JPS6251456A - レ−ザマ−キング装置 - Google Patents
レ−ザマ−キング装置Info
- Publication number
- JPS6251456A JPS6251456A JP60191564A JP19156485A JPS6251456A JP S6251456 A JPS6251456 A JP S6251456A JP 60191564 A JP60191564 A JP 60191564A JP 19156485 A JP19156485 A JP 19156485A JP S6251456 A JPS6251456 A JP S6251456A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- mask
- marking device
- workpiece
- reflection
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
- G06K—GRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
- G06K1/00—Methods or arrangements for marking the record carrier in digital fashion
- G06K1/12—Methods or arrangements for marking the record carrier in digital fashion otherwise than by punching
- G06K1/126—Methods or arrangements for marking the record carrier in digital fashion otherwise than by punching by photographic or thermographic registration
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、レーザマーキング装置の改良に関する。
従来、レーザマーキング装置は第４図に示すように構成
され、レーザ発振器１、全反射ミラー３、マスク１１、
レンズ７、被加工物８が順次所定間隔で配設されてなっ
ている。動作時には、レーザ発振器１より出射されたＹ
ＡＧレーザ光やＣＯ２レーザ光のようなレーザ光２は、
全反射ミラー３にて反射伝送されてレーザ光４となり、
文字などがくりぬかれている薄いマスク１１を通過する
。そして、くりぬかれた文字などの像は、レンズ７にて
被加工物８上に結像し、マスク１１にくりぬかれた文字
などがマーキングされる。
され、レーザ発振器１、全反射ミラー３、マスク１１、
レンズ７、被加工物８が順次所定間隔で配設されてなっ
ている。動作時には、レーザ発振器１より出射されたＹ
ＡＧレーザ光やＣＯ２レーザ光のようなレーザ光２は、
全反射ミラー３にて反射伝送されてレーザ光４となり、
文字などがくりぬかれている薄いマスク１１を通過する
。そして、くりぬかれた文字などの像は、レンズ７にて
被加工物８上に結像し、マスク１１にくりぬかれた文字
などがマーキングされる。
ところで、上記のような従来のレーザマーキング装置で
は、マスク１１は例えば第５図に示すように、マスク基
板１３と、このマスク基板１３にくりぬかれた文字例え
ばｋ１２とからなっており、文字Ａ１２の像が被加工物
８上へマーキングされる。ところが、マスク基板１３に
文字１１２をくりぬく関係上、この文字Ａ１２に°は欠
落部１４．１５が生じ、この欠落部１４゜１５でレーザ
光４が透過せず反射されてしまうため、正確な文字とは
ならない。
は、マスク１１は例えば第５図に示すように、マスク基
板１３と、このマスク基板１３にくりぬかれた文字例え
ばｋ１２とからなっており、文字Ａ１２の像が被加工物
８上へマーキングされる。ところが、マスク基板１３に
文字１１２をくりぬく関係上、この文字Ａ１２に°は欠
落部１４．１５が生じ、この欠落部１４゜１５でレーザ
光４が透過せず反射されてしまうため、正確な文字とは
ならない。
又、マスク１１の別の例としては、第６図に示すように
、文字ＡＪ５はレーザ光４を透過するようにガラスから
なり、文字１１６以外のマスク基板１２はレーザ光４を
反射するよ５にガラスに蒸着膜を施したものがある。し
かし、この例では、レーザ光２としてＹＡＧレーザ光は
使用出来るが、ＣＯ□レーザ光は使用出来ないという欠
点がある。
、文字ＡＪ５はレーザ光４を透過するようにガラスから
なり、文字１１６以外のマスク基板１２はレーザ光４を
反射するよ５にガラスに蒸着膜を施したものがある。し
かし、この例では、レーザ光２としてＹＡＧレーザ光は
使用出来るが、ＣＯ□レーザ光は使用出来ないという欠
点がある。
この発明の目的は、被加工物上にマーキングされる文字
等の記号部の像が極めて正確かつ鮮明にして、信頼性を
著しく向上したレーザマーキング装置を提供することで
ある。
等の記号部の像が極めて正確かつ鮮明にして、信頼性を
著しく向上したレーザマーキング装置を提供することで
ある。
〔発明の概要〕
この発明は、レーザ発振器から出射されたレーザ光を全
反射ミラーにて反射伝送させ、更にマスクを介して被加
工物にマーキングするレーザマーキング装置において、
上記マスクとして、反射型マスクを用い、この反射型マ
スクの面上で反射されたレーザ光を上記被加工物にマー
キングすることを特徴としており、上記反射型マスクは
、レーザ光を反射する文字等の記号部と、レーザ光を乱
反射又は透過する上記文字部以外のマスク基板とからな
りているレーザマーキング装置である。
反射ミラーにて反射伝送させ、更にマスクを介して被加
工物にマーキングするレーザマーキング装置において、
上記マスクとして、反射型マスクを用い、この反射型マ
スクの面上で反射されたレーザ光を上記被加工物にマー
キングすることを特徴としており、上記反射型マスクは
、レーザ光を反射する文字等の記号部と、レーザ光を乱
反射又は透過する上記文字部以外のマスク基板とからな
りているレーザマーキング装置である。
この発明のレーザマーキング装置は第１図に示すように
構成され、従来例（第４図）と同一箇所には同一符号を
付すことにする。
構成され、従来例（第４図）と同一箇所には同一符号を
付すことにする。
即ち、レーザ発振器１から出射されるＹＡＧレーザ光や
Ｃ０２レーザ光などのレーザ光２の光軸上に、全反射ミ
ラー３が上記光軸に対し４５度傾斜して配設されている
。更に上記レーザ光２の光軸と直角なレーザ光４の光軸
上に、上記全反射ミラー３と所定間隔を置いて、反射型
マスク５が上記レーザ光４の光軸に対し約４５度傾斜し
て配設されている。この反射型マスク５により反射され
たレーザ光６の光軸上には、反射型マスク５と所定間隔
を置いて、レンズ７、被加工物８が順次配設されている
。
Ｃ０２レーザ光などのレーザ光２の光軸上に、全反射ミ
ラー３が上記光軸に対し４５度傾斜して配設されている
。更に上記レーザ光２の光軸と直角なレーザ光４の光軸
上に、上記全反射ミラー３と所定間隔を置いて、反射型
マスク５が上記レーザ光４の光軸に対し約４５度傾斜し
て配設されている。この反射型マスク５により反射され
たレーザ光６の光軸上には、反射型マスク５と所定間隔
を置いて、レンズ７、被加工物８が順次配設されている
。
但し、この場合、被加工物８は上記反射型マスク５に対
し、略平行に配設されている。最適には、第２図に示す
各部の寸法関係において、下記式 ］ ％式％ を満足するように配設されるのがよい。
し、略平行に配設されている。最適には、第２図に示す
各部の寸法関係において、下記式 ］ ％式％ を満足するように配設されるのがよい。
次に、この発明の特徴である反射型マスク５は第３図に
示すように構成され、レーザ光４を反射する文字等の記
号部９と、レーザ光を乱反射又は透過する上記記号部９
以外のマスク基板１０とからなっている。−例を挙げる
と、マスク基板１０はＣｕからなり面は乱反射するよう
に粗面に形成され、記号部９はＣｕからなり面はレーザ
光を反射するよ５に鏡面に形成されている。
示すように構成され、レーザ光４を反射する文字等の記
号部９と、レーザ光を乱反射又は透過する上記記号部９
以外のマスク基板１０とからなっている。−例を挙げる
と、マスク基板１０はＣｕからなり面は乱反射するよう
に粗面に形成され、記号部９はＣｕからなり面はレーザ
光を反射するよ５に鏡面に形成されている。
この場合、使用出来るレーザ光の種類は、ＹＡＧ及びＣ
Ｏ２の両方が可能である。尚、反射型マスク５の記号部
９とマスク基板１０の材質や形状等の組合わせ、更に使
用出来るレーザ光の種類との関係等につき、その他の具
体例を挙げると、第１表のようになる。第１表中、■は
上記例で □ある。
Ｏ２の両方が可能である。尚、反射型マスク５の記号部
９とマスク基板１０の材質や形状等の組合わせ、更に使
用出来るレーザ光の種類との関係等につき、その他の具
体例を挙げると、第１表のようになる。第１表中、■は
上記例で □ある。
第 １ 表
さて動作時には、レーザ発振器１から出射されたレーザ
光２は、全反射ミラー３にて反射伝 ′送されてレ
ーザ光４となり、このレーザ光４は反射型マスク５に照
射する。この反射型マスク５により反射したレーザ光６
は、レン、ｅ７にて集光され、被加工物８上に結像し、
反射型マスク５上に描かれた文字等の記号部の像がマー
キングされる。
光２は、全反射ミラー３にて反射伝 ′送されてレ
ーザ光４となり、このレーザ光４は反射型マスク５に照
射する。この反射型マスク５により反射したレーザ光６
は、レン、ｅ７にて集光され、被加工物８上に結像し、
反射型マスク５上に描かれた文字等の記号部の像がマー
キングされる。
この発明によれば、マスクとして反射型マスク５を使用
しているので、文字などの記号を極めて正確に被加工物
８上にマーキングすることが出来る。又、上記従来例（
第６図）では、レーザ光としてＣＯ２レーザ光は使用出
来なかったが、この発明ではＹＡＧレーザ光とＣＯ２レ
ーザ光の両方を使用することが出来る。
しているので、文字などの記号を極めて正確に被加工物
８上にマーキングすることが出来る。又、上記従来例（
第６図）では、レーザ光としてＣＯ２レーザ光は使用出
来なかったが、この発明ではＹＡＧレーザ光とＣＯ２レ
ーザ光の両方を使用することが出来る。
第１図はこの発明の一実施例に係るレーザマーキング装
置を示す概略構成図、第２図はこの発明のレーザマーキ
ング装置における要部の寸゛法関係を示す構成図、第３
図はこの発明で使用する反射型マスクを示す斜視図、第
４図は従来のレーザマーキング装置を示す概略構成図、
第５図及び第６図は従来のレーザマーキング装置におい
て使用するマスクの２例を示す平面図である。 １・・・レーザ発振器、２・・・レーザ光、３・・・全
反射ミラー、４・・・レーザ光、６・・・反射型マスク
、６・・・レーザ光、７・・・レンズ、８・・・被加工
物、９・・・記号部、１０・・・マスク基板。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１弱 第２図 第３図 第４図 ｂ 第５図 第６図
置を示す概略構成図、第２図はこの発明のレーザマーキ
ング装置における要部の寸゛法関係を示す構成図、第３
図はこの発明で使用する反射型マスクを示す斜視図、第
４図は従来のレーザマーキング装置を示す概略構成図、
第５図及び第６図は従来のレーザマーキング装置におい
て使用するマスクの２例を示す平面図である。 １・・・レーザ発振器、２・・・レーザ光、３・・・全
反射ミラー、４・・・レーザ光、６・・・反射型マスク
、６・・・レーザ光、７・・・レンズ、８・・・被加工
物、９・・・記号部、１０・・・マスク基板。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１弱 第２図 第３図 第４図 ｂ 第５図 第６図
Claims (3)
- （１）レーザ発振器から出射されたレーザ光を全反射ミ
ラーにて反射伝送させ、更にマスクを介して被加工物に
マーキングするレーザマーキング装置において、 上記マスクとして反射型マスクを用い、この反射型マス
クの面上で反射されたレーザ光を上記被加工物にマーキ
ングすることを特徴とするレーザマーキング装置。 - （２）上記反射型マスクは、レーザ光を反射する文字部
と、レーザ光を乱反射又は透過する上記文字部以外のマ
スク基板とからなる特許請求の範囲第１項記載のレーザ
マーキング装置。 - （３）上記反射型マスクと上記被加工物は、略平行に配
設されている特許請求の範囲第１項又は第２項記載のレ
ーザマーキング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60191564A JPS6251456A (ja) | 1985-08-30 | 1985-08-30 | レ−ザマ−キング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60191564A JPS6251456A (ja) | 1985-08-30 | 1985-08-30 | レ−ザマ−キング装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6251456A true JPS6251456A (ja) | 1987-03-06 |
Family
ID=16276767
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60191564A Pending JPS6251456A (ja) | 1985-08-30 | 1985-08-30 | レ−ザマ−キング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6251456A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5103250A (en) * | 1989-06-30 | 1992-04-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Data imprinting apparatus in a camera |
-
1985
- 1985-08-30 JP JP60191564A patent/JPS6251456A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5103250A (en) * | 1989-06-30 | 1992-04-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Data imprinting apparatus in a camera |
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