JPH0117005Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0117005Y2 JPH0117005Y2 JP1984062561U JP6256184U JPH0117005Y2 JP H0117005 Y2 JPH0117005 Y2 JP H0117005Y2 JP 1984062561 U JP1984062561 U JP 1984062561U JP 6256184 U JP6256184 U JP 6256184U JP H0117005 Y2 JPH0117005 Y2 JP H0117005Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heated
- spheroidal
- distribution
- heating
- heating device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/40—Solar thermal energy, e.g. solar towers
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
集光加熱装置は、回転楕円面からなる反射鏡の
焦点付近に、被加熱物を設置し、加熱急冷、結晶
成長等を行う装置である。この装置には、反射鏡
を１個の回転楕円面のみで構成される単楕円型、
反射鏡が２個の回転楕円面の組合せで構成される
双楕円型、さらに反射鏡を３個以上の回転楕円面
の組合せで構成する多楕円型がある。集光加熱装
置では、要求される被加熱物の加熱温度の分布が
様々であり、局部的な加熱はもちろん、広範囲な
均一加熱を要求されることが多々ある。本考案は
このような加熱域の異なる要求を満たすために、
被加熱物の加熱温度分布の状態を変えることので
きる多楕円型の集光加熱装置に関するものであ
る。
焦点付近に、被加熱物を設置し、加熱急冷、結晶
成長等を行う装置である。この装置には、反射鏡
を１個の回転楕円面のみで構成される単楕円型、
反射鏡が２個の回転楕円面の組合せで構成される
双楕円型、さらに反射鏡を３個以上の回転楕円面
の組合せで構成する多楕円型がある。集光加熱装
置では、要求される被加熱物の加熱温度の分布が
様々であり、局部的な加熱はもちろん、広範囲な
均一加熱を要求されることが多々ある。本考案は
このような加熱域の異なる要求を満たすために、
被加熱物の加熱温度分布の状態を変えることので
きる多楕円型の集光加熱装置に関するものであ
る。
（従来技術とその問題点）
次に従来の集光加熱装置の欠点を図に従つて説
明する。
明する。
第１図は、反射鏡が４個の回転楕円面で構成さ
れた多楕円型の集光加熱装置の加熱炉部分の基本
構成を示す縦断面図で、第２図は、横断面図であ
る。
れた多楕円型の集光加熱装置の加熱炉部分の基本
構成を示す縦断面図で、第２図は、横断面図であ
る。
図において、１１は、回転楕円面鏡、１２はハ
ロゲンランプ等の光源、１３は被加熱物、１４は
摺動ガイド、１５はフレーム、１６はロツク機構
である。光源１２は回転楕円面鏡１１の回転楕円
の一方の焦点F1，F2，F3，F4付近に設置され、
ここから発する光は、回転楕円面鏡で反射され
て、もう一方に焦点F′1，F′2，F′3，F′4付近に集
光される。この焦点付近に、被加熱物１３を設置
することにより、被加熱物を加熱することができ
る。また、摺動ガイド１４は、回転楕円面鏡１１
とともに、ロツク機構１６を解除することにより
フレーム１５に沿つて、ｘ軸方向に移動すること
ができ、任意の位置においてロツク機構により固
定することができる。このため４個の回転楕円面
鏡の加熱側焦点は、ｘ軸上の異なる位置に設定で
き、この結果集光加熱エネルギーを被加熱物のｘ
軸方向に分散できる。
ロゲンランプ等の光源、１３は被加熱物、１４は
摺動ガイド、１５はフレーム、１６はロツク機構
である。光源１２は回転楕円面鏡１１の回転楕円
の一方の焦点F1，F2，F3，F4付近に設置され、
ここから発する光は、回転楕円面鏡で反射され
て、もう一方に焦点F′1，F′2，F′3，F′4付近に集
光される。この焦点付近に、被加熱物１３を設置
することにより、被加熱物を加熱することができ
る。また、摺動ガイド１４は、回転楕円面鏡１１
とともに、ロツク機構１６を解除することにより
フレーム１５に沿つて、ｘ軸方向に移動すること
ができ、任意の位置においてロツク機構により固
定することができる。このため４個の回転楕円面
鏡の加熱側焦点は、ｘ軸上の異なる位置に設定で
き、この結果集光加熱エネルギーを被加熱物のｘ
軸方向に分散できる。
第３図ａ，ｂは、第１図における被加熱物１３
に照射するエネルギー分布を示した図であり、同
図ａはｘ軸方向分布の例、同図ｂはF1′点を中心
とした被加熱物の表面の円周方向分布の例を説明
する図である。第３図ａの照射エネルギー強度は
円周方向の積分値を示しており、第３図ｂの照射
エネルギー強度は、F′1点を含むｘ軸に垂直な平
面と被加熱物の表面とが交わつてできる円周の近
傍の値を示している。第３図ａをみると、照射エ
ネルギーがｘ軸上に分散しており、被加熱物は、
ｘ軸方向の広い範囲を小さな温度変動で加熱され
ることがわかる。
に照射するエネルギー分布を示した図であり、同
図ａはｘ軸方向分布の例、同図ｂはF1′点を中心
とした被加熱物の表面の円周方向分布の例を説明
する図である。第３図ａの照射エネルギー強度は
円周方向の積分値を示しており、第３図ｂの照射
エネルギー強度は、F′1点を含むｘ軸に垂直な平
面と被加熱物の表面とが交わつてできる円周の近
傍の値を示している。第３図ａをみると、照射エ
ネルギーがｘ軸上に分散しており、被加熱物は、
ｘ軸方向の広い範囲を小さな温度変動で加熱され
ることがわかる。
しかし、第３図ｂをみると、照射エネルギーは
円周方向には均一に照射されておらず、被加熱物
は、円周方向で大きな温度変動を生じる。被加熱
物のｘ軸方向の広範囲を小さな温度変動で加熱す
る必要がある場合、一般には、円周方向も温度変
動を小さくする必要がある。従つて、従来の装置
では、ｘ軸方向の広範囲な加熱は可能であつたが
円周方向の温度変動が大きくなる欠点を有してい
た。
円周方向には均一に照射されておらず、被加熱物
は、円周方向で大きな温度変動を生じる。被加熱
物のｘ軸方向の広範囲を小さな温度変動で加熱す
る必要がある場合、一般には、円周方向も温度変
動を小さくする必要がある。従つて、従来の装置
では、ｘ軸方向の広範囲な加熱は可能であつたが
円周方向の温度変動が大きくなる欠点を有してい
た。
（考案の目的）
本考案は、このような従来の欠点を除去し、試
料の軸方向の広範囲の加熱と円周方向の加熱をと
もに小さな温度変動で加熱する装置を提供するこ
とにある。
料の軸方向の広範囲の加熱と円周方向の加熱をと
もに小さな温度変動で加熱する装置を提供するこ
とにある。
（考案の構成）
本考案によれば対向する回転楕円面鏡が被加熱
物の軸方向に、同時に移動する構造とすることに
より、被加熱物の軸方向の広い範囲で温度変動が
少なくかつ、円周方向の温度変動も少ない集光加
熱装置を得ることができる。
物の軸方向に、同時に移動する構造とすることに
より、被加熱物の軸方向の広い範囲で温度変動が
少なくかつ、円周方向の温度変動も少ない集光加
熱装置を得ることができる。
（本考案の概要）
本考案は、上述の構成をとることにより、互い
に対向した位置にある回転楕円面鏡の加熱側焦点
が一致した状態で、他の対向した位置にない回転
楕円面鏡の加熱側焦点と異なるｘ軸上の位置に設
定することにより、集光加熱エネルギーを被加熱
物の軸方向に分散させ、かつ、被加熱物の円周方
向になめらかに照射させることができる。
に対向した位置にある回転楕円面鏡の加熱側焦点
が一致した状態で、他の対向した位置にない回転
楕円面鏡の加熱側焦点と異なるｘ軸上の位置に設
定することにより、集光加熱エネルギーを被加熱
物の軸方向に分散させ、かつ、被加熱物の円周方
向になめらかに照射させることができる。
（実施例）
以下本考案の実施例について図面を参照して詳
細に説明する。
細に説明する。
第４図は、本考案の一実施例である回転楕円面
鏡が４個の組合せで構成された集光加熱装置の加
熱炉部分の縦断面図で、第５図は、横断面図であ
る。
鏡が４個の組合せで構成された集光加熱装置の加
熱炉部分の縦断面図で、第５図は、横断面図であ
る。
図において、２１及び２１′は、回転楕円面鏡、
２２はハロゲンランプ等の光源、２３は被加熱
物、２４は摺動ガイド、２５はフレーム、２６は
ロツク機構である。光源２２は、回転楕円面鏡２
１及び２１′の回転楕円の一方の焦点F5，F6，
F7，F8付近に設置されここから発する光は回転
楕円面鏡で反射されてもう一方の焦点F′5，F′6及
びF′7，F′8付近に集光される。
２２はハロゲンランプ等の光源、２３は被加熱
物、２４は摺動ガイド、２５はフレーム、２６は
ロツク機構である。光源２２は、回転楕円面鏡２
１及び２１′の回転楕円の一方の焦点F5，F6，
F7，F8付近に設置されここから発する光は回転
楕円面鏡で反射されてもう一方の焦点F′5，F′6及
びF′7，F′8付近に集光される。
摺動ガイド２４は、回転楕円面鏡２１ととも
に、ロツク機構２６を解除することにより、フレ
ーム２５に沿つてｘ軸方向に移動することがで
き、任意の位置においてロツク機構により固定す
ることができる。また、回転楕円面鏡２１′は、
フレーム２５に固定されている。
に、ロツク機構２６を解除することにより、フレ
ーム２５に沿つてｘ軸方向に移動することがで
き、任意の位置においてロツク機構により固定す
ることができる。また、回転楕円面鏡２１′は、
フレーム２５に固定されている。
（考案の効果）
第６図ａ，ｂは第４図における被加熱物２３に
照射するエネルギー分布を示した図であり、同図
ａはｘ軸方向の分布の例、同図ｂはF5，F6点を
中心とした被加熱物の表面の円周方向分布の例を
説明する図である。
照射するエネルギー分布を示した図であり、同図
ａはｘ軸方向の分布の例、同図ｂはF5，F6点を
中心とした被加熱物の表面の円周方向分布の例を
説明する図である。
第６図ａの照射エネルギー強度は、円周方向の
積分値を示しており、第６図ｂの照射エネルギー
強度は、F′5，F′6点を含むx1軸に垂直な平面と被
加熱物の表面とが交わつてできる円周の近傍の値
を示している。第６図ａをみると、ｘ軸上に分散
しており、被加熱物は、ｘ軸方向の広い範囲を小
さな温度変動で加熱されることがわかる。また、
第６図ｂをみると、照射エネルギーは、円周方向
にも均一に照射されており被加熱物は、円周方向
でも、小さな温度変動で加熱されることがわか
る。このように、被加熱物の軸方向及び円周方向
に均一加熱ができるため、従来の方法と比較し
て、結晶欠陥を少なくできるなどの利点を有す
る。
積分値を示しており、第６図ｂの照射エネルギー
強度は、F′5，F′6点を含むx1軸に垂直な平面と被
加熱物の表面とが交わつてできる円周の近傍の値
を示している。第６図ａをみると、ｘ軸上に分散
しており、被加熱物は、ｘ軸方向の広い範囲を小
さな温度変動で加熱されることがわかる。また、
第６図ｂをみると、照射エネルギーは、円周方向
にも均一に照射されており被加熱物は、円周方向
でも、小さな温度変動で加熱されることがわか
る。このように、被加熱物の軸方向及び円周方向
に均一加熱ができるため、従来の方法と比較し
て、結晶欠陥を少なくできるなどの利点を有す
る。
以上本考案の典型的な実施例として、４個の回
転楕円面鏡を組合せた集光加熱装置について説明
してきたが、これは説明の便宜であり、本考案が
他の多楕円型の集光加熱装置にも適用できること
は明白である。
転楕円面鏡を組合せた集光加熱装置について説明
してきたが、これは説明の便宜であり、本考案が
他の多楕円型の集光加熱装置にも適用できること
は明白である。
第１図及び第２図は、集光加熱装置の従来例を
示す図である。第３図ａ，ｂは、第１図の集光加
熱装置における被加熱物の表面に照射されるエネ
ルギーの分布を示す図で、第３図ａが、被加熱物
の軸方向分布、第３図ｂが、被加熱物の円周方向
分布を示す。第４図及び第５図は、本考案の実施
例を示す図である。第６図ａ，ｂは、第４図の集
光加熱装置における被加熱物の表面に照射される
エネルギーの分布で示す図で、第６図ａが被加熱
物の軸方向分布、第６図ｂが被加熱物の円周方向
分布を示す。 図において、１１，２１，２１′は回転楕円面
鏡、１２，２２は、ハロゲンランプ等の光源、１
３，２３は被加熱物、１４，２４は、摺動ガイ
ド、１５，２５はフレーム、１６，２６はロツク
機構である。
示す図である。第３図ａ，ｂは、第１図の集光加
熱装置における被加熱物の表面に照射されるエネ
ルギーの分布を示す図で、第３図ａが、被加熱物
の軸方向分布、第３図ｂが、被加熱物の円周方向
分布を示す。第４図及び第５図は、本考案の実施
例を示す図である。第６図ａ，ｂは、第４図の集
光加熱装置における被加熱物の表面に照射される
エネルギーの分布で示す図で、第６図ａが被加熱
物の軸方向分布、第６図ｂが被加熱物の円周方向
分布を示す。 図において、１１，２１，２１′は回転楕円面
鏡、１２，２２は、ハロゲンランプ等の光源、１
３，２３は被加熱物、１４，２４は、摺動ガイ
ド、１５，２５はフレーム、１６，２６はロツク
機構である。
Claims (1)
- 複数個の回転楕円面鏡の一方の焦点に光源を設
け、他の焦点にその光を集中して被加熱物を加熱
する如き集光加熱装置において、複数個の対向し
て共通焦点を有する回転楕円面鏡が、被加熱物の
軸方向にそれぞれ独立に移動する機構を有するこ
とを特徴とする集光加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1984062561U JPS60176061U (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | 集光加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1984062561U JPS60176061U (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | 集光加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60176061U JPS60176061U (ja) | 1985-11-21 |
| JPH0117005Y2 true JPH0117005Y2 (ja) | 1989-05-18 |
Family
ID=30591894
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1984062561U Granted JPS60176061U (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | 集光加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60176061U (ja) |
-
1984
- 1984-04-27 JP JP1984062561U patent/JPS60176061U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60176061U (ja) | 1985-11-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5719991A (en) | System for compensating against wafer edge heat loss in rapid thermal processing | |
| US3302519A (en) | Optical illuminating system | |
| US3449561A (en) | Aconic collector | |
| JPH0117005Y2 (ja) | ||
| US4181930A (en) | Lamp reflector unit | |
| JPS6054187A (ja) | 集光加熱装置 | |
| US4750097A (en) | Lamp reflector assembly | |
| JPS6019266U (ja) | 線状光源照明装置 | |
| JPS60236482A (ja) | レ−ザ加熱装置 | |
| JPH10217515A (ja) | 画像記録装置 | |
| JPH0623917Y2 (ja) | 加熱装置 | |
| JPH0548097Y2 (ja) | ||
| JPS6126896Y2 (ja) | ||
| JPH0224092Y2 (ja) | ||
| JPS5814127A (ja) | 複写機の照明装置 | |
| JPS5914286A (ja) | 集光加熱装置 | |
| JPS6147063A (ja) | ミラ−付電球 | |
| JPS61165748A (ja) | 複写機の露光照明装置 | |
| JPH0364802A (ja) | 照明器具 | |
| SU1464117A1 (ru) | Устройство дл локального облучени | |
| JPS6336991A (ja) | レ−ザビ−ム成形装置 | |
| JPS58121B2 (ja) | シヨウメイソウチ | |
| JPH0552479A (ja) | 楕円筒状イメージ炉 | |
| JPS61210338A (ja) | 反射画像投影器 | |
| JPS6146733U (ja) | 半導体用熱処理装置 |