JPH01167050U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

図面はこの考案の一実施例を示すもので、第１
図は斜視図、第２図は半導体ウエハーを支持して
いる状態での要部側断面図、第３図は平面図、第
４図はプラズマ装置での使用状態の断面図である
。 Ｗ……ウエハー、１……基台、２……天板、３
……入口支持枠、４……入口支持溝、５……奥部
支持枠、６……奥部支持溝、７……補助天板、８
……補強支持枠、９……横補強支持枠、１０……
プラズマ装置、１１……エレベータ、１２……反
応室。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 １ 縦型のプラズマ装置におけるエレベータでの
   昇降ベース上に載置される盤状の基台と、この基
   台に対しほぼ平行で、所定枚数の半導体ウエハー
   が収納可能な収納区域を基台とともに形成する天
   板と、基台面にほぼ平行にしてウエハーが挿入さ
   れる収納区域入口での左右に位置し、基台、天板
   相互間で立設される棒状で、ウエハーの周縁部を
   嵌め入れ、支持する入口支持溝が形成された入口
   支持枠と、収納区域での奥部に位置し、同じく基
   台、天板相互間で立設される棒状で、ウエハーの
   周縁部を嵌め入れ、支持する奥部支持溝が形成さ
   れた奥部支持枠と、天板と若干の間隔を隔てた天
   板下方位置の入口支持枠、奥部支持枠夫々に固定
   した補助天板と、基台、天板相互間に立設した適
   数の補強支持枠とを備えて成ることを特徴とする
   ウエハー支持具。 ２ 補助天板は、後方が下方傾斜されて支持され
   るウエハーとほぼ平行となるように固定されてい
   る請求項第１項記載のウエハー支持具。 ３ 奥部支持溝での基台がわ側縁は入口支持溝で
   の基台がわ側縁に比し、基台がわにずれて位置し
   ている請求項第１項または第２項記載のウエハー
   支持具。 ４ 奥部支持溝は、入口支持溝に比して幅を広く
   し、奥部支持溝での天板がわ側縁が入口支持溝に
   おける天板がわ側縁とほぼ同一面上での高さ位置
   となしてある請求項第１項乃至第３項のいずれか
   記載のウエハー支持具。