 (ja) レチクル/マスクの検査方法とその検査装置
US4392120A (en) Pattern inspection system
JPS5951135B2 (ja) 物体検査装置
JPH10104168A (ja) 設計データに基づく図形データ展開装置
JPS61292542A (ja) プリント回路板検査のための粗大傷検出器
EP0926554B1 (en) Pattern defect detection apparatus and method
US5095511A (en) Apparatus for verifying pattern data used in a step-and-repeat process for producing the same patterns regularly arranged on a substance
US4774461A (en) System for inspecting exposure pattern data of semiconductor integrated circuit device
JPH0331363B2 (ja)
GB2102122A (en) Detecting defects in a pattern
US6263477B1 (en) Layout information generating apparatus and method thereof
JPH0116362B2 (ja)
JP3029774B2 (ja) 回路パターン検査装置
JP3116438B2 (ja) プリント配線基板の検査装置および検査方法
JPH09101983A (ja) 二次元回路パターンの発生方法及び発生装置
JPH032648A (ja) 印刷配線板のランド検査装置
JPH01296142A (ja) 2次元画像比較検査装置
JPS63115035A (ja) パタ−ンデ−タ検査装置
JPH0131231B2 (ja)
JPH03229373A (ja) 2次元パターンの学習装置
CN121600279A (zh) 图形筛选与优化方法、测量与处理系统以及可读存储介质
JP2656600B2 (ja) 半導体記憶装置の試験方法
JP2601263Y2 (ja) 半導体試験用救済ブロック検出回路
JPS5855550B2 (ja) パタ−ン検査方式
JPH05133907A (ja) プリント基板検査装置