JPS60236482A - レ−ザ加熱装置 - Google Patents

レ−ザ加熱装置

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Publication number
JPS60236482A
JPS60236482A JP59094856A JP9485684A JPS60236482A JP S60236482 A JPS60236482 A JP S60236482A JP 59094856 A JP59094856 A JP 59094856A JP 9485684 A JP9485684 A JP 9485684A JP S60236482 A JPS60236482 A JP S60236482A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser beam
mirror
laser
workpiece
approximately
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP59094856A
Other languages
English (en)
Inventor
利藤 尚武
大田 正雄
川津 和信
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP59094856A priority Critical patent/JPS60236482A/ja
Publication of JPS60236482A publication Critical patent/JPS60236482A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Control Of Resistance Heating (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 、 この発明は、レーザビームを被加工物に照射して加工す
るレーザ加熱装置に係り、特に被加工物の円周内面又は
円周外面を均一に加熱するのに好適なレーザ加熱装置に
関する。 ″ 〔従来技術〕 従来仁の種の装置として、例えば、特開昭57−181
790 号公報で開示されているようなものが既に提案
されている。
これはレーザ発振器から取り出されたレーザビームラ、
リング状の焦点を有するレーザビームに変換し、このレ
ーザビームを円周面状の被加工表面に照射するようにし
たものである。
このようなものでは、被加工物の直径が一化しても、照
射レーザビームの焦点面を常に被加工物表面に一致させ
ることが出来る4I−黴を有するが、リング状の焦点に
於けるレーザビームの円周方向のエネルギ密度が必ずし
も均一でないため被加工物の円周面を均一な温度に加熱
することが困難な九′ め、□実施例で示されているよ
うに被加工物を回転・するなどの方法をとらなければな
らないという欠点を有する。
〔発明の概要〕
゛ この発明はこのような従来のもやの欠点を解消する
ためになされたもので、レーザビーム入射軸を中心に高
速回転するミ2−を介してレーザビー1を被ヤ物に照射
するこ、とにより・上1ラー?回転により上記被加工物
に照射される範囲の全体にわ4たりエネルギ密度をほぼ
均一に分布せしめうるレーザ加熱装置を提供することを
目的とするものである。
〔発明の実施例〕
以下、この発明の実施例を図面について説明するQ 第1図は、この発明を適用した一嚢施例におけるレーザ
加熱装置の全一を示す断面図である。
図において、(1)はレーザ発振器(図示せず)から取
り出されたレーザビーム(2)を集光するレンズ、(3
)はレーザビーム(2)をほぼ900(IIll光する
平板状の回転ミラーで、レーザビーム入射軸執)と同軸
上に配設された回転筒(4)に固定されている。そして
、回転筒(4)はベアリング(5) 、 <6)を介し
てブラケット(7)で支持されるとともに、上部に形成
された歯車(8)が電動機(9)により駆動される歯車
QOとかみ合いレーザビーム入射軸(2a)を回転軸と
して高速回転可能に構成されている。(ロ)はホルダー
@を介してブラケット(7)に固定され、レーザビーム
入射軸(&)と同軸の笠状の第1の反射面Qla)を内
面に有する第1のリングミラーで、回転ミ9−(3)か
ら入射したレーザビームを第1の反射面(Ua)でほぼ
900偏光して再びV−ザビーム入射軸(2a)と平行
とせしめる。QlはホルダーQ4に固定され、レーザビ
ーム入射軸(2a)と同軸の笠状の第2の反射面(13
a)を外面に有する第2のリングミラーで、第1のリン
グミラー(ロ)から入射したレーザビームを第2の反射
面(13a)でほぼ900偏光して被加工物aOの円周
内面(止a)の所定位置に照射する0なお、被加工物(
至)は円周内面価a)がレーザビーム入射軸へ)と同軸
になるように配設されている。
そして、被加工物(至)の円周内面05a)の表面上に
レーザビーム(2)の焦点が一致するようにレンズ(1
)の位置が調節できる構造となっている。
上記のように構成されたこの発明の一実施例としてのし
一ザ加熱装置においては、レンズ(1)で集光されたレ
ーザビーム(2)は被加工物(ト)の円周内面(&)の
表面上に焦点が一致して、かつその円周上゛を高速度で
回転することになる。従って、円筒状の被加工物(至)
の円周方向にわ起9レーザビームによるエネルギ密度が
均一となり温度むらのない均一な加熱が行えることにな
る。
第2図はこの発明を適用した他の実施例におけるレーザ
加熱装置の全体を示す断面図で、第1図と異なる点のみ
以下に示す。(ト)はホルダー〇?)を介してプラタン
) (7) K固定されレーザビーム入射軸 □C2&
)と同軸の笠状の第3の反射面(15a)を内面に有 
□する第3のリングミラーで、第1のリングミラー ・
(ロ)から入射したレーザビーム金第3の反射面(創で
はは90°偏光して被加工物(至)の円周外面08a)
の円周外面(18a)の所定位置に照射する。
なお、被加工物(至)は円周外面08a)がレーザビー
ム入射軸(ム)と同軸になるように配設されている。
そして、被加工物(7)の円周外面(1&)の表面上に
レーザビーム(2)の焦点が一致するようにレンズ(1
)の位置が調整できる構造となっている。
従って、第1図の場合と同様にして回転ミラー(3)を
高速回転させることにより、被加工物(至)の外面の円
周方向にわたり均一な加熱が行えることになる。
なお、上記各実施例においては、レーザビーム(2)を
集光する手段としてレンズ(1)を使用したが、回転ミ
ラー(3)あるいは第1又は第2のリングミラー(至)
、α・を凹面鏡にし、レーザビーム(2)の焦点を被加
工物(至)、四の表面上に一致するように構造にしても
゛同様の効果が得られる0又、レーザビーム(2)を集
光させる必要がない場合には、レンズ(1)を取り除い
ても均一加熱ができるというこの発明の効果は同様に得
られる。
〔、発明の効果〕
この発明は以上説明したように、レーザビーム入射軸を
中心に高速回転するミラーを介してレーザビームを被加
工物に照射する構成としたので、上記ミラーの回転によ
り上記被加工物に照射される範囲の全体にわたシエネル
ギ密度をほぼ均一に分布せしめて温度むらのない均一な
加熱が行えるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例におけるレーザ加熱装置の
全体を示す断面図、第2図はこの発明の他の実施例にお
けるレーザ加熱装置の全体を示す断面図である。 図において、(2)はレーザビーム、(2a)はレーザ
ビーム入射軸、(3)、αp、(至)、9・はミラーと
してのそれぞれ回転ミラー、第1ないし第3のリングミ
ラー、(至)、Q29は被加工物である。 なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。 代理人 大岩増雄

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) レーザ発振器から発射するレーザビームをミラ
    ーを介して被加工物に照射して加熱するものにおいて、
    上記ミラーをそのレーザビーム入射軸を中心に高速回転
    させることにより、上記ミラーの回転により上記被加工
    物に照射される範囲の全体にわたりエネルギ密度をほぼ
    均一に分布せしめることを特徴とするレーザ加熱装置。
  2. (2)ミラーはレーザ発振器からのレーザビームを反射
    せしめてほぼ900偏光しレーザビーム入射軸を中心に
    高速回転可能に構成された回転ミラーと、この回転ミラ
    ーへのレーザビーム入射軸と同軸に配設された笠状の第
    1の反射面を内面に有し上記回転ミラーで反射したレー
    ザビームを上記第1の反射面でほぼ90°偏光させる第
    1のリングミラーと、上記回転ミラーへのレーザビーム
    入射軸と同軸の円周内面を有する被加工物の内部に、上
    記円周内面と同軸に配設された笠状の第2の反射面を外
    面に有し上記第1のリングミラーで反射したレーザビー
    ムを上記第2の反射面でIテぼ9o0偏光せしめて上記
    痒カリニ物の円周内面に照射する第2のリンクミラーと
    からなることを特徴とする特許請求の範囲第↓一記載の
    レーザ加熱装置。
  3. (3) ミラーはレニク発逗器からのレーザビームを反
    射せしめてほぼ90°偏光しレーザビーム入射軸を中心
    に高速回転可能に構成された回転ミラーと、この回転ミ
    ラーへのレーザビーム入射軸と同軸に配設された笠状の
    第1の反射6.を内面に有し上記回転ミラーで反射した
    レーザビームを上記第1の反射面でほぼ90°偏光させ
    る第1のす/グミラーと、上記回転ミラーへのレーザビ
    ーム入射軸と同軸の円周外面を声する被加工物の外側に
    、上記円周外面メ同軸に配設された笠状の第3の反射面
    を内面に有し上記第1のリンクミラーで反射したレーザ
    ビームを上記第3の反射面でほぼ90°偏光せしめて上
    記被加工物の円周外面に照射する第3のリングミラーと
    からなることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
    レーザ加熱装置。
JP59094856A 1984-05-09 1984-05-09 レ−ザ加熱装置 Pending JPS60236482A (ja)

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JP59094856A JPS60236482A (ja) 1984-05-09 1984-05-09 レ−ザ加熱装置

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JPS60236482A true JPS60236482A (ja) 1985-11-25

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ID=14121671

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JP59094856A Pending JPS60236482A (ja) 1984-05-09 1984-05-09 レ−ザ加熱装置

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