JPH01166893A - レーザマーキング装置 - Google Patents
レーザマーキング装置Info
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- JPH01166893A JPH01166893A JP62321549A JP32154987A JPH01166893A JP H01166893 A JPH01166893 A JP H01166893A JP 62321549 A JP62321549 A JP 62321549A JP 32154987 A JP32154987 A JP 32154987A JP H01166893 A JPH01166893 A JP H01166893A
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- laser beam
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、レーザ光により種々の対象物に印字を行なう
レーザマーキング装置に関する。
レーザマーキング装置に関する。
レーザ発振器から放射されるレーザ光は、単一波長、同
位相で鋭い指向性をもち、拡散せず、したがって強いエ
ネルギを発する光波であるため、レーザ技術はこれまで
種々の分野に応用されている。このようなレーザ技術の
応用例のひとつにレーザマーキングがある。このマーキ
ング方式は非接触式であり、多種多用な材質の対象物に
対し高品質の印字を正確に何度も繰返して施すことがで
きる。
位相で鋭い指向性をもち、拡散せず、したがって強いエ
ネルギを発する光波であるため、レーザ技術はこれまで
種々の分野に応用されている。このようなレーザ技術の
応用例のひとつにレーザマーキングがある。このマーキ
ング方式は非接触式であり、多種多用な材質の対象物に
対し高品質の印字を正確に何度も繰返して施すことがで
きる。
第５図は前述したレーザマーキング装置の基本的な構成
を示すものであり、このレーザマーキング装置は、レー
ザ発振を行なってレーザ光１Ｂを放射するレーザ発振器
１と、このレーザ発振器１からのレーザ光ＬＢを対象物
５の方向に反射するミラー２と、ミラー２により反射さ
れたレーザ光ＬＢを部分的にカットして所定形状のレー
ザ光ＬＢを形成するマスク３と、マスク３を通過したレ
ーザ光ＬＢを対象物５上に結像する集光レンズ４とによ
り構成されている。このような構成によれば、レーザ発
振器１におけるレーザ発振によりレーザ発振器１から百
万分の１秒単位の短い時間でレーザ光ＬＢが放射され、
このレーザ光ＬＢはミラー２において反射された後、マ
スク３を通過する際にその一部をカットされて所定形状
の印字すべきレーザ光ＬＢが形成され、集光レンズ４に
より集光されて対象物５に到達される。そして、レーザ
光ＬＢはこの対象物５の表面のごく浅い層を蒸発して印
字を行なう。たとえば、ベーパーラベルやカートンから
はインクを除去し、また金属製の缶からは塗料を除去し
てコントラストの大きい下地を露出させることにより印
字を行なう。
を示すものであり、このレーザマーキング装置は、レー
ザ発振を行なってレーザ光１Ｂを放射するレーザ発振器
１と、このレーザ発振器１からのレーザ光ＬＢを対象物
５の方向に反射するミラー２と、ミラー２により反射さ
れたレーザ光ＬＢを部分的にカットして所定形状のレー
ザ光ＬＢを形成するマスク３と、マスク３を通過したレ
ーザ光ＬＢを対象物５上に結像する集光レンズ４とによ
り構成されている。このような構成によれば、レーザ発
振器１におけるレーザ発振によりレーザ発振器１から百
万分の１秒単位の短い時間でレーザ光ＬＢが放射され、
このレーザ光ＬＢはミラー２において反射された後、マ
スク３を通過する際にその一部をカットされて所定形状
の印字すべきレーザ光ＬＢが形成され、集光レンズ４に
より集光されて対象物５に到達される。そして、レーザ
光ＬＢはこの対象物５の表面のごく浅い層を蒸発して印
字を行なう。たとえば、ベーパーラベルやカートンから
はインクを除去し、また金属製の缶からは塗料を除去し
てコントラストの大きい下地を露出させることにより印
字を行なう。
前述したレーザマーキングは、レーザ光ＬＢの放射時間
が非常に短いので、対象物を搬送しているラインの速度
がどんなに速くてもラインを停止づることなく印字を行
なうことができるし、また、非接触式なので、インクが
飛散したり、しみ付いたりするおそれもなく、対象物の
被膜は良好にしかも精密に蒸発する。さらに、印字すべ
き文字やロゴの変更もマスク３を交換するだけで簡単に
行なうことができるし、さらにまたこのマスク３を自動
的に交換することも可能である。
が非常に短いので、対象物を搬送しているラインの速度
がどんなに速くてもラインを停止づることなく印字を行
なうことができるし、また、非接触式なので、インクが
飛散したり、しみ付いたりするおそれもなく、対象物の
被膜は良好にしかも精密に蒸発する。さらに、印字すべ
き文字やロゴの変更もマスク３を交換するだけで簡単に
行なうことができるし、さらにまたこのマスク３を自動
的に交換することも可能である。
ところで、レーザマーキングを効率よく行なうためには
、ひとつのレーザ発振器１から放射されたレーザ光１Ｂ
により複数の対象物５に印字を行なうように構成するこ
とが必要とされる。
、ひとつのレーザ発振器１から放射されたレーザ光１Ｂ
により複数の対象物５に印字を行なうように構成するこ
とが必要とされる。
第６図および第７図はそれぞれひとつのレーザ発振器１
により複数の対象物５に印字を行なうレーザマーキング
装置を示すものであり、このうち第６図のものは、レー
ザ発振器１から放射されたレーザ光ＬＢの反射方向を変
化させるガルバノミラ−６をマスク３を介してレーザ発
振器１に対向するようにして回動可能に配設し、このガ
ルバノミラ−６の４つの向きにおいてガルバノミラ−６
からのレーザ光ＬＢを反射する４つのミラー２を配設し
、各ミラー２が反射したレーザ光ＬＢを対象物５上に集
光させる集光レンズ４を各ミラー２に対向するように配
設して構成されている。
により複数の対象物５に印字を行なうレーザマーキング
装置を示すものであり、このうち第６図のものは、レー
ザ発振器１から放射されたレーザ光ＬＢの反射方向を変
化させるガルバノミラ−６をマスク３を介してレーザ発
振器１に対向するようにして回動可能に配設し、このガ
ルバノミラ−６の４つの向きにおいてガルバノミラ−６
からのレーザ光ＬＢを反射する４つのミラー２を配設し
、各ミラー２が反射したレーザ光ＬＢを対象物５上に集
光させる集光レンズ４を各ミラー２に対向するように配
設して構成されている。
このような第６図のものによれば、ガルバノミラ−６を
回動させてマスク３を通過したレーザ発振器１からのレ
ーザ光１Ｂがそれぞれのミラー２で反射して集光レンズ
４に到達する位置においてレーザ発振器１からレーザ光
ＬＢを放射することにより４つの対象物５に順次印字を
行なうことができる。
回動させてマスク３を通過したレーザ発振器１からのレ
ーザ光１Ｂがそれぞれのミラー２で反射して集光レンズ
４に到達する位置においてレーザ発振器１からレーザ光
ＬＢを放射することにより４つの対象物５に順次印字を
行なうことができる。
しかしながら、この第６図に示されている従来のものは
、ガルバノミラ−６を回動させてガルバノミラ−６にお
いて反射したレーザ光ＬＢを各ミラー２に到達するよう
にしているので、レーザ発振器１から４回にわたってレ
ーザ光ＬＢを放射しなければ４つの対象物５に印字を行
なうことができず、それほど効率的であるとはいえない
。
、ガルバノミラ−６を回動させてガルバノミラ−６にお
いて反射したレーザ光ＬＢを各ミラー２に到達するよう
にしているので、レーザ発振器１から４回にわたってレ
ーザ光ＬＢを放射しなければ４つの対象物５に印字を行
なうことができず、それほど効率的であるとはいえない
。
一方、第７図に示す従来のレーザマーキング装置は、ハ
ーフミラ−７をレーザ発振器１に対向するように配設し
てレーザ発振器１から放射されたレーザ光ＬＢをハーフ
ミラ−７において反射するものとハーフミラ−７を通過
するものとに分離し、ハーフミラ−７を通過したレーザ
光ＬＢはミラー２により反射せしめ、その接台レーザ光
［Ｂをそれぞれマスク３および集光レンズ４を介して対
象物５に到達するようにしている。
ーフミラ−７をレーザ発振器１に対向するように配設し
てレーザ発振器１から放射されたレーザ光ＬＢをハーフ
ミラ−７において反射するものとハーフミラ−７を通過
するものとに分離し、ハーフミラ−７を通過したレーザ
光ＬＢはミラー２により反射せしめ、その接台レーザ光
［Ｂをそれぞれマスク３および集光レンズ４を介して対
象物５に到達するようにしている。
このような第７図のものによれば、レーザ発振器１から
放射されたレーザ光ＬＢがハーフミラ−７においてその
約半分の光量を反射されてマスク３および集光レンズ４
を介して対象物５に到達されるとともに、ハーフミラ−
７において約半分の残りのレーザ光ＬＢの光ｍがこのハ
ーフミラ−７を通過した上でミラー２で反射され、マス
ク３および集光レンズ４を介して対象物５に到達される
。
放射されたレーザ光ＬＢがハーフミラ−７においてその
約半分の光量を反射されてマスク３および集光レンズ４
を介して対象物５に到達されるとともに、ハーフミラ−
７において約半分の残りのレーザ光ＬＢの光ｍがこのハ
ーフミラ−７を通過した上でミラー２で反射され、マス
ク３および集光レンズ４を介して対象物５に到達される
。
したがって、レーザ発振器１から一度し−ザ光ＬＢを放
射するだけで２つの対象物５に同時に印字を行なうこと
ができる。
射するだけで２つの対象物５に同時に印字を行なうこと
ができる。
しかしながら、この第７図に示されている従来のものは
、ハーフミラ−７におけるレーザ光ＬＢの減衰率が約２
％と大きいため、各対象物５上に鮮明な印字を行なうた
めにはレーザ発振器１として能力の大きなものを使用し
なければならないし、また、レーザ光ＬＢの全域の光量
を減少するようにして複数のレーザ光を形成するもので
あるため、ひとつのレーザ発振器１により２つの対象物
５に同時に印字を行なうのが限界である。
、ハーフミラ−７におけるレーザ光ＬＢの減衰率が約２
％と大きいため、各対象物５上に鮮明な印字を行なうた
めにはレーザ発振器１として能力の大きなものを使用し
なければならないし、また、レーザ光ＬＢの全域の光量
を減少するようにして複数のレーザ光を形成するもので
あるため、ひとつのレーザ発振器１により２つの対象物
５に同時に印字を行なうのが限界である。
本発明は、前述した従来のものにおける問題点を克服し
、レーザ発振器からの一度のレーザ光の放射により効率
よく複数の対象物に印字を行なうことができるレーザマ
ーキング装置を提供することを目的とする。
、レーザ発振器からの一度のレーザ光の放射により効率
よく複数の対象物に印字を行なうことができるレーザマ
ーキング装置を提供することを目的とする。
本発明は、レーザ発振器と、このレーザ発坦器から放射
されたレーザ光を分割するビームスプリッティングプリ
ズムと、このビームスプリッティングプリズムにより分
割された複数のレーザ光をそれぞれ複数のレーザ光に分
割する複数枚のミラーと、それぞれのミラーにより分割
されたレーザ光を集光させる複数枚の集光レンズとから
構成されている。このような構成の本発明によれば、ビ
ームスプリッティングプリズムによりレーザ発振器から
放射されたレーザ光を光軸に平行な方向の複数のレーザ
光に分割し、その後、この分割された各レーザ光とこの
レーザ光の一部に対向する複数のミラーにより光軸に平
行な方向のレーザ光にさらに分割した上で対象物に到達
させることができるので、−度に複数の対象物に対し効
率よく印字を行なうことができる。
されたレーザ光を分割するビームスプリッティングプリ
ズムと、このビームスプリッティングプリズムにより分
割された複数のレーザ光をそれぞれ複数のレーザ光に分
割する複数枚のミラーと、それぞれのミラーにより分割
されたレーザ光を集光させる複数枚の集光レンズとから
構成されている。このような構成の本発明によれば、ビ
ームスプリッティングプリズムによりレーザ発振器から
放射されたレーザ光を光軸に平行な方向の複数のレーザ
光に分割し、その後、この分割された各レーザ光とこの
レーザ光の一部に対向する複数のミラーにより光軸に平
行な方向のレーザ光にさらに分割した上で対象物に到達
させることができるので、−度に複数の対象物に対し効
率よく印字を行なうことができる。
以下、本発明を図面に示す実施例により説明する。なお
、前述した従来のものと同一の構成については、図面中
に同一の符号を付して説明する。
、前述した従来のものと同一の構成については、図面中
に同一の符号を付して説明する。
第１図および第２図は本発明に係るレーザマーキング装
置の実施例を示すものであり、多数の対象物５を整列状
態で搬送する搬送ライン８の側方には、公知のレーザ発
振器１が配設されており、このレーザ発振器１は一例と
してＣＯ２レーザとされている。このレーザ発振器１に
は直立状に位置決めされているレーザ光放射管９が突設
されており、このレーザ光放射管９の上端には、レーザ
発振器１から放射されたレーザ光ＬＢを前記搬送ライン
８を横断する方向に反射させる９０’ ミラー１０Ａが
取付けられている。また、前記搬送ライン８の直上には
、前記９０’ミラー１０Ａにより反射したレーザ光１Ｂ
を搬送ライン８の搬送方向に逆行する方向に反射させる
９０°ミラー１０Ｂが配設されている。さらに、前記搬
送ライン８の直上には、前記９０”ミラー１０Ｂにより
反射したレーザ光ＬＢを光軸方向すなわち搬送ライン８
の幅方向において２分割するビームスプリッティングプ
リズム１１が配設されている。前記９０６ミラー１０Ｂ
およびビームスプリッティングプリズム１１は前記搬送
ライン８の幅方向における中央位置の直上に位置してい
る。
置の実施例を示すものであり、多数の対象物５を整列状
態で搬送する搬送ライン８の側方には、公知のレーザ発
振器１が配設されており、このレーザ発振器１は一例と
してＣＯ２レーザとされている。このレーザ発振器１に
は直立状に位置決めされているレーザ光放射管９が突設
されており、このレーザ光放射管９の上端には、レーザ
発振器１から放射されたレーザ光ＬＢを前記搬送ライン
８を横断する方向に反射させる９０’ ミラー１０Ａが
取付けられている。また、前記搬送ライン８の直上には
、前記９０’ミラー１０Ａにより反射したレーザ光１Ｂ
を搬送ライン８の搬送方向に逆行する方向に反射させる
９０°ミラー１０Ｂが配設されている。さらに、前記搬
送ライン８の直上には、前記９０”ミラー１０Ｂにより
反射したレーザ光ＬＢを光軸方向すなわち搬送ライン８
の幅方向において２分割するビームスプリッティングプ
リズム１１が配設されている。前記９０６ミラー１０Ｂ
およびビームスプリッティングプリズム１１は前記搬送
ライン８の幅方向における中央位置の直上に位置してい
る。
前記ビームスプリッティングプリズム１１の両側の前記
搬送ライン８上には、この搬送ライン８の幅方向に等し
い間隔を隔てて一例として４枚ずつのミラー２Ａ、２８
．２Ｃ，２Ｄが配設されている。これらのミラー２Ａ〜
２Ｄは、第２図に詳示するように、前記ビームスプリッ
ティングプリズム１１により２分割されたレーザ光ＬＢ
を鉛直方向に均等幅に４分割し得るようにビームスプリ
ッティングプリズム１１に近いものから遠ざかるにつれ
て次第に下端が下方に位置するように構成され、ミラー
２Ａがまずレーザ光ＬＢの上端の１／４の範囲を反射し
たのち、ミラー２Ｂが残りのレーザ光の上端の１／３の
範囲を反射し、ついでミラー２Ｃが残りのレーザ光ＬＢ
の上側の１／２の範囲を反射し、最後にミラー２Ｄが残
りのレーザ光ＬＢの全部を反射するようになっている。
搬送ライン８上には、この搬送ライン８の幅方向に等し
い間隔を隔てて一例として４枚ずつのミラー２Ａ、２８
．２Ｃ，２Ｄが配設されている。これらのミラー２Ａ〜
２Ｄは、第２図に詳示するように、前記ビームスプリッ
ティングプリズム１１により２分割されたレーザ光ＬＢ
を鉛直方向に均等幅に４分割し得るようにビームスプリ
ッティングプリズム１１に近いものから遠ざかるにつれ
て次第に下端が下方に位置するように構成され、ミラー
２Ａがまずレーザ光ＬＢの上端の１／４の範囲を反射し
たのち、ミラー２Ｂが残りのレーザ光の上端の１／３の
範囲を反射し、ついでミラー２Ｃが残りのレーザ光ＬＢ
の上側の１／２の範囲を反射し、最後にミラー２Ｄが残
りのレーザ光ＬＢの全部を反射するようになっている。
また、これらのミラー２Ａ〜２Ｄはそれぞれ水平線に対
し４５度の俯角をなすように配設されている。前述した
ようにビームスプリッティングプリズム１１および各ミ
ラー２Ａ〜２Ｄを通過してそれぞれレーザ発振器１から
放射されたレー壜ア光ＬＢの１／８の大きさとされたレ
ーザ光ＬＢはミラー２Ａ〜２Ｄにより搬送ライン８の表
面に対し垂直方向に位置決めされており、各レーザ光Ｌ
Ｂが通過する位置にレーザ光を集光させて印字に必要な
エネルギを得るためのシリンドリカルレンズ１２が、レ
ーザ発振器からのエネルギが小さいときなど必要に応じ
て配設されるようになっている。また、この必要に応じ
て配設されるシリンドリカルレンズ１２により搬送ライ
ン８側にはそれぞれレーザ光ＬＢを印字すべき所定形状
に形成するマスク３と、このマスク３を通過したレーザ
光１Ｂを搬送ライン８上の対象物５上に集光させる集光
レンズ４とがそれぞれシリンドリカルレンズ１２の延長
上に配設されている。
し４５度の俯角をなすように配設されている。前述した
ようにビームスプリッティングプリズム１１および各ミ
ラー２Ａ〜２Ｄを通過してそれぞれレーザ発振器１から
放射されたレー壜ア光ＬＢの１／８の大きさとされたレ
ーザ光ＬＢはミラー２Ａ〜２Ｄにより搬送ライン８の表
面に対し垂直方向に位置決めされており、各レーザ光Ｌ
Ｂが通過する位置にレーザ光を集光させて印字に必要な
エネルギを得るためのシリンドリカルレンズ１２が、レ
ーザ発振器からのエネルギが小さいときなど必要に応じ
て配設されるようになっている。また、この必要に応じ
て配設されるシリンドリカルレンズ１２により搬送ライ
ン８側にはそれぞれレーザ光ＬＢを印字すべき所定形状
に形成するマスク３と、このマスク３を通過したレーザ
光１Ｂを搬送ライン８上の対象物５上に集光させる集光
レンズ４とがそれぞれシリンドリカルレンズ１２の延長
上に配設されている。
なお、前記９０°ミラ一１０日１ビームスプリッティン
グプリズム１１、各ミラー２Ａ〜２Ｄ。
グプリズム１１、各ミラー２Ａ〜２Ｄ。
各シリンドリカルレンズ１２、各マスク３および各集光
レンズ４は図示しないケーシング内にそれぞれ対象物５
等の間隔などに応じて位置を調節可能に支持されている
。
レンズ４は図示しないケーシング内にそれぞれ対象物５
等の間隔などに応じて位置を調節可能に支持されている
。
前記搬送ライン８の側方には、搬送ライン８上に対象物
５が搬送されてきたことを検出する同期センサ１３が配
設されており、この同期センサ１３が対象物５を検出し
た信号を出力すると、レーザ発振器１からレーザ光Ｌ８
が出力されるようになっている。
５が搬送されてきたことを検出する同期センサ１３が配
設されており、この同期センサ１３が対象物５を検出し
た信号を出力すると、レーザ発振器１からレーザ光Ｌ８
が出力されるようになっている。
つぎに、前述した構成の本実施例の作用について説明す
る。
る。
搬送ライン８上には、その幅方向に等しい間隔をもって
一列８個ずつの対象物５が順次整列状態で搬送されるよ
うになっており、この−列の対象物５を同期センサ１３
が検出すると、レーザ発振器１よりレーザ光ＬＢが放射
され、このレーザ光ＬＢが９０°ミラー１０Ａ、１０Ｂ
を通過して搬送ライン８の長手方向に向けられ、ビーム
スプリッティングプリズム１１により横方向に均等に２
分割されている。そして、それぞれ２分割されたレーザ
光ＬＢは、ミラー２Ａ〜２Ｄにより縦方向に均等に４分
割され、合計８本のレーザ光ＬＢがそれぞれシリンドリ
カルレンズ１２、マスク３および集光レンズ４を通過し
て搬送ライン８上の８個の対象物５に到達され、この対
象物５がビールびんのラベル１４の場合には、第３図に
示すように、紙１５上に樹脂溶液からなる表面平滑コー
ティング１６を介して蒸着されたアルミニウム層１７上
にインク層１８が印刷により積層されてなるラベル１４
のインク層１８、アルミニウム層１７および表面平滑コ
ーティング１６をレーザ光ＬＢの熱により各マスク３に
より形成されたロット番号の形状に蒸発せしめ、部分的
に紙１５を露出せしめる。したがって、この紙１５とイ
ンク層１８とのコントラストにより良好にロフト番号を
目視することができる。
一列８個ずつの対象物５が順次整列状態で搬送されるよ
うになっており、この−列の対象物５を同期センサ１３
が検出すると、レーザ発振器１よりレーザ光ＬＢが放射
され、このレーザ光ＬＢが９０°ミラー１０Ａ、１０Ｂ
を通過して搬送ライン８の長手方向に向けられ、ビーム
スプリッティングプリズム１１により横方向に均等に２
分割されている。そして、それぞれ２分割されたレーザ
光ＬＢは、ミラー２Ａ〜２Ｄにより縦方向に均等に４分
割され、合計８本のレーザ光ＬＢがそれぞれシリンドリ
カルレンズ１２、マスク３および集光レンズ４を通過し
て搬送ライン８上の８個の対象物５に到達され、この対
象物５がビールびんのラベル１４の場合には、第３図に
示すように、紙１５上に樹脂溶液からなる表面平滑コー
ティング１６を介して蒸着されたアルミニウム層１７上
にインク層１８が印刷により積層されてなるラベル１４
のインク層１８、アルミニウム層１７および表面平滑コ
ーティング１６をレーザ光ＬＢの熱により各マスク３に
より形成されたロット番号の形状に蒸発せしめ、部分的
に紙１５を露出せしめる。したがって、この紙１５とイ
ンク層１８とのコントラストにより良好にロフト番号を
目視することができる。
第４図は前述したビームスプリッティングプリズム１１
および各ミラー２Ａ〜２Ｄによりレーザ光１Ｂが具体的
に分割される状態を示したものであり、レーザ発振器１
から放射された状態におて縦２５ＩＩＪｍ×横２０ｍｒ
ｎの縦長の長方形とされていたレーザ光ＬＢが、ビーム
スプリッティングプリズム１１により縦２５＃Ｘ横１０
＃ＩＩＩ＋のレーザ光ＬＢに分割され、さらにこの縦２
５＃Ｘ横１０ｍのレーザ光ＬＢが順次ミラー２Ａ〜２Ｄ
により４枚のレー ザ光ＬＢに分割される。そして、こ
の分割されたレーザ光ＬＢは集光レンズ４を通過するこ
とにより一辺の長さがそれぞれ１゛／２ずつに縮小され
て対象物５に到達するが、実際はマスク３により縦横と
も多少カットされて第４図に黒べたで示す部分が対象物
５に到達することになる。
および各ミラー２Ａ〜２Ｄによりレーザ光１Ｂが具体的
に分割される状態を示したものであり、レーザ発振器１
から放射された状態におて縦２５ＩＩＪｍ×横２０ｍｒ
ｎの縦長の長方形とされていたレーザ光ＬＢが、ビーム
スプリッティングプリズム１１により縦２５＃Ｘ横１０
＃ＩＩＩ＋のレーザ光ＬＢに分割され、さらにこの縦２
５＃Ｘ横１０ｍのレーザ光ＬＢが順次ミラー２Ａ〜２Ｄ
により４枚のレー ザ光ＬＢに分割される。そして、こ
の分割されたレーザ光ＬＢは集光レンズ４を通過するこ
とにより一辺の長さがそれぞれ１゛／２ずつに縮小され
て対象物５に到達するが、実際はマスク３により縦横と
も多少カットされて第４図に黒べたで示す部分が対象物
５に到達することになる。
このように本実施例によれば、レーザ発振器１から一回
し−ザ光ＬＢを放射することにより一度に８個の対象物
５に対し同時に印字を行なうことができるので、効率よ
く印字を行なうことができるしまた、レーザ光ＬＢをハ
ーフミラ−７を使用してレーザ光ＬＢの全域の光量を減
少するようにして複数のレーザ光１Ｂを形成するのでは
なく、レーザ光ＬＢを８つに分割して部分的な８つのレ
ーザ光ＬＢを形成するので、８個の対象物５に同時に印
字を行なっても印字エネルギが不足するおそれがない。
し−ザ光ＬＢを放射することにより一度に８個の対象物
５に対し同時に印字を行なうことができるので、効率よ
く印字を行なうことができるしまた、レーザ光ＬＢをハ
ーフミラ−７を使用してレーザ光ＬＢの全域の光量を減
少するようにして複数のレーザ光１Ｂを形成するのでは
なく、レーザ光ＬＢを８つに分割して部分的な８つのレ
ーザ光ＬＢを形成するので、８個の対象物５に同時に印
字を行なっても印字エネルギが不足するおそれがない。
ざらに、各マスク３における遮蔽部の形状を違えること
により異なる文字、番号などを同時に印字することがで
きる。
により異なる文字、番号などを同時に印字することがで
きる。
以上説明したように本発明によれば、レーザ発振器から
の一度のレーザ光の放射により効率よく複数の対象物に
鮮明な印字を行なうことができるという優れた効果を奏
する。
の一度のレーザ光の放射により効率よく複数の対象物に
鮮明な印字を行なうことができるという優れた効果を奏
する。
第１図は本発明に係るレーザマーキング装置の実施例を
示す斜視図、第２図は第１図の概略正面図、第３図はラ
ベルにレーザ光により印字した状態を示す断面図、第４
図は第１図および第２図の実施例におけるレーザ光の分
解状態の具体例を示す説明図、第５図は基本的なレーザ
マーキング装置を示す説明図、第６図および第７図はそ
れぞれ従来のレーザマーキング装置を示す説明図である
。 １・・・レーザ発振器、２．２Ａ、２Ｂ、２Ｃ，２Ｄ・
・・ミラー、３・・・マスク、４・・・集光レンズ、５
・・・対象物、１０．１０Ｂ・・・９０’ミラー、１１
・・・ビームスプリッティングプリズム、１３・・・同
期センサ、１４・・・ラベル、ＬＢ・・・レーザ光。 出願人代理人 中 尾 俊 輔第５図 第６Ｅ 昂７１１
示す斜視図、第２図は第１図の概略正面図、第３図はラ
ベルにレーザ光により印字した状態を示す断面図、第４
図は第１図および第２図の実施例におけるレーザ光の分
解状態の具体例を示す説明図、第５図は基本的なレーザ
マーキング装置を示す説明図、第６図および第７図はそ
れぞれ従来のレーザマーキング装置を示す説明図である
。 １・・・レーザ発振器、２．２Ａ、２Ｂ、２Ｃ，２Ｄ・
・・ミラー、３・・・マスク、４・・・集光レンズ、５
・・・対象物、１０．１０Ｂ・・・９０’ミラー、１１
・・・ビームスプリッティングプリズム、１３・・・同
期センサ、１４・・・ラベル、ＬＢ・・・レーザ光。 出願人代理人 中 尾 俊 輔第５図 第６Ｅ 昂７１１
Claims (1)
- レーザ発振器と、このレーザ発振器から放射されたレー
ザ光を分割するビームスプリッティングプリズムと、こ
のビームスプリッティングプリズムにより分割された複
数のレーザ光をそれぞれ複数のレーザ光に分割する複数
枚のミラーと、それぞれのミラーにより分割されたレー
ザ光を集光させる複数枚の集光レンズとからなるレーザ
マーキング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62321549A JPH01166893A (ja) | 1987-12-21 | 1987-12-21 | レーザマーキング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62321549A JPH01166893A (ja) | 1987-12-21 | 1987-12-21 | レーザマーキング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01166893A true JPH01166893A (ja) | 1989-06-30 |
Family
ID=18133805
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62321549A Pending JPH01166893A (ja) | 1987-12-21 | 1987-12-21 | レーザマーキング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01166893A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0347685A (ja) * | 1989-07-14 | 1991-02-28 | Mitsui Toatsu Chem Inc | レーザマーキング方法及び装置 |
| US10583668B2 (en) | 2018-08-07 | 2020-03-10 | Markem-Imaje Corporation | Symbol grouping and striping for wide field matrix laser marking |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5470061A (en) * | 1977-11-15 | 1979-06-05 | Nec Corp | Laser sealing apparatus |
| JPS5645755U (ja) * | 1979-09-17 | 1981-04-24 | ||
| JPS6123591A (ja) * | 1984-07-12 | 1986-02-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レ−ザ加工機 |
| JPS6192793A (ja) * | 1984-10-12 | 1986-05-10 | Toshiba Corp | レ−ザ加工装置 |
-
1987
- 1987-12-21 JP JP62321549A patent/JPH01166893A/ja active Pending
Patent Citations (4)
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| JPS5470061A (en) * | 1977-11-15 | 1979-06-05 | Nec Corp | Laser sealing apparatus |
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| JPH0347685A (ja) * | 1989-07-14 | 1991-02-28 | Mitsui Toatsu Chem Inc | レーザマーキング方法及び装置 |
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