JPH01177541A - 平版印刷版の製造方法 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は感光性平版印刷版を現像処理し、平版印刷版を
製造する方法に関し、より詳しくは、常に新らしい現像
液を一定量供給することにより安定した現像処理を行な
い得るように改良された使い捨て現像方式に好適に適用
できる平版印刷版の製造方法に関する。
製造する方法に関し、より詳しくは、常に新らしい現像
液を一定量供給することにより安定した現像処理を行な
い得るように改良された使い捨て現像方式に好適に適用
できる平版印刷版の製造方法に関する。
感光性平版印刷版(以下PS版と呼ぶ)を多量に現像処
理する場合、一般に自動現像機が用いられる。
理する場合、一般に自動現像機が用いられる。
これに用いられる自動現像機は、PS版を水平搬送する
装置と現像液槽およびスプレー装置からなり、露光済み
のPS版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた現
像液をスプレーノズルから吹付けて現像処理する方法が
一般にとられている。
装置と現像液槽およびスプレー装置からなり、露光済み
のPS版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた現
像液をスプレーノズルから吹付けて現像処理する方法が
一般にとられている。
別に現像液が満たされた現像処理槽中を液中ガイドロー
ルなどによってPS版を浸漬搬送させて現像処理する方
法も知られている。
ルなどによってPS版を浸漬搬送させて現像処理する方
法も知られている。
このような自動現像機処理においては、経済的な観点か
ら、現像液をくり返し循環使用しているので、現像液中
に溶出した感光層成分の濃度が徐々に高くなり、それに
伴って現像液の能力が劣化したり、現像液中にカスやヘ
ドロが生じることなどの欠点があった。更に現像液がア
ルカリ性の場合、空気中の炭酸ガスを吸収して現像液の
劣化があった。
ら、現像液をくり返し循環使用しているので、現像液中
に溶出した感光層成分の濃度が徐々に高くなり、それに
伴って現像液の能力が劣化したり、現像液中にカスやヘ
ドロが生じることなどの欠点があった。更に現像液がア
ルカリ性の場合、空気中の炭酸ガスを吸収して現像液の
劣化があった。
上記の液の劣化に加えて、スプレーの液ハネによる自動
現像機の汚れもあり、頻繁に現像液を交換して自動現像
機を洗う必要があった。
現像機の汚れもあり、頻繁に現像液を交換して自動現像
機を洗う必要があった。
これらの欠点を改善する目的で多量のPS版を循環使用
する現像処理方式で処理する場合、特開昭55−115
039号および同58−95349号各公報に開示され
ているような現像液補充方式が提案されており、これに
より現像処理を長期間安定に保つことができる。しかし
この方式にも補充装置の微調整や整備等の必要があった
。
する現像処理方式で処理する場合、特開昭55−115
039号および同58−95349号各公報に開示され
ているような現像液補充方式が提案されており、これに
より現像処理を長期間安定に保つことができる。しかし
この方式にも補充装置の微調整や整備等の必要があった
。
以上のような自動現像機を用、いて多量の現像液を循環
再使用する方式の欠点を解決する方法として露光された
PS版の露光面に一定量の新らしい現像液を供給して現
像した後、現像液を除去し、該現像液を廃棄する方法(
本明細書中、使い捨て現像方式と称す′)が、特開昭4
8−29505号、特開昭55−32044号および米
国特許4.222,656号に開示されている。
再使用する方式の欠点を解決する方法として露光された
PS版の露光面に一定量の新らしい現像液を供給して現
像した後、現像液を除去し、該現像液を廃棄する方法(
本明細書中、使い捨て現像方式と称す′)が、特開昭4
8−29505号、特開昭55−32044号および米
国特許4.222,656号に開示されている。
この使い捨て現像方式では、現像に必要な最少量の現像
液をPS版の上に一定時間均一に保持することが必要で
あるが、実際には現像液が不均一となり易く、現像ムラ
を生じ易かった。特:ごPS版の先端や、PS版の支持
体に凹凸がある場合この現像ムラを生じ易かった。この
ため、現像液を多量に供給することや、ブラシやスポン
ジなどを用いて現像液を均一に保持するなどの対策がと
られてきた。しかし、こうした対策では現像に必要な最
少量の現像液よりも多量の現像液が必要となり、ランニ
ングコスト上好ましくなかった。
液をPS版の上に一定時間均一に保持することが必要で
あるが、実際には現像液が不均一となり易く、現像ムラ
を生じ易かった。特:ごPS版の先端や、PS版の支持
体に凹凸がある場合この現像ムラを生じ易かった。この
ため、現像液を多量に供給することや、ブラシやスポン
ジなどを用いて現像液を均一に保持するなどの対策がと
られてきた。しかし、こうした対策では現像に必要な最
少量の現像液よりも多量の現像液が必要となり、ランニ
ングコスト上好ましくなかった。
この使い捨て現像方式の更に重大な欠点は、表裏両面j
こ感光層を有する両面使用型のPS版を表裏同時に現像
処理できないことであった。即ち両面使用型のPS版を
使い捨て現像方式で処理する場合、水平搬送される版の
下面にも現像に必要な現像液を一定時間均一に保持する
ことが必要であるが、実際には現像液が保持できずにボ
タ落ちしたり、より低い部分に集中し、全面の均一な現
像は全く不可能であった。このため、両面使用型のPS
版をこの方式で処理する場合は、片面づつ上面を逐次処
理する方法も取られたが、下面への現像液の廻り込みに
よる現像ムラを生じ易かった。
こ感光層を有する両面使用型のPS版を表裏同時に現像
処理できないことであった。即ち両面使用型のPS版を
使い捨て現像方式で処理する場合、水平搬送される版の
下面にも現像に必要な現像液を一定時間均一に保持する
ことが必要であるが、実際には現像液が保持できずにボ
タ落ちしたり、より低い部分に集中し、全面の均一な現
像は全く不可能であった。このため、両面使用型のPS
版をこの方式で処理する場合は、片面づつ上面を逐次処
理する方法も取られたが、下面への現像液の廻り込みに
よる現像ムラを生じ易かった。
上述の欠点を克服するため、両面使用型のPS版を垂直
に搬送して、版の両側から現像液を供給することも考え
られたが、現像液が版の上を流れ落ちて、版上に均一に
保持されず現像ムラを生じ易かった。
に搬送して、版の両側から現像液を供給することも考え
られたが、現像液が版の上を流れ落ちて、版上に均一に
保持されず現像ムラを生じ易かった。
本発明の目的は、PS版の使い捨て現像方式の現像ムラ
の問題を解決し、長期間に亘って安定で且つ経済的に有
利な現像処理方法を提供するものであり、更には、両面
使用型のPS版の表裏両面を安定して現像処理できる平
版印刷版の製造方法を提供するものである。更には、少
量の現像液で常に均一な仕上がりを得ることができる平
版印刷版の製造方法を提供することにある。
の問題を解決し、長期間に亘って安定で且つ経済的に有
利な現像処理方法を提供するものであり、更には、両面
使用型のPS版の表裏両面を安定して現像処理できる平
版印刷版の製造方法を提供するものである。更には、少
量の現像液で常に均一な仕上がりを得ることができる平
版印刷版の製造方法を提供することにある。
前記の目的は、使い捨て現像方式において、現像液の粘
度を適切な範囲に調整することによって達成することが
できた。すなわち、本発明は、感光性平版印刷版を画像
露光し、露光面に現像液を供給して、現像する平版印刷
版の製造方法において、該現像液の粘度が、25℃で5
cps−10、000cpsの範囲の現像液を用いる
ことを特徴とする平版印刷版の製造方法である。
度を適切な範囲に調整することによって達成することが
できた。すなわち、本発明は、感光性平版印刷版を画像
露光し、露光面に現像液を供給して、現像する平版印刷
版の製造方法において、該現像液の粘度が、25℃で5
cps−10、000cpsの範囲の現像液を用いる
ことを特徴とする平版印刷版の製造方法である。
以下、本発明について詳細に説明する。
■、現像液
以下、本発明に用いる現像液について説明する。
(i)粘度
本発明を特徴づける現像液の好ましい粘度は5〜10,
000cpsであり更により好ましくは50〜5,0.
00cpsである。この範囲より低い粘度では、現像液
を版上に均一に保持することが出来ずまた粘度が高すぎ
ると、現像液の循環や版上べの供給に支障をきたす。
000cpsであり更により好ましくは50〜5,0.
00cpsである。この範囲より低い粘度では、現像液
を版上に均一に保持することが出来ずまた粘度が高すぎ
ると、現像液の循環や版上べの供給に支障をきたす。
(11)増粘剤
本発明に用いるPS版用の現像液は通常界面活性剤、有
機溶剤、アルカリ剤、無機塩類などかろなるが、本発明
に用いる現像液は、更にこれに増粘剤を添加することに
よって粘度が調整される。
機溶剤、アルカリ剤、無機塩類などかろなるが、本発明
に用いる現像液は、更にこれに増粘剤を添加することに
よって粘度が調整される。
本発明の現像液に用いられる増粘剤としては、粘度を目
標の5 cps−10,000CI)Sの範囲に収めら
れるようなものであれば特に制限はないが、少量の添加
で粘度を上げて、かつ現像処理能力に影響のないものが
好ましい。か5る増粘剤としては各種水溶性高分子化合
物や珪酸微粉末などが用いられる。その中でも天然また
は合成の水溶性高分子が好ましい。
標の5 cps−10,000CI)Sの範囲に収めら
れるようなものであれば特に制限はないが、少量の添加
で粘度を上げて、かつ現像処理能力に影響のないものが
好ましい。か5る増粘剤としては各種水溶性高分子化合
物や珪酸微粉末などが用いられる。その中でも天然また
は合成の水溶性高分子が好ましい。
天然高分子には、かんしょデンプン、ばれいしょデンプ
ン、タピオカデンプン、小麦デンプン及びコーンスター
チ等のデンプン類1、カラジーナン、ラミナラン、海ソ
ウマンナン、ふのり、アイリッシュモス、寒天及びアル
ギン酸ナトリウム等の藻類から得られるもの、トロロア
オイ、マンナン、クインスシード、ペクチン、トラガカ
ントガム、カラヤガム、キサンチンガム、グアービーン
ガム、ローカストビーンガム、アラビアガム、キアロプ
ガム及びベンゾインガム等の植物性粘質物、デキストラ
ン、グルカン及びレバンなどのホモ多糖並びにサクシノ
グルカン及びザンタンガムなどのへテロ多糖等の微生物
粘質物、にかわ、ゼラチン、カゼイン及びコラーゲン等
のタンパク質などが挙げられる。
ン、タピオカデンプン、小麦デンプン及びコーンスター
チ等のデンプン類1、カラジーナン、ラミナラン、海ソ
ウマンナン、ふのり、アイリッシュモス、寒天及びアル
ギン酸ナトリウム等の藻類から得られるもの、トロロア
オイ、マンナン、クインスシード、ペクチン、トラガカ
ントガム、カラヤガム、キサンチンガム、グアービーン
ガム、ローカストビーンガム、アラビアガム、キアロプ
ガム及びベンゾインガム等の植物性粘質物、デキストラ
ン、グルカン及びレバンなどのホモ多糖並びにサクシノ
グルカン及びザンタンガムなどのへテロ多糖等の微生物
粘質物、にかわ、ゼラチン、カゼイン及びコラーゲン等
のタンパク質などが挙げられる。
半天然物(半合成品)にはアルギン酸プロピレングリコ
ールエステルの他に、ビスコース、メチルセルロース、
エチルセルロース、メチルエチルセルロース、ヒドロキ
シエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒ
ドロキシプロピルセルロース、ヒト、ロキシプロビルメ
チルセルロース、ヒドロキシプロピルエチルセルロース
及ヒヒドロキシブロピルメ、チルセルロースフタレート
等の繊維素誘導体並びに加工でんぷん等があげられる。
ールエステルの他に、ビスコース、メチルセルロース、
エチルセルロース、メチルエチルセルロース、ヒドロキ
シエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒ
ドロキシプロピルセルロース、ヒト、ロキシプロビルメ
チルセルロース、ヒドロキシプロピルエチルセルロース
及ヒヒドロキシブロピルメ、チルセルロースフタレート
等の繊維素誘導体並びに加工でんぷん等があげられる。
加工でんぷんには白色デキストリン、黄色デキストリン
及びブリティッシュガムなどの焙焼でんぷん、酵素デキ
ストリン及びシアーディンガーデキストリンなどの酵素
変性デキス)IJン、可溶化でんぷんに示される酸分解
でんぷん、ジアルデヒドスターチに示される酸化でんぷ
ん、変性アルファー化でんぷん及び無変性アルファー化
でんぷん等のアルファー化でんぷん、りん酸でんぷん、
脂肪酸でんぷん、硫酸でんぷん、硝酸でんぷん、キサン
トゲン酸でんぷん及びカルバミン酸でんぷんなどのエス
テル化でんぷん、カルボキシアルキルでんぷん、ヒドロ
キシアルキルでんぷん、スルフォアルキルでんぷん、シ
アノエチルでんぷん、アリルでんぷん、ベンジルでんぷ
ん、カルバミルエチルでんぷん及びジアルキルアミノで
んぶんなどのエーテル化でんぷん、メチロール架橋でん
ぷん、ヒドロキシアルキル架橋でんぷん、りん酸架橋で
んぷん及びジカルボン酸架橋でんぷんなどの架橋でんぷ
ん、でんぷんポリアクリルアミド共重合体でんぷんポリ
アクリル酸共重合体、でんぷんポリ酢酸ビニル共重合体
、でんぷんポリアクリロニトリル共重合体、カチオン性
でんぷんポリアクリル酸エステル共重合体、カチオン性
でんぷんビニルポリマー共重合体、でんぷんポリスチレ
ンマレイン酸共重合体及びでんぷんポリエチレンオキサ
イド共重合体などのでんぷんグラフト共重合体などがあ
げられる。
及びブリティッシュガムなどの焙焼でんぷん、酵素デキ
ストリン及びシアーディンガーデキストリンなどの酵素
変性デキス)IJン、可溶化でんぷんに示される酸分解
でんぷん、ジアルデヒドスターチに示される酸化でんぷ
ん、変性アルファー化でんぷん及び無変性アルファー化
でんぷん等のアルファー化でんぷん、りん酸でんぷん、
脂肪酸でんぷん、硫酸でんぷん、硝酸でんぷん、キサン
トゲン酸でんぷん及びカルバミン酸でんぷんなどのエス
テル化でんぷん、カルボキシアルキルでんぷん、ヒドロ
キシアルキルでんぷん、スルフォアルキルでんぷん、シ
アノエチルでんぷん、アリルでんぷん、ベンジルでんぷ
ん、カルバミルエチルでんぷん及びジアルキルアミノで
んぶんなどのエーテル化でんぷん、メチロール架橋でん
ぷん、ヒドロキシアルキル架橋でんぷん、りん酸架橋で
んぷん及びジカルボン酸架橋でんぷんなどの架橋でんぷ
ん、でんぷんポリアクリルアミド共重合体でんぷんポリ
アクリル酸共重合体、でんぷんポリ酢酸ビニル共重合体
、でんぷんポリアクリロニトリル共重合体、カチオン性
でんぷんポリアクリル酸エステル共重合体、カチオン性
でんぷんビニルポリマー共重合体、でんぷんポリスチレ
ンマレイン酸共重合体及びでんぷんポリエチレンオキサ
イド共重合体などのでんぷんグラフト共重合体などがあ
げられる。
合成品にはポリビニルアルコールの他部分アセタール化
ポリビニルアルコール、アリル変性ポリビニルアルコ−
JL=、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルエチル
エーテル及びポリビニルイソブチルエーテルなどの変性
ポリビニルアルコーノペポリアクリル酸ナトリウム、ポ
リアクリル酸エステル部分けん化物、ポリアクリル酸エ
ステル共重合体部分けん化物、ポリメタアクリル酸塩及
びポリアクリルアマイドなどのポリアクリル酸誘導体お
よびポリメタクリル酸誘導体、ポリエチレングリコール
、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピロリドンとビニ
ルアセテートの共重合物、カルボキシビニルポリマー、
スチレン−無水マレイン酸共重合物、スチレン−クロト
ン酸共重合物、ポリスチレンスルホン酸塩、2−アクリ
ルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸の重合物及び
他のモノマーとの共重合物やそれらの塩などがあげられ
る。これらのうち半合成および合成高分子化合物は液の
長期安定性が良く好ましい。これらの水溶性高分子化合
物は単独もしくは、二種以上組み合わせて使用できる。
ポリビニルアルコール、アリル変性ポリビニルアルコ−
JL=、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルエチル
エーテル及びポリビニルイソブチルエーテルなどの変性
ポリビニルアルコーノペポリアクリル酸ナトリウム、ポ
リアクリル酸エステル部分けん化物、ポリアクリル酸エ
ステル共重合体部分けん化物、ポリメタアクリル酸塩及
びポリアクリルアマイドなどのポリアクリル酸誘導体お
よびポリメタクリル酸誘導体、ポリエチレングリコール
、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピロリドンとビニ
ルアセテートの共重合物、カルボキシビニルポリマー、
スチレン−無水マレイン酸共重合物、スチレン−クロト
ン酸共重合物、ポリスチレンスルホン酸塩、2−アクリ
ルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸の重合物及び
他のモノマーとの共重合物やそれらの塩などがあげられ
る。これらのうち半合成および合成高分子化合物は液の
長期安定性が良く好ましい。これらの水溶性高分子化合
物は単独もしくは、二種以上組み合わせて使用できる。
またこれらの水溶性高分子化合物の好ましい添加量は所
望の粘度を得るに必要な量であり、これは夫々の高分子
化合物の分子量や、水への溶解状態により決まるもので
ある。
望の粘度を得るに必要な量であり、これは夫々の高分子
化合物の分子量や、水への溶解状態により決まるもので
ある。
従って該水溶性高分子化合物の好ましい添加量は一律に
規定できるものでないが現像液に対して0.5〜20重
量%程度添加するのが好ましい。
規定できるものでないが現像液に対して0.5〜20重
量%程度添加するのが好ましい。
(iii )現像液の組成
本発明の現像液は、現像されるPS版の種類によって異
る。例えば、p−ジアゾジフェニルアミンを主成分とす
るネガ型P、S版用の現像液の代表的な例としては、特
公昭56−42860号公報に記載されているようなベ
ンジルアルコール、アニオン界面活性剤および、水溶性
亜硫酸塩からなる現像液が上げられる。本発明の現像液
はこの様な組成の現像液に先に述べた増粘剤を添加した
ものである。
る。例えば、p−ジアゾジフェニルアミンを主成分とす
るネガ型P、S版用の現像液の代表的な例としては、特
公昭56−42860号公報に記載されているようなベ
ンジルアルコール、アニオン界面活性剤および、水溶性
亜硫酸塩からなる現像液が上げられる。本発明の現像液
はこの様な組成の現像液に先に述べた増粘剤を添加した
ものである。
0−キノンジアジド型28版に本発明の現像液を適用す
る場合、その現像液はアルカリ性であれば特に制限はな
いが、処理時間、露光部の溶出の完全性等を考慮すると
、25℃でのpHが約10.5以上とするのが好ましい
。
る場合、その現像液はアルカリ性であれば特に制限はな
いが、処理時間、露光部の溶出の完全性等を考慮すると
、25℃でのpHが約10.5以上とするのが好ましい
。
イ)アルカリ剤
かかるアルカリ剤としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸
カリウム、ケイ酸アンモニウム、水酸化ナトリウム、水
酸化リチウム、水酸化カリウム、第三リン酸ナトリウム
、第ニリン酸ナトリウム、第三リン酸カリウム、第ニリ
ン酸カリウム、第三リン酸アンモニウム、第ニリン酸ア
ンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム
、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウムな
どのような無機アルカリ剤、モノ−、ジーまたはトリエ
タノールアミンおよび水酸化テトラアルキルアンモニア
のような有機アルカリ剤および有機珪酸アンモニウム等
が有用である。
カリウム、ケイ酸アンモニウム、水酸化ナトリウム、水
酸化リチウム、水酸化カリウム、第三リン酸ナトリウム
、第ニリン酸ナトリウム、第三リン酸カリウム、第ニリ
ン酸カリウム、第三リン酸アンモニウム、第ニリン酸ア
ンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム
、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウムな
どのような無機アルカリ剤、モノ−、ジーまたはトリエ
タノールアミンおよび水酸化テトラアルキルアンモニア
のような有機アルカリ剤および有機珪酸アンモニウム等
が有用である。
これらのアルカリ剤のうち、珪酸塩が最も°好ましい。
珪酸塩の使用量は現像液総量に対して一般に約0.5〜
約10重量%、好ましくは1〜8重量%、より好ましく
は1〜6重量%である。
約10重量%、好ましくは1〜8重量%、より好ましく
は1〜6重量%である。
珪酸塩はS i 02 /M O2(Mはアルカリ金属
を示す)で示されるが、このモル比が小さい方が迅速現
像性に富んでおり、特にブラシやスポンジによるこすり
のような現像促進操作がないか、もしくは簡易な現像促
進操作しかもたない本発明の製版方法においては、この
モル比が1.2以下であることが好ましい。また増粘剤
として水溶性高分子化合物を用いた場合、これがアルカ
リ剤を消費する場合もある。この場合、消費されたアル
カリ剤を補っておくこ、とが好ましい。
を示す)で示されるが、このモル比が小さい方が迅速現
像性に富んでおり、特にブラシやスポンジによるこすり
のような現像促進操作がないか、もしくは簡易な現像促
進操作しかもたない本発明の製版方法においては、この
モル比が1.2以下であることが好ましい。また増粘剤
として水溶性高分子化合物を用いた場合、これがアルカ
リ剤を消費する場合もある。この場合、消費されたアル
カリ剤を補っておくこ、とが好ましい。
0)界面活性剤
更に、0−キノンジアジド型感光層を有するPS版用の
現像剤には、画像部を保護して現像過多を防ぐために、
例えば、特開昭50−51324号公報記載のアルキル
ナフタレンスルホン酸ソーダ、N−テトラデシル−N、
N−ジヒドロキシエチルベタイン等のアニオンまたは両
性界面活性剤、米国特許第4,374,920号明細書
記載のテトラメチルデシンジオール等の非イオン性界面
活性剤を添加することができる。
現像剤には、画像部を保護して現像過多を防ぐために、
例えば、特開昭50−51324号公報記載のアルキル
ナフタレンスルホン酸ソーダ、N−テトラデシル−N、
N−ジヒドロキシエチルベタイン等のアニオンまたは両
性界面活性剤、米国特許第4,374,920号明細書
記載のテトラメチルデシンジオール等の非イオン性界面
活性剤を添加することができる。
更にこの種の現像液には、版上のぬれを向上させるため
に界面活性剤を添加することが好ましい。かNる界面活
性剤としては、アルキルジフェニルエーテルジスルホン
酸ソーダやアルキルスルホン酸ソーダなどの一部のアニ
オン型界面活性剤を用いることができるが、特に好まし
い界面活性物質は分子内にパーフルオロアルキル基を含
有するフッ素系の界面活性剤である。
に界面活性剤を添加することが好ましい。かNる界面活
性剤としては、アルキルジフェニルエーテルジスルホン
酸ソーダやアルキルスルホン酸ソーダなどの一部のアニ
オン型界面活性剤を用いることができるが、特に好まし
い界面活性物質は分子内にパーフルオロアルキル基を含
有するフッ素系の界面活性剤である。
か\るフッ素系界面活性剤としては、パーフルオロアル
キルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩
、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニオン
型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、パー
フルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などのカチ
オン型およびパーフルオロアルキルアミンオキサイド、
パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフ
ルオロアルキル基および親水性基含有オリゴマー、パー
フルオロアルキル基および親油性基含有オリゴマー、パ
ーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基含有オ
リゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基含有
ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。
キルカルボン酸塩、パーフルオロアルキルスルホン酸塩
、パーフルオロアルキルリン酸エステルなどのアニオン
型、パーフルオロアルキルベタインなどの両性型、パー
フルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩などのカチ
オン型およびパーフルオロアルキルアミンオキサイド、
パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物、パーフ
ルオロアルキル基および親水性基含有オリゴマー、パー
フルオロアルキル基および親油性基含有オリゴマー、パ
ーフルオロアルキル基、親水性基および親油性基含有オ
リゴマー、パーフルオロアルキル基および親油性基含有
ウレタンなどの非イオン型が挙げられる。
これらの界面活性剤の好ましい添加量は表面張力を下げ
るのに必要な量であるが概ね現像液総量に対し、Oyo
01〜3重量%の範囲が好ましく、更に好ましくは、
0.003〜0.5重量%である。
るのに必要な量であるが概ね現像液総量に対し、Oyo
01〜3重量%の範囲が好ましく、更に好ましくは、
0.003〜0.5重量%である。
本発明の現像液には、前記特開昭50−51324号公
報や、米国特許第4,374.920号明細書記載の界
面活性剤をはじめとして種々界面活性剤を併用すること
ができる。
報や、米国特許第4,374.920号明細書記載の界
面活性剤をはじめとして種々界面活性剤を併用すること
ができる。
ハ)その他の添加剤
本発明の現像液には更に現像性能を高めるために以下の
ような添加剤を加えることができる。
ような添加剤を加えることができる。
例えば、特開昭58−75152号公報記載のNaCR
1KCl、KBr等の中性塩、特開昭58−19095
2号公報記載のEDTA、NTA等のキレート剤、特開
昭59−121336号公報記載(D CCO(NH3
)6〕C1s、C0Cj72・6H20等の錯体、特開
昭55−95946号公報記載のp−ジメチルアミノメ
チルポリスチレンのメチルクロライド4級化物等のカチ
オニックポリマー、特開昭56−142528号公報記
載のビニルベンゼンジルトリメチルアンモニウムクロラ
イドとアクリル酸ソーダの共重合体等の両性高分子電解
質、特開昭57−192952号公報記載の亜硫酸ソー
ダ等の還元性無機塩、特開昭58−59444号公報記
載の塩化リチウム等の無機リチウム化合物、特公昭50
−34442号公報記載の安息香酸リチウム等の有機リ
チウム化合物、特開昭59−75255号公報記載の”
’1% TI等を含む有機金属界面活性剤、特開昭59
−84241号公報記載の有機硼素化合物、ヨーロッパ
特許第101010号公報記載のテトラアルキルアンモ
ニウムオキサイド等の4級アンモニウム塩、ベンジルア
ルコール、エチレングリコールモノフェニルエーテル等
の有機溶剤等が挙げられる。
1KCl、KBr等の中性塩、特開昭58−19095
2号公報記載のEDTA、NTA等のキレート剤、特開
昭59−121336号公報記載(D CCO(NH3
)6〕C1s、C0Cj72・6H20等の錯体、特開
昭55−95946号公報記載のp−ジメチルアミノメ
チルポリスチレンのメチルクロライド4級化物等のカチ
オニックポリマー、特開昭56−142528号公報記
載のビニルベンゼンジルトリメチルアンモニウムクロラ
イドとアクリル酸ソーダの共重合体等の両性高分子電解
質、特開昭57−192952号公報記載の亜硫酸ソー
ダ等の還元性無機塩、特開昭58−59444号公報記
載の塩化リチウム等の無機リチウム化合物、特公昭50
−34442号公報記載の安息香酸リチウム等の有機リ
チウム化合物、特開昭59−75255号公報記載の”
’1% TI等を含む有機金属界面活性剤、特開昭59
−84241号公報記載の有機硼素化合物、ヨーロッパ
特許第101010号公報記載のテトラアルキルアンモ
ニウムオキサイド等の4級アンモニウム塩、ベンジルア
ルコール、エチレングリコールモノフェニルエーテル等
の有機溶剤等が挙げられる。
n、ps版
本発明の方法において適したPS版は、特に制限される
ものではないが、例えば英国特許第1.350,521
号明細書に開示されているジアゾI脂(p−ジアゾジフ
ェニルアミンとパラホルムアルデヒドとの縮合物の塩)
とシェラツクとの混合物からなる感光層をアルミニウム
板上に設けたもの、英国特許第1,460,978号お
よび同第1.505,739号の各明細書に記載されて
いるジアゾ樹脂と、ヒドロキシエチルアクリレート単位
またはヒドロキシエチルアクリレート単位を主な繰返し
単位として含むポリマーとの混合物からなる感光層を、
アルミニウム板上に設けたネガ型PS版、および0−キ
ノンジアジド化合物からなる感光層をアルミニウム板上
に設けたポジ型PS版、更に、特公昭56−14970
号公報に開示されているO−キノンジアジド化合物を主
成分とする感光層を有するものであって、画像露光した
後加熱、全面露光および現像処理によりネガ作用となる
ネガ型PS版などを代表的な例として挙げることができ
る。他に、光重合型感光層や光架橋型感光層を有するネ
ガ型PS版も同様に本発明の方法で好適に処理すること
ができる。
ものではないが、例えば英国特許第1.350,521
号明細書に開示されているジアゾI脂(p−ジアゾジフ
ェニルアミンとパラホルムアルデヒドとの縮合物の塩)
とシェラツクとの混合物からなる感光層をアルミニウム
板上に設けたもの、英国特許第1,460,978号お
よび同第1.505,739号の各明細書に記載されて
いるジアゾ樹脂と、ヒドロキシエチルアクリレート単位
またはヒドロキシエチルアクリレート単位を主な繰返し
単位として含むポリマーとの混合物からなる感光層を、
アルミニウム板上に設けたネガ型PS版、および0−キ
ノンジアジド化合物からなる感光層をアルミニウム板上
に設けたポジ型PS版、更に、特公昭56−14970
号公報に開示されているO−キノンジアジド化合物を主
成分とする感光層を有するものであって、画像露光した
後加熱、全面露光および現像処理によりネガ作用となる
ネガ型PS版などを代表的な例として挙げることができ
る。他に、光重合型感光層や光架橋型感光層を有するネ
ガ型PS版も同様に本発明の方法で好適に処理すること
ができる。
本発明の製版方法を好ましく適用できるPS版として、
支持体上にO−キノンジアジド化合物、より好ましくは
0−ナフトキノンジアジド化合物からなる感光層を設け
たものを例に説明する。
支持体上にO−キノンジアジド化合物、より好ましくは
0−ナフトキノンジアジド化合物からなる感光層を設け
たものを例に説明する。
(i)支持体
好適な支持体としてはアルミニウム(アルミニウム合金
を含む)、亜鉛、錫、銅、鉄などのス、酪酸セルロース
、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールな
どのプラスチックフィルムまたはシート、上記金属を蒸
着もしくはラミネートした紙もしくはプラスチックフィ
ルム、ポリエチレンテレツクレートフィルム上にアルミ
ニウムシートを結合した複合シートなどを用いることが
できる。この中で、アルミニウム表面を有する支持体が
、寸法安定性の観点から特に好ましい。
を含む)、亜鉛、錫、銅、鉄などのス、酪酸セルロース
、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールな
どのプラスチックフィルムまたはシート、上記金属を蒸
着もしくはラミネートした紙もしくはプラスチックフィ
ルム、ポリエチレンテレツクレートフィルム上にアルミ
ニウムシートを結合した複合シートなどを用いることが
できる。この中で、アルミニウム表面を有する支持体が
、寸法安定性の観点から特に好ましい。
これら支持体の表面は、一般に親水化の目的で、あるい
はその上に設ける感光層との有害な反応を防ぎ、かつ密
着性を向上させる目的で表面加工に付される。例えば、
アルミニウム表面を有する支持体にあっては、機械的、
化学的もしくは電気的な研磨処理の後、珪酸ソーダ、弗
化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液さの浸漬
処理あるいは陽極酸化処理を施すことが好ましい。ここ
で、陽極酸化は例えば硫酸、クロム酸、燐酸、硼酸等の
無機塩、若しくは蓚酸、スルファミン酸等の有機酸また
はこれらの塩を単独で、もしくは2種以上の混合物とし
て含有する水溶液を電解液とし、これをアルミニウム板
を陽極として電解することにより実施できる。更に、米
国特許第3.658.662号明細書に記載されている
ようなシリケート電着も有効である。
はその上に設ける感光層との有害な反応を防ぎ、かつ密
着性を向上させる目的で表面加工に付される。例えば、
アルミニウム表面を有する支持体にあっては、機械的、
化学的もしくは電気的な研磨処理の後、珪酸ソーダ、弗
化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液さの浸漬
処理あるいは陽極酸化処理を施すことが好ましい。ここ
で、陽極酸化は例えば硫酸、クロム酸、燐酸、硼酸等の
無機塩、若しくは蓚酸、スルファミン酸等の有機酸また
はこれらの塩を単独で、もしくは2種以上の混合物とし
て含有する水溶液を電解液とし、これをアルミニウム板
を陽極として電解することにより実施できる。更に、米
国特許第3.658.662号明細書に記載されている
ようなシリケート電着も有効である。
このような支持体としては、米国特許第2.714.0
66号明細書に開示されている、砂目立て後珪酸ナトリ
ウム溶液で浸漬処理してアルミニウム板、特公昭47−
5125号公報に開示されている、アルミニウム板を陽
極1化した後、アルカリ金属珪酸塩溶液で浸漬処理した
もの、特公昭46−27481号、特開昭52−586
02号、同52−30503号各公報に開示せれている
、電解グレインを施した後、陽極酸化処理した支持体な
どを例示できる。
66号明細書に開示されている、砂目立て後珪酸ナトリ
ウム溶液で浸漬処理してアルミニウム板、特公昭47−
5125号公報に開示されている、アルミニウム板を陽
極1化した後、アルカリ金属珪酸塩溶液で浸漬処理した
もの、特公昭46−27481号、特開昭52−586
02号、同52−30503号各公報に開示せれている
、電解グレインを施した後、陽極酸化処理した支持体な
どを例示できる。
(■)感光層
この支持体上に設けられる感光層は、上記の如(、特に
0−ナフトキノンジアジド化合物が本発明にとって有効
であり、例えば米国特許第3.046,110号、同第
3,046,111号、同第3,046,112号、同
第3,046,115号、同第3.046,118号、
同第3,046,119号、同第3,046,120号
、同第3,046,121号、同第3,046,122
号、同第3,046,123号、同第3,061,43
0号、同第3,162,809号、同第3.10′6.
465号、同第3.635.709号、同第3,647
,443号各明細書をはじめ、多数の刊行物に記載され
ており、いずれも有利に使用できる。特に、芳香族ヒド
ロキシ化合物の〇−ナフトキノンジアジドスルホン酸エ
ステルまたは0−ナフトキノンジアジドカルボン酸エス
テルおよび芳香族アミン化合物の0−ナフトキノンジア
ジドスルホン酸アミドまたは0−ナフトキノンジアジド
カルボン酸アミドが好ましく、特に米国特許第3,63
5,7.09号明細書に記載されているピロガロールと
アセトンの縮合物に0−ナフトキノンジアジドスルホン
酸をエステル反応させたもの、米国特許第4,028,
111号明細書に記載されている末端にヒドロキシル基
を有するポリエステルに0−ナフトキノンジアジドスル
ホン酸または。−ナフトキノンジアジドカルボン酸をエ
ステル反応させたもの、英国特許第1,494,043
号明細書に記載のようなp−ヒドロキシスチレンのホモ
ポリマーまたはこれと他の共重合し得るモノマーとの共
重合体に0−ナフトキノンジアジドスルホン酸または0
−ナフトキノンジアジドカルボン酸をエステル反応させ
たものが澄れた例である。
0−ナフトキノンジアジド化合物が本発明にとって有効
であり、例えば米国特許第3.046,110号、同第
3,046,111号、同第3,046,112号、同
第3,046,115号、同第3.046,118号、
同第3,046,119号、同第3,046,120号
、同第3,046,121号、同第3,046,122
号、同第3,046,123号、同第3,061,43
0号、同第3,162,809号、同第3.10′6.
465号、同第3.635.709号、同第3,647
,443号各明細書をはじめ、多数の刊行物に記載され
ており、いずれも有利に使用できる。特に、芳香族ヒド
ロキシ化合物の〇−ナフトキノンジアジドスルホン酸エ
ステルまたは0−ナフトキノンジアジドカルボン酸エス
テルおよび芳香族アミン化合物の0−ナフトキノンジア
ジドスルホン酸アミドまたは0−ナフトキノンジアジド
カルボン酸アミドが好ましく、特に米国特許第3,63
5,7.09号明細書に記載されているピロガロールと
アセトンの縮合物に0−ナフトキノンジアジドスルホン
酸をエステル反応させたもの、米国特許第4,028,
111号明細書に記載されている末端にヒドロキシル基
を有するポリエステルに0−ナフトキノンジアジドスル
ホン酸または。−ナフトキノンジアジドカルボン酸をエ
ステル反応させたもの、英国特許第1,494,043
号明細書に記載のようなp−ヒドロキシスチレンのホモ
ポリマーまたはこれと他の共重合し得るモノマーとの共
重合体に0−ナフトキノンジアジドスルホン酸または0
−ナフトキノンジアジドカルボン酸をエステル反応させ
たものが澄れた例である。
これらの0−ナフトキノンジアジド化合物は単独で使用
することもできるが、アルカリ可溶性樹脂と共に使用す
ることが好ましく、このような樹脂としてはノボラック
型フェノール樹脂が好ましく、具体的にはフェノールホ
ルムアルデヒド樹脂、o−クレゾールホルムアルデヒド
樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂などが例示
できる。更に、特開昭5.、0−12.5806号公報
に記載されているようなフェノール樹脂と共に、1−ブ
チルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような炭素原子
数3〜8のアルキル基で置換されたフェノールまたはク
レゾールとホルムアルデヒドとの縮合物とを併用するこ
とより一層好ましい。このアルカリ可溶性樹脂の使用量
は感光層全重量基準で約50〜約85重量%、好ましく
は60〜80重量%である。
することもできるが、アルカリ可溶性樹脂と共に使用す
ることが好ましく、このような樹脂としてはノボラック
型フェノール樹脂が好ましく、具体的にはフェノールホ
ルムアルデヒド樹脂、o−クレゾールホルムアルデヒド
樹脂、m−クレゾールホルムアルデヒド樹脂などが例示
できる。更に、特開昭5.、0−12.5806号公報
に記載されているようなフェノール樹脂と共に、1−ブ
チルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような炭素原子
数3〜8のアルキル基で置換されたフェノールまたはク
レゾールとホルムアルデヒドとの縮合物とを併用するこ
とより一層好ましい。このアルカリ可溶性樹脂の使用量
は感光層全重量基準で約50〜約85重量%、好ましく
は60〜80重量%である。
この層jごは、更に染料、可塑剤、焼き出し性を付与す
る成分などを、必要に応じて添加することができる。こ
れら添加物としては従来公知の任意のものがいずれも使
用でき、例えば染料としてはC,1,26,105(オ
イルレッドRR)、C,1,21,260(オイルブル
ーレツト#308)、C,1,74,350(オイルブ
ルー)、C,1,52,015(メチレンブルー)、C
,1,42,555(クリスタルバイオレット)などの
アルコール可溶性染料が好ましく、PS版の露光、現像
後に画像部と非画像部との間に十分コントラストを与え
る効果をもち、その使用量は一般に感光性組成物全重量
の約7重量%以下である。
る成分などを、必要に応じて添加することができる。こ
れら添加物としては従来公知の任意のものがいずれも使
用でき、例えば染料としてはC,1,26,105(オ
イルレッドRR)、C,1,21,260(オイルブル
ーレツト#308)、C,1,74,350(オイルブ
ルー)、C,1,52,015(メチレンブルー)、C
,1,42,555(クリスタルバイオレット)などの
アルコール可溶性染料が好ましく、PS版の露光、現像
後に画像部と非画像部との間に十分コントラストを与え
る効果をもち、その使用量は一般に感光性組成物全重量
の約7重量%以下である。
また、可塑剤としてはジメチルフタレート、ジエチルフ
タレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレー
ト、ジオクチルフタレート、オクチルカプリルフタレー
ト、ジシクロへキシルフタレート、ジトリデシルフタレ
ート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルツクレ
ート、ジアリールフタレートなどのフタル酸エステル類
、ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリルエチ
ルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、
ブチルフタリルブチルグリコレート、トリエチレングリ
コールシカプリレートなどのグリコールエステル類、ト
リクレジールホスフェート、トリフェニルホスフェート
などの燐酸エステル類、ジイソブチルアジペート、ジオ
クチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバ
ケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレエートな
どの脂肪族二塩基酸エステル類、ポリグリシジルメタク
リレート、クエン酸トリエチル、−グリセリントリアセ
チルエステル、ラウリン酸ブチル等が有効であす、その
使用量は感光性組成物総量に対して、一般に約5重量%
以下である。
タレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレー
ト、ジオクチルフタレート、オクチルカプリルフタレー
ト、ジシクロへキシルフタレート、ジトリデシルフタレ
ート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルツクレ
ート、ジアリールフタレートなどのフタル酸エステル類
、ジメチルグリコールフタレート、エチルフタリルエチ
ルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、
ブチルフタリルブチルグリコレート、トリエチレングリ
コールシカプリレートなどのグリコールエステル類、ト
リクレジールホスフェート、トリフェニルホスフェート
などの燐酸エステル類、ジイソブチルアジペート、ジオ
クチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバ
ケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレエートな
どの脂肪族二塩基酸エステル類、ポリグリシジルメタク
リレート、クエン酸トリエチル、−グリセリントリアセ
チルエステル、ラウリン酸ブチル等が有効であす、その
使用量は感光性組成物総量に対して、一般に約5重量%
以下である。
焼き出し性成分はPS版の感光層を画像露光した際に、
画像を直ちに可視像として観察し得るものとするための
ものであり、例えば英国特許第1..04L 463号
明細書に開示されているようなpH指示薬、米国特許第
3.969.118号明細書に記載されているような0
−ナフトキノンジアジドT−4−スルホニルクロリドと
染料との組合せ1.特公昭44−6413号公報に記載
されているフォトクロミック化合物などを例示できる。
画像を直ちに可視像として観察し得るものとするための
ものであり、例えば英国特許第1..04L 463号
明細書に開示されているようなpH指示薬、米国特許第
3.969.118号明細書に記載されているような0
−ナフトキノンジアジドT−4−スルホニルクロリドと
染料との組合せ1.特公昭44−6413号公報に記載
されているフォトクロミック化合物などを例示できる。
更に、特開昭52−80022号公報に記載されている
ような感光層中に塊状酸無水物を添加して、感度の改善
を図ることも可能である。
ような感光層中に塊状酸無水物を添加して、感度の改善
を図ることも可能である。
上記感光性組成物は適当な溶媒の溶液とし、これを支持
体上に塗布することによって目的とする感光層を得るこ
とができる。溶媒としてはエチレングリコールモノメチ
ルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテノペ
酢酸2−メトキシエチルなどのグリコールエーテル類、
アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなど
のケトン類、エチレンジクロライド等の塩素化炭化水素
などが好ましい。この感光性組成物の塗布量は約0.5
〜約7 g / m″、好ましくは1.0〜3 g /
m’である。
体上に塗布することによって目的とする感光層を得るこ
とができる。溶媒としてはエチレングリコールモノメチ
ルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテノペ
酢酸2−メトキシエチルなどのグリコールエーテル類、
アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなど
のケトン類、エチレンジクロライド等の塩素化炭化水素
などが好ましい。この感光性組成物の塗布量は約0.5
〜約7 g / m″、好ましくは1.0〜3 g /
m’である。
■、現像処理
かくして得たポジ型PS版は透明原画を通してカーボン
アーク灯、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンラ
ンプ、タングステンランプなどの活性光線の豊富な光線
により露光する。これによって露光部はアルカリ可溶性
に変化するので、現像液即ちアルカリ可溶性により溶出
できる。
アーク灯、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンラ
ンプ、タングステンランプなどの活性光線の豊富な光線
により露光する。これによって露光部はアルカリ可溶性
に変化するので、現像液即ちアルカリ可溶性により溶出
できる。
本発明の製造方法において露光済みのPS版に現像液を
供給する方法としては、例えばシャワーパイプやノズル
を使って液を版面に噴射、噴霧または滴下する方法、或
いは版面に接触または非接触の位置に置いた現像液供給
部材から現像液を版面に塗布するような形で供給する方
法がある。
供給する方法としては、例えばシャワーパイプやノズル
を使って液を版面に噴射、噴霧または滴下する方法、或
いは版面に接触または非接触の位置に置いた現像液供給
部材から現像液を版面に塗布するような形で供給する方
法がある。
現像液供給部材とPS版を接触させ、現像液をPS版上
に供給する方法には、例えばスポンジあるいは布などの
ような吸水性の部材で版面を擦ることにより供給する方
法あるいはゴムのような非吸水性の部材、前記スポンジ
あるいは布などのような吸水性の部材にもかかわらず、
これらの部材をローラー状にし、搬送されるPS版とロ
ーラーの回転を同調させたものや、ワイヤバーなどで計
量供給する方法などが挙げられる。
に供給する方法には、例えばスポンジあるいは布などの
ような吸水性の部材で版面を擦ることにより供給する方
法あるいはゴムのような非吸水性の部材、前記スポンジ
あるいは布などのような吸水性の部材にもかかわらず、
これらの部材をローラー状にし、搬送されるPS版とロ
ーラーの回転を同調させたものや、ワイヤバーなどで計
量供給する方法などが挙げられる。
また現像液供給部材とPS版とが非接触で現像液をPS
版上に供給する方法には、例えば細い間隙に現像液をた
めておき、その中をPS版を通過させることにより供給
する方法、あるいは現像液供給部材の表面張力により竿
状に垂れ下がる現像液にPS版を接触させ供給する方法
、あるいは筒状の物に現像液を貯めておき、該筒状の物
の側面に細い間隙をつくり、その間隙にPS版を通過さ
せることにより供給する方法などが挙げられる。
版上に供給する方法には、例えば細い間隙に現像液をた
めておき、その中をPS版を通過させることにより供給
する方法、あるいは現像液供給部材の表面張力により竿
状に垂れ下がる現像液にPS版を接触させ供給する方法
、あるいは筒状の物に現像液を貯めておき、該筒状の物
の側面に細い間隙をつくり、その間隙にPS版を通過さ
せることにより供給する方法などが挙げられる。
また筒上物の上面に細い間隙を設けそこから現像液を溢
れさせて水平搬送したPS版の裏面に現像液を供給する
方法は、両面使用型PS版の裏面の現像に好ましい方法
である。両面使用型PS版を現像する場合の現像液供給
方式は同一でも異なっていてもよい。同様に現像液も両
面同一でも、異った現像液で表裏を現像してもよい。ま
たポジ型PS版とネガ型PS版を共通の現像液で現像す
る場合にも本発明の方法が好ましく用いられる。
れさせて水平搬送したPS版の裏面に現像液を供給する
方法は、両面使用型PS版の裏面の現像に好ましい方法
である。両面使用型PS版を現像する場合の現像液供給
方式は同一でも異なっていてもよい。同様に現像液も両
面同一でも、異った現像液で表裏を現像してもよい。ま
たポジ型PS版とネガ型PS版を共通の現像液で現像す
る場合にも本発明の方法が好ましく用いられる。
更に本発明の方法は、PS版を垂直に上下または左右に
搬送して現像する場合:ども現像液を版面に保持し易く
、好ましい。
搬送して現像する場合:ども現像液を版面に保持し易く
、好ましい。
これらの方法によって供給される現像液の量には、PS
版1 m+当り30〜500誦であり好ましくは50〜
200−である。
版1 m+当り30〜500誦であり好ましくは50〜
200−である。
本発明においては使い捨て現像方式を用いることが好ま
しく、ゆえにPS版上に供給された現像液は一定時間P
S版上に保持された後、種々の方法によりPS版上より
かき落とされ廃棄されることが望ましい。
しく、ゆえにPS版上に供給された現像液は一定時間P
S版上に保持された後、種々の方法によりPS版上より
かき落とされ廃棄されることが望ましい。
かくして現像されたPS版はその後通常のPS版の処理
と同様に水洗、修正、ガム引き処理などの処理を施され
平版印刷版が完成される。
と同様に水洗、修正、ガム引き処理などの処理を施され
平版印刷版が完成される。
本発明によれば使い捨て現像方式において両面使用型の
PS版の表裏に少量の現像液を保持することができるの
で、裏面も現像ムラの少い現像処理が可能となる。更に
本発明i二よれば、きわめて少量の、究極には、真に現
像に必要な現像液量のみでむらなく現像できる。更に本
発明によれば、PS版上に現像液を均一に供給した後は
、煩雑な装置を必要とすることなく、又は簡単な装置に
よって現像液をPS版上に均一に保持することができる
ので、メンテナンスが容易であり、長期間自動現像機を
使用しても何らトラブルもなく安定して現像処理を行う
ことができる。
PS版の表裏に少量の現像液を保持することができるの
で、裏面も現像ムラの少い現像処理が可能となる。更に
本発明i二よれば、きわめて少量の、究極には、真に現
像に必要な現像液量のみでむらなく現像できる。更に本
発明によれば、PS版上に現像液を均一に供給した後は
、煩雑な装置を必要とすることなく、又は簡単な装置に
よって現像液をPS版上に均一に保持することができる
ので、メンテナンスが容易であり、長期間自動現像機を
使用しても何らトラブルもなく安定して現像処理を行う
ことができる。
実施例
以下、本発明を実施例によって更に具体的に説明するが
、本発明は以下の例によって何隻限定されるものではな
い。
、本発明は以下の例によって何隻限定されるものではな
い。
実施例1〜6、比較例1
砂目立て処理した2S材アルミニウム板を、40℃に保
った2重量%の水酸化ナトリウム溶液に1分間浸漬し、
エツチング処理を行った。次いで水洗後硫酸−クロム酸
混液に約1分間浸漬して純アルミニウム表面を露出させ
た。これを30℃に保った20重量%の硫酸中に浸漬し
、直流電圧1.5V、電流密度2A/dm2で2分間陽
極酸化処理を行い、水洗、乾燥した。かくして処理した
アルミニウム板上に、下記組成の感光性組成物溶液を2
g/m’(乾燥重量)となるように塗布し、乾燥してP
S版を得た。
った2重量%の水酸化ナトリウム溶液に1分間浸漬し、
エツチング処理を行った。次いで水洗後硫酸−クロム酸
混液に約1分間浸漬して純アルミニウム表面を露出させ
た。これを30℃に保った20重量%の硫酸中に浸漬し
、直流電圧1.5V、電流密度2A/dm2で2分間陽
極酸化処理を行い、水洗、乾燥した。かくして処理した
アルミニウム板上に、下記組成の感光性組成物溶液を2
g/m’(乾燥重量)となるように塗布し、乾燥してP
S版を得た。
メチルエチルケトン ・・・・50gシクロヘ
キサノン ・・・・40gこのPS版に真空
焼枠中で透明ポジティブフィルムを介して、1mの距離
から3KWのメタルハラ、イドランプ(東芝メタルハラ
イドランプMU2000−2−OL型の光源を有し富士
写真フィルムGiにより販売されているプラノPSライ
トを使用)により、30秒間露光を行った。
キサノン ・・・・40gこのPS版に真空
焼枠中で透明ポジティブフィルムを介して、1mの距離
から3KWのメタルハラ、イドランプ(東芝メタルハラ
イドランプMU2000−2−OL型の光源を有し富士
写真フィルムGiにより販売されているプラノPSライ
トを使用)により、30秒間露光を行った。
次に第1表に示した現像液A−Gを調整し、B型粘度計
を用いて粘度を測定した。
を用いて粘度を測定した。
次いで特開昭62−59957号公報に記載しである、
ワイヤーバーを計量手段として有する水平搬送型の自動
現像機を準備した。先に示した露光済みのPS版の感光
層側に上面にしてA−Gの現像液をl mlあたり約2
00dの量を塗りつけた。
ワイヤーバーを計量手段として有する水平搬送型の自動
現像機を準備した。先に示した露光済みのPS版の感光
層側に上面にしてA−Gの現像液をl mlあたり約2
00dの量を塗りつけた。
40秒経た後一対の絞りロールによって現像液をかき落
とした。続く水洗浴にて水洗した後、現像ムラを観察し
た結果を第1表に記した。現像液Aを用いて処理したプ
レートでは現像液がPS版上に均一に保持できず、現像
液が薄層になってしまった部分は完全に現像できなかっ
た。
とした。続く水洗浴にて水洗した後、現像ムラを観察し
た結果を第1表に記した。現像液Aを用いて処理したプ
レートでは現像液がPS版上に均一に保持できず、現像
液が薄層になってしまった部分は完全に現像できなかっ
た。
現像液Gを用いた場合、現像層は版上に均一に保持する
ことができたが、まれに絞りロールに汚れた現像液が付
着し、次の版に汚物を転写することがあった。
ことができたが、まれに絞りロールに汚れた現像液が付
着し、次の版に汚物を転写することがあった。
現像液B−Fを用いた場合はいづれも良好な結果を得た
。
。
実施例7〜12
実施例1〜6と同様にして、アルミニウムの表裏を処理
し、感光層を設けた両面使用型のPS版を準備し、実施
例1〜6と全く同様にして、両面の感光層に画像露光を
行った。
し、感光層を設けた両面使用型のPS版を準備し、実施
例1〜6と全く同様にして、両面の感光層に画像露光を
行った。
次いで第1図特開昭62−59958号公報に記載され
た水平搬送型の使い捨て現像機を準備し、第2浴には、
下記処方のリンス液を水で8倍に希釈して8β仕込んだ
。
た水平搬送型の使い捨て現像機を準備し、第2浴には、
下記処方のリンス液を水で8倍に希釈して8β仕込んだ
。
リンス液処方
リン酸(85重量%水溶液)48g
水酸化ナトリウム 19.2 gジ
オクチルスルホコハク酸ナトリウム 24gドデシル
ジフェニルエーテル ジスルホン酸ナトリウム 24g シリコーン消泡剤TSA−731 0.08
g水
875gこの自動現像機にて、先の現像液A−Gを用
いて、両面使用型のF’S版を現像した結果を、第2表
に記した。尚、上面の現像性は、実施例1〜6と全く同
様の結果であった。
オクチルスルホコハク酸ナトリウム 24gドデシル
ジフェニルエーテル ジスルホン酸ナトリウム 24g シリコーン消泡剤TSA−731 0.08
g水
875gこの自動現像機にて、先の現像液A−Gを用
いて、両面使用型のF’S版を現像した結果を、第2表
に記した。尚、上面の現像性は、実施例1〜6と全く同
様の結果であった。
現像液Aを下面に塗りつけた場合、現像液は版からボタ
落ちし、現像できない部分が多かった。
落ちし、現像できない部分が多かった。
現像液Bでは一部液のボタ落ちはみられたが、現像はは
X゛満足結果であった。
X゛満足結果であった。
現像液C−Gにおいては現像液は版面に均一に保持され
、極めて満足すべき結果が得られた。たソ゛シ、現像液
Gの場合、実施例6の場合と同様に絞りロールに汚れの
転写がみられた。
、極めて満足すべき結果が得られた。たソ゛シ、現像液
Gの場合、実施例6の場合と同様に絞りロールに汚れの
転写がみられた。
Claims (2)
- (1)感光性平版印刷版を画像露光し、露光面に現像液
を供給して、現像する平版印刷版の製造方法において、
該現像液の粘度が、25℃で5cps〜10,000c
psの範囲の現像液を用いることを特徴とする平版印刷
版の製造方法。 - (2)現像方式が、使い捨て現像方式である特許請求の
範囲第(1)項記載の平版印刷版の製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP170188A JPH01177541A (ja) | 1988-01-07 | 1988-01-07 | 平版印刷版の製造方法 |
| EP19890100093 EP0323836B1 (en) | 1988-01-07 | 1989-01-04 | Method for manufacturing lithographic printing plates |
| DE1989618117 DE68918117T2 (de) | 1988-01-07 | 1989-01-04 | Verfahren zur Herstellung von Flachdruckplatten. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP170188A JPH01177541A (ja) | 1988-01-07 | 1988-01-07 | 平版印刷版の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01177541A true JPH01177541A (ja) | 1989-07-13 |
Family
ID=11508845
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP170188A Pending JPH01177541A (ja) | 1988-01-07 | 1988-01-07 | 平版印刷版の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0323836B1 (ja) |
| JP (1) | JPH01177541A (ja) |
| DE (1) | DE68918117T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5075711A (en) * | 1988-08-16 | 1991-12-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of and apparatus for developing photosensitive lithographic plate |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3937442A1 (de) * | 1989-11-10 | 1991-05-16 | Nokia Unterhaltungselektronik | Verfahren zum bereichsweisen entfernen von schichten von einem substrat |
| US5897985A (en) * | 1996-10-11 | 1999-04-27 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Potassium silicate developing composition and method of use to process lithographic printing plates |
| US5766826A (en) * | 1996-10-11 | 1998-06-16 | Eastman Kodak Company | Alkaline developing composition and method of use to process lithographic printing plates |
| US6083662A (en) * | 1997-05-30 | 2000-07-04 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate |
| US5811221A (en) * | 1997-05-30 | 1998-09-22 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Alkaline developing composition and method of use to process lithographic printing plates |
| DE19755295A1 (de) * | 1997-12-12 | 1999-06-17 | Agfa Gevaert Ag | Entwickler für bestrahlte, strahlungsempfindliche Aufzeichnungsmaterialien |
| US6100016A (en) * | 1999-09-14 | 2000-08-08 | Agfa-Gevaert Ag | Developer for irradiated, radiation-sensitive recording materials |
| EP1093024A1 (en) | 1999-10-11 | 2001-04-18 | Fuji Photo Film B.V. | An aqueous developer for lithographic printing plates |
| JP4040539B2 (ja) | 2003-06-13 | 2008-01-30 | 東京応化工業株式会社 | レジスト用現像液組成物およびレジストパターンの形成方法 |
| JP4040544B2 (ja) * | 2003-06-27 | 2008-01-30 | 東京応化工業株式会社 | レジスト用現像液組成物およびレジストパターンの形成方法 |
| US7883833B2 (en) | 2007-06-20 | 2011-02-08 | Eastman Kodak Company | Use of highly alkaline developer regenerator composition |
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