JPH0664730B2 - 磁気記録体 - Google Patents
磁気記録体Info
- Publication number
- JPH0664730B2 JPH0664730B2 JP61191384A JP19138486A JPH0664730B2 JP H0664730 B2 JPH0664730 B2 JP H0664730B2 JP 61191384 A JP61191384 A JP 61191384A JP 19138486 A JP19138486 A JP 19138486A JP H0664730 B2 JPH0664730 B2 JP H0664730B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- magnetic
- recording
- substrate
- soft magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、磁気記録装置に用いられる磁気記録体に関す
る。
る。
（従来の技術） 磁気記録装置の記録密度の向上は、斯界の変わらぬ趨勢
であり、従来の長手（面内方向）磁化を用いる磁気記録
方式にかわり近年原理的に高密度記録の可能な方式とし
て垂直磁化を用いる磁気記録方式が提案されている。
であり、従来の長手（面内方向）磁化を用いる磁気記録
方式にかわり近年原理的に高密度記録の可能な方式とし
て垂直磁化を用いる磁気記録方式が提案されている。
ここで用いられる磁気記録体には、基板上に直接または
下地層を介して垂直磁気異方性膜を形成した単層媒体及
び基板上に軟磁性膜を形成し、その後直接または下地層
を介して垂直磁気異方性膜を形成したいわゆる２層媒体
がある。
下地層を介して垂直磁気異方性膜を形成した単層媒体及
び基板上に軟磁性膜を形成し、その後直接または下地層
を介して垂直磁気異方性膜を形成したいわゆる２層媒体
がある。
（発明が解決しようとする問題点） これらの磁気記録体としては、プラスチックフィルムを
基板として用いるフレキシブル記録体及びAl合金にNiP
メッキまたはアルマイト被覆した基板またはガラス，セ
ラミック等の硬質基板を用いるリジットの記録体があ
る。近年、特にリジット記録体においてディスク基板に
同心円状に凹凸の微小な溝（ミゾ）を形成しこのミゾ方
向に磁性膜の磁気的異方性を付与し、磁気特性の改善及
び磁気ヘッドと記録体表面との吸着の防止を図ってい
る。
基板として用いるフレキシブル記録体及びAl合金にNiP
メッキまたはアルマイト被覆した基板またはガラス，セ
ラミック等の硬質基板を用いるリジットの記録体があ
る。近年、特にリジット記録体においてディスク基板に
同心円状に凹凸の微小な溝（ミゾ）を形成しこのミゾ方
向に磁性膜の磁気的異方性を付与し、磁気特性の改善及
び磁気ヘッドと記録体表面との吸着の防止を図ってい
る。
しかしながら、軟磁性膜と垂直磁気異方性膜からなる２
層媒体を同心円状に凹凸のミゾを有する基板上に形成し
た場合、通常用いられる磁歪を低減した軟磁性膜におい
てはミゾ方向を容易軸とする磁気異方性が発生し、この
２層媒体に記録再生を行った結果、軟磁性膜のトラック
長手方向の高周波の透磁率が低下し、記録周波数特性が
著しく劣化する問題が生じた。
層媒体を同心円状に凹凸のミゾを有する基板上に形成し
た場合、通常用いられる磁歪を低減した軟磁性膜におい
てはミゾ方向を容易軸とする磁気異方性が発生し、この
２層媒体に記録再生を行った結果、軟磁性膜のトラック
長手方向の高周波の透磁率が低下し、記録周波数特性が
著しく劣化する問題が生じた。
従来例として、第３図（ａ），（ｂ）に示すように、デ
ィスク基板１には、アルミ合金基板にNiPをメッキして
鏡面研摩加工時にディスク円板の円周方向に、研摩によ
る凹凸のミゾ２を形成した。このミゾ構造の形状は、第
４図に示すような傾斜した凹凸の金型で成型されたプラ
スチック基板でもよい。
ィスク基板１には、アルミ合金基板にNiPをメッキして
鏡面研摩加工時にディスク円板の円周方向に、研摩によ
る凹凸のミゾ２を形成した。このミゾ構造の形状は、第
４図に示すような傾斜した凹凸の金型で成型されたプラ
スチック基板でもよい。
この従来例として、ミゾ粗さ（Ra）200Åのアルミ合金
基板を用い、軟磁性膜には、NiFe合金（80wt％Ni）をタ
ーゲットとしてスパッタ装置により成膜した。このとき
の内部応力（σ），磁歪定数（λ）及び面内の磁気異方
性定数（Ku）はそれぞれ＋１×10１ ０dyne／cm２，＋２
×10− ６,1×10４erg／ccとなる。この場合にはスジ方
向と平行の磁気異方性が生じていた。
基板を用い、軟磁性膜には、NiFe合金（80wt％Ni）をタ
ーゲットとしてスパッタ装置により成膜した。このとき
の内部応力（σ），磁歪定数（λ）及び面内の磁気異方
性定数（Ku）はそれぞれ＋１×10１ ０dyne／cm２，＋２
×10− ６,1×10４erg／ccとなる。この場合にはスジ方
向と平行の磁気異方性が生じていた。
本発明の目的は、このような問題点を解決し、高周波特
性を改善し、記録密度を高めた磁気記録体を提供するこ
とにある。
性を改善し、記録密度を高めた磁気記録体を提供するこ
とにある。
（問題点を解決するための手段） 本発明の磁気記録体は、表面に溝の粗さが300Å以下の
凹凸が同心円状に形成されたディスク基板と、前記ディ
スク基板の表面に形成されたNi−Fe系合金膜からなり且
つその磁歪定数が負の値で膜の内部応力が引張り応力を
有するかあるいはその磁歪定数が正の値で膜の内部応力
が圧縮応力を有する軟磁性膜と、前記軟磁性膜上に形成
された垂直磁気異方性膜とを備えている。
凹凸が同心円状に形成されたディスク基板と、前記ディ
スク基板の表面に形成されたNi−Fe系合金膜からなり且
つその磁歪定数が負の値で膜の内部応力が引張り応力を
有するかあるいはその磁歪定数が正の値で膜の内部応力
が圧縮応力を有する軟磁性膜と、前記軟磁性膜上に形成
された垂直磁気異方性膜とを備えている。
（作用） 本発明の磁気記録体は、軟磁性膜に凹凸のミゾ方向と直
角に容易軸をなす磁気異方性を発現させることにより、
記録トラック長手方向で軟磁性膜の透磁率の周波数特性
を向上させ、記録・再生特性が大きく改善できる。
角に容易軸をなす磁気異方性を発現させることにより、
記録トラック長手方向で軟磁性膜の透磁率の周波数特性
を向上させ、記録・再生特性が大きく改善できる。
次に本発明について図面を参照して説明する。
第１図、第２図はそれぞれ本発明の第１および第２の実
施例のディスク基板の一部分断面図である。
施例のディスク基板の一部分断面図である。
本実施例の基板１には、アルミ合金基板にNiPをメッキ
して鏡面研摩加工時にディスク円板の円周方向に、第３
図（ａ），（ｂ）の如く研摩により凹凸のミゾを形成し
た基板を用いた。このミゾ構造の形状は、第４図に示す
ような、金型によって成型されたプラスチック基板でも
同様の効果がある。
して鏡面研摩加工時にディスク円板の円周方向に、第３
図（ａ），（ｂ）の如く研摩により凹凸のミゾを形成し
た基板を用いた。このミゾ構造の形状は、第４図に示す
ような、金型によって成型されたプラスチック基板でも
同様の効果がある。
第１の実施例（第１図）のディスク基板１としては、ミ
ゾの粗さＲａ（平均の粗さ）は200Åと300Åのものを用
い、比較例としてミゾ粗さ500Åの基板を用いた。これ
らの基板を用いた記録体をそれぞれ記録体I,II,IIIとす
る。
ゾの粗さＲａ（平均の粗さ）は200Åと300Åのものを用
い、比較例としてミゾ粗さ500Åの基板を用いた。これ
らの基板を用いた記録体をそれぞれ記録体I,II,IIIとす
る。
軟磁性膜の作製には、NiFe合金（85wt％Ni）を用い、マ
グネトロンスパッタ装置を用いて0.4μｍ形成した。
グネトロンスパッタ装置を用いて0.4μｍ形成した。
第５図は形成時のアルゴン圧力ＰArに対するNiFe合金膜
の膜の内部応力の関係を示す特性図である。図の如く、
本実施例に用いたスパッタ装置においては、ＰAr〜2mTo
rrを境に引張り応力（符号正）と圧縮応力（符号負）に
応力が変化し、アルゴン圧力を変えて内部応力を制御し
た。本実施例では、ＰAr〜6mTorrでスパッタを行なった
が、それぞれの基板上に形成した膜の内部応力と膜の磁
歪定数はそれぞれ２×10１ ０dyne／cm２と−15×10− ６
であった。
の膜の内部応力の関係を示す特性図である。図の如く、
本実施例に用いたスパッタ装置においては、ＰAr〜2mTo
rrを境に引張り応力（符号正）と圧縮応力（符号負）に
応力が変化し、アルゴン圧力を変えて内部応力を制御し
た。本実施例では、ＰAr〜6mTorrでスパッタを行なった
が、それぞれの基板上に形成した膜の内部応力と膜の磁
歪定数はそれぞれ２×10１ ０dyne／cm２と−15×10− ６
であった。
軟磁性膜を形成した記録体I,II,IIIの面内異方性を磁気
トルク計で測定した結果を第１表に示す。
トルク計で測定した結果を第１表に示す。
磁気異方性定数Kuにおいて負の符号はミゾ方向と直角方
向に容易軸を有し、正の符号はミゾ方向と平行に容易軸
を有する。
向に容易軸を有し、正の符号はミゾ方向と平行に容易軸
を有する。
軟磁性膜を形成した記録体には、ＰAr／mTorrにおい
て、CoCr合金（22at％Cr）ターゲットを用いてマグネト
ロンスパッタによりCoCr膜を0.2μｍそれぞれ形成し
た。形成された膜の垂直方向の保磁力は500Oｅであっ
た。
て、CoCr合金（22at％Cr）ターゲットを用いてマグネト
ロンスパッタによりCoCr膜を0.2μｍそれぞれ形成し
た。形成された膜の垂直方向の保磁力は500Oｅであっ
た。
第２の実施例を示す第２図において、ディスク基板とし
て第４図に示す形状の基板を用い、ミゾの粗さＲａは20
0Åであった。軟磁性膜の作製には、NiFeCr合金（Ni６
０Fe３ ０Cr１ ０）ターゲットを用い、マグネトロンスパ
ッタ装置を用いて0.4μｍ形成した。スパッタ圧力ＰAr
は0.8mTorで、このときの軟磁性膜（NiFeCr）の内部応
力は圧縮圧力−1.9×10１ ０dyne／cm２で、磁歪定数は
＋20×10− ６であった。
て第４図に示す形状の基板を用い、ミゾの粗さＲａは20
0Åであった。軟磁性膜の作製には、NiFeCr合金（Ni６
０Fe３ ０Cr１ ０）ターゲットを用い、マグネトロンスパ
ッタ装置を用いて0.4μｍ形成した。スパッタ圧力ＰAr
は0.8mTorで、このときの軟磁性膜（NiFeCr）の内部応
力は圧縮圧力−1.9×10１ ０dyne／cm２で、磁歪定数は
＋20×10− ６であった。
軟磁性膜を形成した記録体Ｖの面内異方性を磁気トルク
計で測定した結果を第１表に示す。磁気異方性定数Kuは
−1.5×10４erg／ccでミゾ方向に直角に異方性が生じ
た。
計で測定した結果を第１表に示す。磁気異方性定数Kuは
−1.5×10４erg／ccでミゾ方向に直角に異方性が生じ
た。
この軟磁性膜形成後、第１の実施例と同様のCoCr合金タ
ーゲットを用い、CoCr膜を0.2μｍ形成した。膜の垂直
方向の保磁力は550Oｅであった。
ーゲットを用い、CoCr膜を0.2μｍ形成した。膜の垂直
方向の保磁力は550Oｅであった。
これら実施例、比較及び従来例の記録体Ｉ〜Ｖを用い、
リターンパスを有する薄膜型の主磁極励磁の磁気ヘッド
で記録再生を行ないその記録密度特性を調べた。主磁極
膜厚は0.3μｍである。
リターンパスを有する薄膜型の主磁極励磁の磁気ヘッド
で記録再生を行ないその記録密度特性を調べた。主磁極
膜厚は0.3μｍである。
第２表にそれぞれの記録密度を表わすＤ５ ０（弧立波出
力の１／２となる出力での密度）を示した。
力の１／２となる出力での密度）を示した。
この表より、本実施例の記録体I,II,Vの記録密度Ｄ５ ０
はそれぞれ90,75,80K−BPIで、十分高い密度特性が得ら
れた。一方、比較例及び従来例の記録体III,IVでは、Ｄ
５ ０はそれぞれ50,60K−BPIで実施例より劣った。
はそれぞれ90,75,80K−BPIで、十分高い密度特性が得ら
れた。一方、比較例及び従来例の記録体III,IVでは、Ｄ
５ ０はそれぞれ50,60K−BPIで実施例より劣った。
（発明の効果） 以上説明したように、本発明によれば、記録密度の高い
磁気記録体を得ることができる。
磁気記録体を得ることができる。
第１図，第２図は本発明の第１および第２の実施例の部
分断面図、第３図（ａ），（ｂ）はディスク基板の平面
図とその部分断面図、第４図は金型によりディスク基板
を作製した部分断面図、第５図はNiFe合金膜形成時のス
パッタ圧力と膜の内部応力の関係を示す特性図である。 １……ディスク基板、２……ミゾ、３……基板断面、４
……基板断面形状、５……基板、６……NiFe膜、７……
CoCr膜、９……NiFeCr膜。
分断面図、第３図（ａ），（ｂ）はディスク基板の平面
図とその部分断面図、第４図は金型によりディスク基板
を作製した部分断面図、第５図はNiFe合金膜形成時のス
パッタ圧力と膜の内部応力の関係を示す特性図である。 １……ディスク基板、２……ミゾ、３……基板断面、４
……基板断面形状、５……基板、６……NiFe膜、７……
CoCr膜、９……NiFeCr膜。
Claims (1)
- 【請求項１】表面に溝の粗さが300Å以下の凹凸が同心
円状に形成されたディスク基板と、前記ディスク基板の
表面に形成されたNi−Fe系合金膜からなり且つその磁歪
定数が負の値で膜の内部応力が引張り応力を有するかあ
るいはその磁歪定数が正の値で膜の内部応力が圧縮応力
を有する軟磁性膜と、前記軟磁性膜上に形成された垂直
磁気異方性膜とを備えたことを特徴とする磁性記録体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61191384A JPH0664730B2 (ja) | 1986-08-15 | 1986-08-15 | 磁気記録体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61191384A JPH0664730B2 (ja) | 1986-08-15 | 1986-08-15 | 磁気記録体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6348610A JPS6348610A (ja) | 1988-03-01 |
| JPH0664730B2 true JPH0664730B2 (ja) | 1994-08-22 |
Family
ID=16273700
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61191384A Expired - Lifetime JPH0664730B2 (ja) | 1986-08-15 | 1986-08-15 | 磁気記録体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0664730B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2514074B2 (ja) * | 1988-08-20 | 1996-07-10 | 日本ビクター株式会社 | 磁気記録媒体 |
| US7019924B2 (en) | 2001-02-16 | 2006-03-28 | Komag, Incorporated | Patterned medium and recording head |
| US20050036223A1 (en) | 2002-11-27 | 2005-02-17 | Wachenschwanz David E. | Magnetic discrete track recording disk |
| US7147790B2 (en) | 2002-11-27 | 2006-12-12 | Komag, Inc. | Perpendicular magnetic discrete track recording disk |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53123906A (en) * | 1977-04-05 | 1978-10-28 | Fujitsu Ltd | Magnetic disc |
| JPS5868226A (ja) * | 1981-10-16 | 1983-04-23 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS6052919A (ja) * | 1983-09-01 | 1985-03-26 | Nec Corp | 垂直磁気記録体及びその製造方法 |
-
1986
- 1986-08-15 JP JP61191384A patent/JPH0664730B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6348610A (ja) | 1988-03-01 |
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