JPH01179431U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH01179431U JPH01179431U JP7591488U JP7591488U JPH01179431U JP H01179431 U JPH01179431 U JP H01179431U JP 7591488 U JP7591488 U JP 7591488U JP 7591488 U JP7591488 U JP 7591488U JP H01179431 U JPH01179431 U JP H01179431U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- growth apparatus
- vapor phase
- head
- phase growth
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 claims description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 8
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
Description
第１図はこの考案の一実施例による気相成長装
置を示す断面側面図、第２図はこの考案の他の実
施例を示す気相成長装置断面側面図、第３図は従
来の気相成長装置の断面図である。 図において、１はヒーターステージ、２はウエ
ハ、３はガスヘツド、４はガス噴出孔、５は排気
孔、６はガス供給孔、１０はセラミツク多孔質板
を示す。なお、図中、同一符号は同一、または相
当部分を示す。
置を示す断面側面図、第２図はこの考案の他の実
施例を示す気相成長装置断面側面図、第３図は従
来の気相成長装置の断面図である。 図において、１はヒーターステージ、２はウエ
ハ、３はガスヘツド、４はガス噴出孔、５は排気
孔、６はガス供給孔、１０はセラミツク多孔質板
を示す。なお、図中、同一符号は同一、または相
当部分を示す。
Claims (1)
- ウエハステージ上に置かれたウエハの表面に対
向して、多数個の反応ガス噴出孔をもつガスヘツ
ドを有する気相成長装置において、前記ガスヘツ
ド内部に有する中空部をガス噴出孔面と平行なる
複数の多孔質セラミツク板で仕切り、ガス噴出孔
面とガスヘツドにおける反対面より供給された反
応ガスは、多孔質セラミツク板を通過するたびに
拡散、均一化されるとともに清浄化され、ガス噴
出孔より噴出することを特徴とする気相成長装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7591488U JPH01179431U (ja) | 1988-06-07 | 1988-06-07 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7591488U JPH01179431U (ja) | 1988-06-07 | 1988-06-07 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01179431U true JPH01179431U (ja) | 1989-12-22 |
Family
ID=31300963
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7591488U Pending JPH01179431U (ja) | 1988-06-07 | 1988-06-07 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01179431U (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008066413A (ja) * | 2006-09-05 | 2008-03-21 | Tokyo Electron Ltd | シャワーヘッド構造及びこれを用いた処理装置 |
| JP2008270839A (ja) * | 2008-07-24 | 2008-11-06 | Tadahiro Omi | プラズマ処理装置 |
| JP2011086887A (ja) * | 2009-10-19 | 2011-04-28 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | エピタキシャル成長装置 |
-
1988
- 1988-06-07 JP JP7591488U patent/JPH01179431U/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008066413A (ja) * | 2006-09-05 | 2008-03-21 | Tokyo Electron Ltd | シャワーヘッド構造及びこれを用いた処理装置 |
| JP2008270839A (ja) * | 2008-07-24 | 2008-11-06 | Tadahiro Omi | プラズマ処理装置 |
| JP2011086887A (ja) * | 2009-10-19 | 2011-04-28 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | エピタキシャル成長装置 |