JPH01177538A - 水溶性感光性樹脂版の現像方法 - Google Patents
水溶性感光性樹脂版の現像方法Info
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- JPH01177538A JPH01177538A JP152788A JP152788A JPH01177538A JP H01177538 A JPH01177538 A JP H01177538A JP 152788 A JP152788 A JP 152788A JP 152788 A JP152788 A JP 152788A JP H01177538 A JPH01177538 A JP H01177538A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は水溶性感光性樹脂版の現像方法に関する。
(従来の技術)
現在、水現像タイプの感光性樹脂板が知られ、有害物質
、引火性物質を使用する溶剤現像タイプに比べて、はる
かに有利であるが、この水現像タイプ樹脂には、状態よ
り液状または固形状のものがあり、化学的には非イオン
性とイオン性樹脂に分けられる。その現像方法は基本的
には変わらず、樹脂版の作成は、像形成露光後、その樹
脂組成に適合させて水または水性調合液により、液温や
時間を調節しながら処理して未露光部分すなわち未硬化
部を洗浄除去することにより行われる。その処理方法と
してはブラッシングまたはスプレ一方式などが知られて
いる。
、引火性物質を使用する溶剤現像タイプに比べて、はる
かに有利であるが、この水現像タイプ樹脂には、状態よ
り液状または固形状のものがあり、化学的には非イオン
性とイオン性樹脂に分けられる。その現像方法は基本的
には変わらず、樹脂版の作成は、像形成露光後、その樹
脂組成に適合させて水または水性調合液により、液温や
時間を調節しながら処理して未露光部分すなわち未硬化
部を洗浄除去することにより行われる。その処理方法と
してはブラッシングまたはスプレ一方式などが知られて
いる。
(本発明が解決しようとする問題点)
ところで前記のように、現在市販されている感光性樹脂
層の現像方法は基本的には変わらないが、各社独自の研
究開発による樹脂組成の違いがあり、例えば感光性樹脂
としてイオン性のものと非イオン性のものがある。
層の現像方法は基本的には変わらないが、各社独自の研
究開発による樹脂組成の違いがあり、例えば感光性樹脂
としてイオン性のものと非イオン性のものがある。
しかし樹脂版を利用する者にとっては、感光性樹脂組成
の相違に応じて、別々に現像装置を備えたり、あるいは
現像液をその都度かえたりするのは、作業効率の低下を
来たし、コスト高になるため行わないのが実情である。
の相違に応じて、別々に現像装置を備えたり、あるいは
現像液をその都度かえたりするのは、作業効率の低下を
来たし、コスト高になるため行わないのが実情である。
従って、同一機械、同一現像液を用いて、樹脂組成の異
なる感光性樹脂層を続いて現像すると、樹脂同志が反応
し、水不溶性の巨大な樹脂の塊となり、ブラシやローラ
ー或いはレリーフなどに付着して製品を著しく損なう結
果となっている。また−旦ブラシやローラー、板壁が汚
染した場合、その洗浄には多くの時間を要したり機械の
破損になるなど非常に不都合な結果を生じている。
なる感光性樹脂層を続いて現像すると、樹脂同志が反応
し、水不溶性の巨大な樹脂の塊となり、ブラシやローラ
ー或いはレリーフなどに付着して製品を著しく損なう結
果となっている。また−旦ブラシやローラー、板壁が汚
染した場合、その洗浄には多くの時間を要したり機械の
破損になるなど非常に不都合な結果を生じている。
この様な欠点を防止する方法として、例えば非イオン性
陽イオン活性剤やアニオン性の活性剤などを添加する方
法が見られるが、水溶性ポリアミドを含む感光性樹脂を
現像した場合、樹脂同志の反応を殆ど阻止しないばかり
でなく却って悪くするものなどがあった。
陽イオン活性剤やアニオン性の活性剤などを添加する方
法が見られるが、水溶性ポリアミドを含む感光性樹脂を
現像した場合、樹脂同志の反応を殆ど阻止しないばかり
でなく却って悪くするものなどがあった。
(問題点を解決するための手段)
本発明者等は上記欠点を克服し、仕上がり面の良好な樹
脂版を得るため鋭意検討をした結果、遂に本発明を完成
するに到った。すなわち本発明は水溶性ポリアミドを含
む感光性組成物を、画像形成露光後、下記一般式(1)
および(II)で示される第四級アンモニウム塩より選
ばれた一種以上を含有した水性現像液を用いて現像する
ことを特徴とする水溶性感光性樹脂層の現像方法である
。
脂版を得るため鋭意検討をした結果、遂に本発明を完成
するに到った。すなわち本発明は水溶性ポリアミドを含
む感光性組成物を、画像形成露光後、下記一般式(1)
および(II)で示される第四級アンモニウム塩より選
ばれた一種以上を含有した水性現像液を用いて現像する
ことを特徴とする水溶性感光性樹脂層の現像方法である
。
本発明において水溶性ポリアミドとは例えば主鎖にエー
テル結合を有するポリアミド、分子内に塩基性窒素原子
または第四級アンモニウム塩を有するポリアミド、分子
内にスルホン酸塩を有するポリアミド等が挙げられ、感
光性樹脂としてはさらに光重合性不飽和基含有化合物を
配合するか、あるいは前記水溶性ポリアミドに光重合性
不飽和基を持たせておいてもよい。また本発明における
感光性樹脂層としては、支持体(ステンレス、アルミニ
ウム等の金属板、ポリエチレンテレフタレート等の合成
ゴムシート等)上に必要に応じて接着層および/または
ハレーション防止層を有し、その上に感光性樹脂層、さ
らに必要に応じてポリビニルアルコール等の粘着および
カバーフィルムを積層したものが挙げられる。
テル結合を有するポリアミド、分子内に塩基性窒素原子
または第四級アンモニウム塩を有するポリアミド、分子
内にスルホン酸塩を有するポリアミド等が挙げられ、感
光性樹脂としてはさらに光重合性不飽和基含有化合物を
配合するか、あるいは前記水溶性ポリアミドに光重合性
不飽和基を持たせておいてもよい。また本発明における
感光性樹脂層としては、支持体(ステンレス、アルミニ
ウム等の金属板、ポリエチレンテレフタレート等の合成
ゴムシート等)上に必要に応じて接着層および/または
ハレーション防止層を有し、その上に感光性樹脂層、さ
らに必要に応じてポリビニルアルコール等の粘着および
カバーフィルムを積層したものが挙げられる。
発明方法において水性現像液に添加される第四級アンモ
ニウム塩としては前記一般式(1)または(II)で示
される化合物であり、中でも炭素原子数12〜18のア
ルキル基をもち、pH8未満のものが好ましい。一般式
(1)で示される化合物として具体的には、ラウリルト
リメチルアンモニウムクロライド、ラウリルトリメチル
アンモニウムブロマイド、ミリスチルトリメチルアンモ
ニウムブロマイド、オレイルトリメチルアンモニウムブ
ロマイド、ミリスチルトリメチルアンモニウムクロライ
ド、オレイルトリメチルアンモニウムクロライド、ステ
アリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジステアリ
ルジメチルアンモニウムクロライド、ラウリルジメチル
エチルアンモニウムクロライド、ラウリルベンジルトリ
メチルアンモニウムクロライド、ラウリルジメチルエチ
ルアンモニウムクロライド、ラウリルジメチルエチルア
ンモニウムブロマイド、ラウリルベンジルジメチルエチ
ルアンモニウムクロライド、ジオレイルジメチルアンモ
ニウムブロマイド、シミリスチルトリメチルアンモニウ
ムクロライド、ジラウリルトリメチルアンモニウムクロ
ライド、ラウリルジメチルイソプロピルアンモニウムク
ロライド、ジラウリルトリメチルアンモニウムのメチル
硫酸塩、オレイルトリメチルアンモニウムクロライド、
オレイルトリメチルアンモニウムのメチル硫酸塩、ミリ
スチルジメチルエチルベンジルアンモニウムクロライド
、オレイルベンジルジメチルエチルアンモニウムブロマ
イド、ステアリルジメチルエチルアンモニウムブロマイ
ド、ミリスチルジメチルエチルアンモニウムクロライド
、ジイソブチルフェノキシエチルジメチルベンジルアン
モニウムクロライド、ラウリルジメチルメタクリルアン
モニウムクロリドジオクタデシルジメチルアンモニウム
クロライド、ラウリルジメチルシクロヘキシルアンモニ
ウムブロマイドなどが挙げられ、一般式(II)で示さ
れる化合物としては、ラウリルピリジニウムクロライド
、ステアリルピリジニウムクロライド、オレイルピリジ
ニウムクロライド、ステアリルピリジニウムクロライド
、ラウリルピリジニウムブロマイド、ステアラミドメチ
ルピリジニウムクロライド、ステアリルピリジニウムク
ロライドなどが挙げられ、これらの単独または混合して
用いてもよい。
ニウム塩としては前記一般式(1)または(II)で示
される化合物であり、中でも炭素原子数12〜18のア
ルキル基をもち、pH8未満のものが好ましい。一般式
(1)で示される化合物として具体的には、ラウリルト
リメチルアンモニウムクロライド、ラウリルトリメチル
アンモニウムブロマイド、ミリスチルトリメチルアンモ
ニウムブロマイド、オレイルトリメチルアンモニウムブ
ロマイド、ミリスチルトリメチルアンモニウムクロライ
ド、オレイルトリメチルアンモニウムクロライド、ステ
アリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジステアリ
ルジメチルアンモニウムクロライド、ラウリルジメチル
エチルアンモニウムクロライド、ラウリルベンジルトリ
メチルアンモニウムクロライド、ラウリルジメチルエチ
ルアンモニウムクロライド、ラウリルジメチルエチルア
ンモニウムブロマイド、ラウリルベンジルジメチルエチ
ルアンモニウムクロライド、ジオレイルジメチルアンモ
ニウムブロマイド、シミリスチルトリメチルアンモニウ
ムクロライド、ジラウリルトリメチルアンモニウムクロ
ライド、ラウリルジメチルイソプロピルアンモニウムク
ロライド、ジラウリルトリメチルアンモニウムのメチル
硫酸塩、オレイルトリメチルアンモニウムクロライド、
オレイルトリメチルアンモニウムのメチル硫酸塩、ミリ
スチルジメチルエチルベンジルアンモニウムクロライド
、オレイルベンジルジメチルエチルアンモニウムブロマ
イド、ステアリルジメチルエチルアンモニウムブロマイ
ド、ミリスチルジメチルエチルアンモニウムクロライド
、ジイソブチルフェノキシエチルジメチルベンジルアン
モニウムクロライド、ラウリルジメチルメタクリルアン
モニウムクロリドジオクタデシルジメチルアンモニウム
クロライド、ラウリルジメチルシクロヘキシルアンモニ
ウムブロマイドなどが挙げられ、一般式(II)で示さ
れる化合物としては、ラウリルピリジニウムクロライド
、ステアリルピリジニウムクロライド、オレイルピリジ
ニウムクロライド、ステアリルピリジニウムクロライド
、ラウリルピリジニウムブロマイド、ステアラミドメチ
ルピリジニウムクロライド、ステアリルピリジニウムク
ロライドなどが挙げられ、これらの単独または混合して
用いてもよい。
本発明方法において、第四級アンモニウム化合物は使用
される現像液に対して、0.01−5%、好ましくは0
.01N1%、さらに好ましくは0.1〜0,5%配合
して用いられる。配合方法は限られるものではないが、
本発明においては、予め水に溶解して配合することが好
ましい。これらの化合物は毒性は全くなく、また入手容
易であり、かつ低コストの点などでも有利である。
される現像液に対して、0.01−5%、好ましくは0
.01N1%、さらに好ましくは0.1〜0,5%配合
して用いられる。配合方法は限られるものではないが、
本発明においては、予め水に溶解して配合することが好
ましい。これらの化合物は毒性は全くなく、また入手容
易であり、かつ低コストの点などでも有利である。
本発明方法において前記感光性樹脂層を像形成したのち
水性現像液で処理する方法としては既に公知の方法をも
ちいることができる。像形成露光後の版は画像部を外側
になる様に粘着版またはマグネット版に貼りつけ、現像
液中にブラシをとりつけてこのブラシにこすりつけて未
硬化部を除去する方法か、現像液を強く吹きつけるスプ
レー法により未硬化部を除去する方法など、こちらを採
用してもよい。
水性現像液で処理する方法としては既に公知の方法をも
ちいることができる。像形成露光後の版は画像部を外側
になる様に粘着版またはマグネット版に貼りつけ、現像
液中にブラシをとりつけてこのブラシにこすりつけて未
硬化部を除去する方法か、現像液を強く吹きつけるスプ
レー法により未硬化部を除去する方法など、こちらを採
用してもよい。
(実施例)
以下本発明を実施例、比較例を用いて具体的に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、助剤の配合量はすべて液量に対する固形分(重量
%)で示した。
%)で示した。
実施例1.〜5.比較例1.〜5゜
非イオン性感光性樹脂層(トレリーフWF−95BSn
:東し■製、A−3サイズ)5枚にそれぞれ画像ネガ
を当て、露光機(日本電子精機■製)にて4分間露光し
た。露光後、ブラシ式自動現像装置(ロポ電子■製:容
量601)を用い、第1表に示した助剤をそれぞれ0.
2%配合した水道水で現像を行い、その後、溶出廃液の
入ったままにしておいた。一方、水溶性ポリアミド感光
性樹脂層(プリンタイI−UF−95G:東洋紡績■製
:A−3サイズ)5枚にそれぞれ画像ネガを当て、上記
同様の露光機で4分間露光し、続いて前記溶出廃液の入
ったままの現像機で現像テストを行った。その結果を第
1表に併記する。なお助剤を取換える場合は、掃除を行
い、現像液を新しい水に取換えた状態で行った。
:東し■製、A−3サイズ)5枚にそれぞれ画像ネガ
を当て、露光機(日本電子精機■製)にて4分間露光し
た。露光後、ブラシ式自動現像装置(ロポ電子■製:容
量601)を用い、第1表に示した助剤をそれぞれ0.
2%配合した水道水で現像を行い、その後、溶出廃液の
入ったままにしておいた。一方、水溶性ポリアミド感光
性樹脂層(プリンタイI−UF−95G:東洋紡績■製
:A−3サイズ)5枚にそれぞれ画像ネガを当て、上記
同様の露光機で4分間露光し、続いて前記溶出廃液の入
ったままの現像機で現像テストを行った。その結果を第
1表に併記する。なお助剤を取換える場合は、掃除を行
い、現像液を新しい水に取換えた状態で行った。
第1表中 ○:異種樹脂同志の反応が全くなく、微細
粒子が分散して乳化状態になっ ており、付着または沈降が全くなく 液が安定している。
粒子が分散して乳化状態になっ ており、付着または沈降が全くなく 液が安定している。
Δ:異種樹脂同志の反応が時々起こ
り、肉眼で感知できる粒子となって
版上に付着した。
×:異種樹脂同志が反応して、巨大
分子となり、ガム状になってブラシ、
板壁、ローラー、樹脂版などに付着
した。
(本発明の効果)
第1表より明らかなように、本発明方法を採用すること
により、微細粒子分散状の安定した現像液を維持するこ
とができ、機械や版上べの樹脂の付着が全くなく、常に
一定した良好な印刷版が得られた。また機械のメンテナ
ンスもよくなり、生産効率も向上した。
により、微細粒子分散状の安定した現像液を維持するこ
とができ、機械や版上べの樹脂の付着が全くなく、常に
一定した良好な印刷版が得られた。また機械のメンテナ
ンスもよくなり、生産効率も向上した。
特許出願人 東洋紡績株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、水溶性ポリアミドを含む感光性組成物を、像形成露
光後、下記一般式( I )および(II)で示される第四
級アンモニウム塩より選ばれた一種以上を含有した水性
現像液を用いて現像することを特徴とする水溶性感光性
樹脂版の現像方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 但しRは炭素原子数12〜18のアルキル 基またはアルケニル基、R_2、R_3、R_4、は水
素原子または炭素原子数1〜4のアルキル基、XはCl
、Br、HSO_4、 CH_3SO_4を示す。 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 但しRは炭素数12〜18のアルキル基ま たはアルケニル基を示し、−COO−、 −CONH、−O−、−COOR’−、 −CONHR’、−OR’−(R’はアルケニル基を示
す)などを介して窒素原子と結合していてもよい。Xは
Cl、Br、HSO_4CH_3SO_4を示す。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP152788A JPH01177538A (ja) | 1988-01-07 | 1988-01-07 | 水溶性感光性樹脂版の現像方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP152788A JPH01177538A (ja) | 1988-01-07 | 1988-01-07 | 水溶性感光性樹脂版の現像方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01177538A true JPH01177538A (ja) | 1989-07-13 |
Family
ID=11503986
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP152788A Pending JPH01177538A (ja) | 1988-01-07 | 1988-01-07 | 水溶性感光性樹脂版の現像方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01177538A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5913238A (ja) * | 1982-07-14 | 1984-01-24 | Toppan Printing Co Ltd | 金属系画像形成材料用処理液 |
| JPS5962850A (ja) * | 1982-06-17 | 1984-04-10 | シツプレ−・カンパニ−・インコ−ポレ−テツド | フオトレジストの現像組成物および現像法 |
| JPS61151537A (ja) * | 1984-12-25 | 1986-07-10 | Toshiba Corp | ポジ型フオトレジスト現像液組成物 |
-
1988
- 1988-01-07 JP JP152788A patent/JPH01177538A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5962850A (ja) * | 1982-06-17 | 1984-04-10 | シツプレ−・カンパニ−・インコ−ポレ−テツド | フオトレジストの現像組成物および現像法 |
| JPS5913238A (ja) * | 1982-07-14 | 1984-01-24 | Toppan Printing Co Ltd | 金属系画像形成材料用処理液 |
| JPS61151537A (ja) * | 1984-12-25 | 1986-07-10 | Toshiba Corp | ポジ型フオトレジスト現像液組成物 |
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