JPH01168083A - ガスレーザ装置 - Google Patents

ガスレーザ装置

Info

Publication number
JPH01168083A
JPH01168083A JP32547887A JP32547887A JPH01168083A JP H01168083 A JPH01168083 A JP H01168083A JP 32547887 A JP32547887 A JP 32547887A JP 32547887 A JP32547887 A JP 32547887A JP H01168083 A JPH01168083 A JP H01168083A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
wind tunnel
valve
resonator
resonator section
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP32547887A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuhiro Ogura
靖弘 小倉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP32547887A priority Critical patent/JPH01168083A/ja
Publication of JPH01168083A publication Critical patent/JPH01168083A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/034Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors
    • H01S3/0346Protection of windows or mirrors against deleterious effects

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、穴明け、溶接、焼入れおよび切断加工等に使
用されるガスを利用した大出力ガスレーザ装置の改良に
関するものである。
、(従来の技術) レーザ加工は、1台の加工装置で各種の一般加工や熱処
理を高速且つ高精度に非接触で行うことができ、エネル
ギーの制御性が高い、加工点周辺への影響が小さい、金
属、非金属、複合材料の加工ができる、工具の磨耗や破
損が起こらない等、多くの優れた特徴を持っている。こ
のことから最近レーザ加工は、ファクトリ−オートメー
ションの要素技術として注目をおびている。
この様なレーザ加工を行うためのレーザ加工技術及びレ
ーザ加工装置の研究開発は、従来各種の工業分野で進め
られており、比較的出力の小さい加工装置は早くから実
用化され、例えば、精密機械部品や電子部品等の微細な
部品の加工に多数使用されている。
これに対し、近年ガスレーザ発掘器において、従来不可
能であった放電部分の単位長さにおけるレーザ出力の大
幅な増大が果されたことにより、出力1間以上のいわゆ
る大出力ガスレーザ発振器が開発・実用化されるに至っ
ている。
横流型ガスレーザ装置は大出力のレーザ光を得る装置と
して知られている。第5図はこのような従来の横流型ガ
スレーザ装置の縦断面図、第4図はその横断面図である
第4図および第5図に示すように、従来の検流型ガスレ
ーザ装置は、破線で示す複数枚の対向配置された共振ミ
ラー1,1を収容した共振器部2、この共振器部2のミ
ラー1間に第5図のレーザ媒質13を強制循環させるレ
ーザ風洞3および共振器部2のレーザ媒質13中に大電
力放電を行わせる電極4からその主体部分が構成されて
いる。しかしてレーザ風洞3内には、ざらに第5図に示
すようにレーザ媒質13を矢印A方向に高速強制循環さ
せる大形の送風機14.ガス流路を形成するガイドベー
ン15.レーザ媒質冷却用の熱交換器16等が設けられ
ている。
(発明が解決しようとする問題点) このようなレーザ装置において、第4図に示すような放
電ピン4aと棒電極4bとによって形成されるグロー放
電Gを安定に維持するには、ガス圧力を大気圧に比べて
低圧に保ち、且つレーザ媒質の純度を高く維持する必要
がある。なお、図においてグロー放電Gを生じたレーザ
媒質から発せられたレーザ光は、ミラー1,1によって
反射されて共振光路11を形成し、矢印Bの方向に出射
される。
このような第4図に示すレーザ装置において、ミラー1
などを汚れなどのため交換する時には、共振器部2とレ
ーザ風洞3が真空容器を形成しているため、大気開放弁
7を開いて大気圧まで真空パージする必要がある。そこ
でまず隔壁5によって共振器部2とレーザ風洞3をガス
区分し、開放弁7を開いて共振器部2をパージすること
によりミラー1を共振器部2より取り外す。ざらにミラ
ー1を交換した後、共振器部2を排気ポンプ12により
真空引きしないと、大気力により隔壁5が押えられてい
るため、隔壁5を動かすことができない。
本発明の目的は、共振器部の排気をポンプを用いずに行
うことが可能なガスレーザ装置を提供することにある。
[発明の構成] (問題点を解決するための手段および作用)本発明のガ
スレーザ装置は、共振器部とレーザ風洞との間に弁を有
する連通管を設けたことを特徴とするものである。
本発明においては、ミラー交換時に共振器部を大気圧に
してミラーを交換し、ミラー交換後に連通管の弁を開放
すると共振器部の大気がレーザ風洞へ流れて隔壁の圧力
差が無くなり、隔壁を開けることが可能となる。
(実施例) 以下本発明を第1図、第2図および第3図に示す実施例
を参照して説明する。第1図において、本発明のガスレ
ーザ装置も第4図および第5図に示すように共振ミラー
1,1を収容した共振器部2、この共振器部2のミラー
1,1間にレーザ媒質13を強制循環させるレーザ風洞
3および共振器2のレーザ媒質13中に大電力放電を行
わせる放電ピン4aと棒電極4bとからなる電極4から
構成されている。
またレーザ風洞3と共振器部2との連通路20゜20に
は、開閉できる隔壁5,5がそれぞれ設けられ、そのレ
ーザ風洞3には、レーザガス供給口6と排気ポンプ8と
を設けている。ざらに本発明においては、共振器部2,
2を相互に連通する連通管21に大気開放弁7を設け、
その連通管21とレーザ風洞3との間を弁9を有する連
通管10で連通したことを特徴としている。
次にこのように構成された本発明のガスレーザ装置の作
用を第1図について説明する。第1図において、共振器
部2,2とレーザ風洞3とを連通する連通管10.10
の途中の弁9は、通常閉じられており、レーザ装置の機
能を損なうことはない。
このレーザ装置において、ミラー1を交換するときは、
弁9を閉じたままで大気開放弁7を開放して共振器部2
,2を大気圧にする。この時真空に保持されたレーザ風
洞3を閉じる隔壁5に大気圧が加わり、隔壁5が連通路
20に密着してレーザ風洞3と共振器部2とを遮断する
この状態で大気開放弁7を閉じ、弁9を開にすれば、共
振器部2とレーザ風洞3とが連通管10゜21を通して
相互に連通ずることから、その両者の圧力差がなくなる
まで共振器部2からレーザ風洞3へ弁9を通して大気が
流れる。かくして共振器部2とレーザ風洞3との間に圧
力差がなくなれば、隔壁5を固定しようとする力もなく
なり、隔壁5を開けることができ、ミラー1の交換が可
能となる。
以上の作業工程の途中に、共振器部2からレーザ風洞3
へ大気が流入することになるが、これは共振器部2の体
積がレーザ風洞3に比べて非常に小ざいので、問題にな
ることはない。
次に第2図に示す他の実施例においては、レーザガスを
レーザ風洞3に直接に供給するのではなく、共振器部2
を介して行なうようにしたものである。このような構成
とすれば共振器部2を大気圧まで真空パージする際に使
用する特別な配管を設けなくとも、レーザガスにより共
振器部2を満たして吹流すことができるので、レーザ発
振に有害なガス成分を含んだ雰囲気中にレーザ装置が設
置されていても、有害なガス成分の混入を防ぐことがで
きる。
第3図に示す他の実施例においては、第2図のレーザ装
置における隔壁の材料をレーザ光を反射。
透過しない材料としたもので、レーザ風洞内の送風機、
放電電極等のメンテナンス後の処理を容易にしたもので
ある。
送風機のメンテナンス等によりレーザ風洞内3に大気を
導入すると、レーザ風洞3の内壁面が汚染されるため、
真空排気後も長時間アウトガスを発生することにより、
レーザガスが汚染して安定なグロー放電が維持できない
ため、アウトガスを排除するためのベーキング放電を行
なう必要がある。ベーキングを行なう際にミラー1が取
り付けであると、レーザ発振によりレーザ光が出てしま
うという欠点の他に、アウトガスによりミラー1が汚れ
るという問題があるためミラー1を取り外してベーキン
グしなければならなかった。
第3図の実施例に構成すれば、隔壁11を閉めて弁9を
開けることによりレーザガスをレーザ風洞3に供給でき
るうえ、共振器部2からレーザ風洞3に向ってレーザガ
スが流れるためアウトガスによりミラー1が汚染される
こともない。しかも隔壁11によってレーザ発振径路が
遮断されるのでベーキング中にレーザ光を出す危険性も
ない。
[発明の効果] 以上のように本発明によれば、共振器部とレーザ風洞と
の間を途中に弁を有する連通管で接続したことにより、
特別な排気ポンプなしにミラーの取外しを短時間で簡単
に行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のガスレーザ装置の一実施例を示す概略
構成図、第2図および第3図はそれぞれ本発明の異なる
他の実施例を示す概略構成図、第4図および第5図は従
来のガスレーザ装置を示す概略構成図および概略側面図
でおる。 1・・・ミラー 2・・・共振器部 3・・・レーザ風洞 4・・・電極部 5.11・・・隔壁 9・・・弁 10、20.21・・・連通管 (8733)代理人 弁理士 猪 股 祥 晃(ほか 
1名) 2        ] 第1図 第2図 第3図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)対向配置された複数枚の共振ミラーを有する共振
    器部と、この共振器部のミラー間にレーザ媒質を強制循
    環させるレーザ風洞と、前記レーザ媒質中にグロー放電
    を形成させる電極部とを有し、前記共振器部とレーザ風
    洞との間のレーザ光が通る連通管に両者間を気密に隔離
    する開閉自在の隔壁を設け、さらにその隔壁を有する連
    通管とは別に前記共振部とレーザ風洞との間に弁を有す
    る連通管を設けたことを特徴とするガスレーザ装置。(
    2)レーザ媒質が共振器部を介してレーザ風洞に供給さ
    れていることを特徴とするガスレーザ装置。(3)隔壁
    がレーザ光を透過、反射しない材料で作られていること
    を特徴とするガスレーザ装置。
JP32547887A 1987-12-24 1987-12-24 ガスレーザ装置 Pending JPH01168083A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32547887A JPH01168083A (ja) 1987-12-24 1987-12-24 ガスレーザ装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32547887A JPH01168083A (ja) 1987-12-24 1987-12-24 ガスレーザ装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01168083A true JPH01168083A (ja) 1989-07-03

Family

ID=18177328

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP32547887A Pending JPH01168083A (ja) 1987-12-24 1987-12-24 ガスレーザ装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01168083A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104836110A (zh) * 2015-04-29 2015-08-12 东莞市鼎先激光科技股份有限公司 一种激光器功率快速稳定的方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104836110A (zh) * 2015-04-29 2015-08-12 东莞市鼎先激光科技股份有限公司 一种激光器功率快速稳定的方法
CN104836110B (zh) * 2015-04-29 2018-08-07 东莞市鼎先激光科技股份有限公司 一种激光器功率快速稳定的方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5001873A (en) Method and apparatus for in situ cleaning of excimer laser optics
US6734388B2 (en) Dry surface cleaning apparatus
US6490305B2 (en) Beam delivery system for molecular fluorine (F2) laser
US3921098A (en) Pressurized laser housing
JPH08139391A (ja) レーザ共振器
JPH01168083A (ja) ガスレーザ装置
EP4052836A1 (en) Method for laser welding and laser welding system
JP2005268366A (ja) Lpp型euv光源装置
CN103430403B (zh) 气体激光振荡装置及激光气体置换方法
JP3097429B2 (ja) レ−ザ加工装置
JP2002057385A (ja) レーザ装置
JPS63288080A (ja) ガスレ−ザ装置
JP2784706B2 (ja) ガスレーザ装置
JPS6348142Y2 (ja)
JPH05167156A (ja) ガスレーザ装置のオイルミスト除去装置
JPH03254165A (ja) ガスレーザ装置
JP2685940B2 (ja) ガスレーザ発振装置
JP4395347B2 (ja) レーザ加工ヘッド
JP2008016679A (ja) レーザ装置、レーザ加工装置、及びダスト除去方法
JP3285233B2 (ja) ガス交換装置および方法
JP3162649B2 (ja) トラップ装置及びその再生方法
JPS62143428A (ja) 半導体ウエハの処理装置
JPH0818127A (ja) ガスレ−ザ装置
JPS5833884A (ja) 封止型ガスレ−ザ管の製造方法
KR200283870Y1 (ko) 반도체 저압 화학 기상 증착 장치