JPH0187542U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

図面はこの考案の一実施例を示すもので、第１
図は斜視図、第２図は半導体ウエハーを支持して
いる状態での要部側断面図、第３図は平面図、第
４図はプラズマ装置での使用状態の断面図である
。 Ｗ……ウエハー、１……基台、２……天板、３
……入口支持枠、４……入口支持溝、５……奥部
支持枠、６……奥部支持溝、１０……プラズマ装
置、１１……エレベータ、１２……反応室。

補正 昭６３．３．１ 図面の簡単な説明を次のように補正する。 明細書中第１３頁第７行目に「断面図」である
とある後に、「、第５図は他の実施例における要
部側断面図」なる語句を挿入する。 明細書中第１３頁第１０行目に「奥部支持溝、
」とある後に、「７……補助天板、」なる語句を
挿入する。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 １ 縦型のプラズマ装置におけるエレベータでの
   昇降ベース上に載置される盤状の基台と、この基
   台に対し平行で、所定枚数の半導体ウエハーが収
   納可能な収納区域を基台とともに形成する天板と
   、基台面に平行にしてウエハーが挿入される収納
   区域入口での左右に位置し、基台、天板相互間で
   立設される棒状の入口支持枠と、収納区域での奥
   部に位置し、同じく基台、天板相互間で立設され
   る棒状の奥部支持枠とから成り、入口支持枠、奥
   部支持枠夫々の内がわに、ウエハーの周縁部を嵌
   め入れ、支持する入口支持溝、奥部支持溝を夫々
   形成し、奥部支持溝での基台がわ側縁は入口支持
   溝での基台がわ側縁に比し、基台がわにずれて位
   置していることを特徴とするウエハー支持具。 ２ 奥部支持溝は、入口支持溝に比して幅を広く
   し、奥部支持溝での天板がわ側縁が入口支持溝に
   おける天板がわ側縁とほぼ同一面上での高さ位置
   となしてある実用新案登録請求の範囲第１項記載
   のウエハー支持具。