JPH01169722A - 磁気ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気ディスク装置に使用される磁気ディスクに
関する。

〔従来の技術〕

磁気記録装置の一種である磁気ディスク装置は小型化お
よび大容量化の動きに伴い、記録密度の高密度化が要求
されている。この要求に答えるため、高保磁力を有する
高性能媒体や、磁気ヘッドの低浮上化が検討されてきた
。しかし、これらはいずれも高度な技術を必要とし、ま
た装置の信頼性を確保する上でも満足されるものではな
かった。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明が解決しようとする問題点、すなわち本発明の目
的は、上記従来技術の欠点を除去し、簡便な手法で高密
度な記録を達成し得る磁気ディスクを提供することにあ
る。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明の磁気ディスクは、基板表面に磁気記録媒体とな
る磁性層を形成した磁気ディスクにおいて、磁性層形成
後に基板を変形させることによって、磁性層に応力をか
けることにより構成される。

〔実施例〕

次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。

第１図は本発明の第一の実施例を示す平面図である。ま
た、第２図は第１図のＡ−Ａ断面図である。

本発明の第一の実施例は少なくとも片側の表面に磁気記
録媒体となる磁性層１３および１４を形成した基板１１
および１２と、リング状シム２１より構成される。基板
１１および１２は通常の磁気ディスクの基板に用いられ
るＡ３０８６アルミ板材としたが、非磁性であれば他の
材質であっても良い。また、リング状シム２１はＳＶＳ
　３０４ステンレスを使用したが、これも他の非磁性材
質でも良い。

本発明の第一の実施例は基板１１および１２に形成され
た磁性層１３および１４を外側へ向け、間にリング状シ
ム２１を介して重ね合わせたものである。基板１１およ
び１２０間のリング状シム２１を除く箇所は中空とした
。

本実施例の磁気ディスクを使用するときの状態を第３図
に示す。磁気ディスクはスペーサリング４６を介して、
回転するとスピンドル（図示せず）に固定される。この
とき、スペーサリング４６により上下から締めつけられ
るため、基板１１および１２は第３図に示すようにたわ
みを生じる。このため、基板１１および１２０表面に形
成した磁性層１３および１４に圧縮応力がかかる。

同一の磁気ディスクを使い、磁性層に応力をかけた時と
かけない時の磁化曲線を測定した結果を第７図に示す。

第７図より応力をかけた時の方がかけない時より、保磁
力、残留磁化および角形比の全ての磁気特性において上
回っていることがわかる。この結果、本発明の磁気ディ
スクは信号の出力電圧が高くなり、さらに周波数特性が
向上するため、より高密度な磁気記録を行うことができ
る。

なお、理解を容易にするため、第３図では基板１１およ
び１２のたわみを極端に描写したが、実際はリング状シ
ム２１の板厚は０．１胴、基板１１と１２の隙き間は最
も広い最外周部で０．３ｍｍである。

次に本発明の第二の実施例について説明する。

第４図は本発明の第二の実施例を示す平面図、第５図は
第４図のＢ−Ｂ断面図である。

第二の実施例は基板の片側のみに磁性層を形成した磁気
ディスク、また磁気ディスクの片面のみを使用する場合
の例である。本実施例は、表面に磁性層１３を形成した
基板１１と第一のスペーサリング４７、第二のスペーサ
リング４８より構成される。第一のスペーサリング４７
は基板１１との接触面４３が内周側で凸となるようにテ
ーパ状に加工してあり、第二のスペーサリング４８は基
板１１との接触面４４が内周側で凹となるようにテーパ
状に加工しである。テーパの高さはリングの円周方向幅
寸法３．５　ｍｍの範囲で０．０２〜０．１ｍｍである
。これらのスペーサリングＡ４７およびＢ４８で基板１
１をはさみ、締め付けると、基板１１は第５図に示すよ
うにすり林状にたわみを生じる。この結果磁性層１３は
第一の実施例と同様圧縮応力を受け、磁気特性が向上す
る。

第二の実施例は前述のように片面のみに磁性層が存在す
る場合について記述した。この理由は、反対側の面に磁
性層があるとこちらは逆に引張り応力を受けて磁気特性
が劣化するためである。しかし、この劣化は内周側程激
しく、外周側では軽微であるため、使用領域を外周側に
限定すれば両面の磁気ディスクに対しても適用できる。

次に第三の実施例について説明する。第６図は本発明の
第３の実施例を示す断面図である。本発明の第３の実施
例は基板１１の両面に磁性層１３および１４を形成した
ものである。基板１１の材質は線膨張係数２３Ｘ１０−
’１／’Ｃのアルミ合金とし、１５０〜１７０℃に加熱
した状態で磁性層重３および１４を形成した。磁気ディ
スク装置内部の温度は通常５０℃以下であるから基板１
１は磁性層１３および１４の形成時に比較して１印当り
２．３μｍ以上収縮する。この結果磁性層１３および１
４は圧縮応力を受け、磁気特性が向上し、高密度の磁気
記録を達成することができる。

〔発明の効果〕 以上説明したように本発明は、基板表面に磁気記録媒体
となる磁性層を形成した磁気ディスクにおいて、磁性層
形成後に基板を変形させて磁性層に応力をかけることに
より、高密度な磁気記録を達成できるという効果がある
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第一の実施例を示す平面図、第２図は
第１図のＡ−Ａ断面図、第３図は第一の実施例の使用状
態を示す断面図、第４図は本発明の第二の実施例を示す
平面図、第５図は第４図のＢ−Ｂ断面図、第６図は本発
明の第三の実施例を示す断面図、第７図は磁性層に応力
を加えた時と加えない時の磁化曲線を示す図である。 １１．１２・・・・・・基板、１３．１４・・・・・・
磁性層、２１・・・・・・リング状シム、４６・・・・
・・スペーサリング、４７．４８・・・・・・スペーサ
リング。 代理人　弁理士　　内　原　　　音 ％１　■ ／３゛払；ドｔ７嬌−４７：ヌハーソ２ンク牛５　図 ／４８″″舌羊６０ 〔た１αＫＷｅ／／”Ｊ 奉Ｉ 翳７　図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　基板表面に磁気記録媒体となる磁性層を形成した磁気
   ディスクにおいて、前記磁性層の形成後に前記基板を変
   形させることにより、磁性層に応力をかけたことを特徴
   とする磁気ディスク。