JPH01180854A - 光学用アクリル酸エステル - Google Patents
光学用アクリル酸エステルInfo
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- JPH01180854A JPH01180854A JP480888A JP480888A JPH01180854A JP H01180854 A JPH01180854 A JP H01180854A JP 480888 A JP480888 A JP 480888A JP 480888 A JP480888 A JP 480888A JP H01180854 A JPH01180854 A JP H01180854A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/10—Esters
- C08F20/38—Esters containing sulfur
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C08F20/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
- C08F20/10—Esters
- C08F20/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
- C08F20/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
- C08F20/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
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- C08F20/30—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing aromatic rings in the alcohol moiety
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、低吸湿率であり且つ透明性に優れた光学用高
分子材料を提供する新規な光学用アクリル酸エステルに
関する。
分子材料を提供する新規な光学用アクリル酸エステルに
関する。
従来、プラスチックレンズ用のモノマー材料としてジエ
チレングリコールビスアリルカーボネート（ＤＧＢＣ）
が市販されており、眼鏡レンズを中心とした用途に使用
されている。しかしながら、ＤＧＢＣの重合硬化物は吸
湿率が２％と犬きく、湿度変化による光学定数への影響
が大きいため、粒密な光学用部品としての用途には適し
ていない。また屈折率も１．５と低いため、レンズの肉
厚が厚くなるという制約もある。
チレングリコールビスアリルカーボネート（ＤＧＢＣ）
が市販されており、眼鏡レンズを中心とした用途に使用
されている。しかしながら、ＤＧＢＣの重合硬化物は吸
湿率が２％と犬きく、湿度変化による光学定数への影響
が大きいため、粒密な光学用部品としての用途には適し
ていない。また屈折率も１．５と低いため、レンズの肉
厚が厚くなるという制約もある。
そのため、吸湿率の低いモノマーとしてシクロヘキシル
基、シクロペンタジェン誘導体やノルボルネン誘導体な
どの脂環式構造を有するアクリル酸エステルが開発され
ており、これらの注型重合硬化物では吸湿率は０．３％
程度とＤＧＢＣに比べると低い値であるが、なお充分と
は言えずさらに低いものが望まれていた。他のモノマー
の例として、次式で示されるアクリル酸エステルがある
（例えば特開昭６１−１２７７１２号公報）。
基、シクロペンタジェン誘導体やノルボルネン誘導体な
どの脂環式構造を有するアクリル酸エステルが開発され
ており、これらの注型重合硬化物では吸湿率は０．３％
程度とＤＧＢＣに比べると低い値であるが、なお充分と
は言えずさらに低いものが望まれていた。他のモノマー
の例として、次式で示されるアクリル酸エステルがある
（例えば特開昭６１−１２７７１２号公報）。
このモノマーの注型重合硬化物は吸湿率か０．１〜０゜
２％程度と低く、また屈折率も１．６と高いため前記し
た点に関して望ましいものである。
２％程度と低く、また屈折率も１．６と高いため前記し
た点に関して望ましいものである。
しかしながら、その硬化物は半透明であり光学材料とし
て好ましくない。これは重合した高分子鎖が配向した結
果で、例えば ＥｕｒｏｐｅａｎＰｏｌｙｍｅｒ Ｊ
ｏｕｒｎａｌ １０巻５８５〜５９１ページに重合体
の性質として示されている。
て好ましくない。これは重合した高分子鎖が配向した結
果で、例えば ＥｕｒｏｐｅａｎＰｏｌｙｍｅｒ Ｊ
ｏｕｒｎａｌ １０巻５８５〜５９１ページに重合体
の性質として示されている。
本発明は上記のような問題点を解決すべくなされたもの
で、重合後の硬化物の吸湿率が小さく、かつ透明性に優
れ、注型成形が可能なアクリル酸エステルモノマーを提
供することを目的とする。
で、重合後の硬化物の吸湿率が小さく、かつ透明性に優
れ、注型成形が可能なアクリル酸エステルモノマーを提
供することを目的とする。
すなわち、本発明は次式で示される光学用アクリル酸エ
ステルに関する。
ステルに関する。
（式中、Ｘは−ＣＨ３、−ＯＲ，−３Ｒ１−３ＯＲ９−
３ｏ２Ｒを表わし、Ｒは炭素数１〜１８の脂肪族または
芳香族炭化水素基、ｎは１〜３の整数を表わす。） 上記のアクリル酸エステルは、対応するヒドロキシヒフ
ェニル誘導体とアクリル酸クロライドとの反応により得
られる。この反応は、通常ピリジン、トリエチルアミン
、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウムなどの塩酸捕獲剤
の共存下で行なわれる。反応溶媒は炭化水素系、ケトン
系、ハロゲン化炭化水素系などが使用される。また水酸
化ナトリウム水溶液と上記の有機溶媒とを併用する等の
２相系でも反応が行なえる。
３ｏ２Ｒを表わし、Ｒは炭素数１〜１８の脂肪族または
芳香族炭化水素基、ｎは１〜３の整数を表わす。） 上記のアクリル酸エステルは、対応するヒドロキシヒフ
ェニル誘導体とアクリル酸クロライドとの反応により得
られる。この反応は、通常ピリジン、トリエチルアミン
、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウムなどの塩酸捕獲剤
の共存下で行なわれる。反応溶媒は炭化水素系、ケトン
系、ハロゲン化炭化水素系などが使用される。また水酸
化ナトリウム水溶液と上記の有機溶媒とを併用する等の
２相系でも反応が行なえる。
上記のアクリル酸エステルの具体例としては、Ｃ２Ｈ５
等が挙げられる。
これらのアクリル酸エステルは、通常室温で固体で得ら
れるため、その融点が低い場合には加熱して溶融させ、
重合開始剤を添加混合した後、加熱重合・光重合等公知
の方法で硬化可能であり、融点か高い場合には他の液状
アクリル酸エステル系モノマーやスチレン系モノマー等
に混合溶解させ、上記と同様にして重合硬化させること
ができる。
れるため、その融点が低い場合には加熱して溶融させ、
重合開始剤を添加混合した後、加熱重合・光重合等公知
の方法で硬化可能であり、融点か高い場合には他の液状
アクリル酸エステル系モノマーやスチレン系モノマー等
に混合溶解させ、上記と同様にして重合硬化させること
ができる。
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例１
４− （２’−メトキシフェニル）−フェノール２０ｇ
、水酸化ナトリウム１６ｇ、水１００ｍｆｔを３００ｍ
！：ｌの三ツロフラスコに入れ、室温で３０分間攪拌し
た。次に、硫酸水素テトラｎ−ブチルアンモニウム１．
７ｇ、テトラヒドロフラン１００ｍＪ２を添加し、系内
を７〜８℃に保ちながら、アクリル酸クロライド１２．
６ｇを１時間で滴下した。滴下終了後、室温でさらに１
時間攪拌を続けた後、水層を除去し、有機層を５％水酸
化ナトリウム水溶液、次いで水で２回洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。乾燥剤を 濾別後、溶媒を留去し
た残漬をメタノールで再結晶することにより、４−２”
−メトキシビフェニルアクリレート（１）１６ｇを得た
。第１表に融点９元素分析、 ’Ｈ−ＮＭＲの各分析
結果を示す。
、水酸化ナトリウム１６ｇ、水１００ｍｆｔを３００ｍ
！：ｌの三ツロフラスコに入れ、室温で３０分間攪拌し
た。次に、硫酸水素テトラｎ−ブチルアンモニウム１．
７ｇ、テトラヒドロフラン１００ｍＪ２を添加し、系内
を７〜８℃に保ちながら、アクリル酸クロライド１２．
６ｇを１時間で滴下した。滴下終了後、室温でさらに１
時間攪拌を続けた後、水層を除去し、有機層を５％水酸
化ナトリウム水溶液、次いで水で２回洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。乾燥剤を 濾別後、溶媒を留去し
た残漬をメタノールで再結晶することにより、４−２”
−メトキシビフェニルアクリレート（１）１６ｇを得た
。第１表に融点９元素分析、 ’Ｈ−ＮＭＲの各分析
結果を示す。
ＣＩ）を６０℃に加熱し、光重合開始剤としてベンゾイ
ンインプロピルエーテルを０．５ｇ量％の割合で添加混
合し、透明な石英ガラス板とシリコン樹脂製のガスケッ
トよりなる型内に注入し、ガラス板の両面より２０ｃｍ
の距離から４０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯で１０分間照射を
行なって、厚さ２ ｍ ｍの注型板を作成した。この注
型板を縦横共に３０ｍｍに切り、６０℃、０．５Ｔｏｒ
ｒの減圧下で７２時間保持して脱水した後、温度４５℃
、相対湿度９５％に保った恒温恒湿室内に入れ、５００
時間後の吸湿率変化を重量増加率として測定した。結果
を第２表に示す。
ンインプロピルエーテルを０．５ｇ量％の割合で添加混
合し、透明な石英ガラス板とシリコン樹脂製のガスケッ
トよりなる型内に注入し、ガラス板の両面より２０ｃｍ
の距離から４０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯で１０分間照射を
行なって、厚さ２ ｍ ｍの注型板を作成した。この注
型板を縦横共に３０ｍｍに切り、６０℃、０．５Ｔｏｒ
ｒの減圧下で７２時間保持して脱水した後、温度４５℃
、相対湿度９５％に保った恒温恒湿室内に入れ、５００
時間後の吸湿率変化を重量増加率として測定した。結果
を第２表に示す。
また、作成した注型板の厚み方向の分光透過率を測定し
た結果を第１図に示す。
た結果を第１図に示す。
実施例２
４−（２“−メトキシフェニル）−フェノールの代わり
に４− （２’−メチルチオフェニル）−フェノール２
１．７ｇを用いた他は、実施例１と同様の操作を行ない
、４−２゛−メチルチオビフェニルアクリレート（ＩＩ
）１７ｇを得た。第１表に分析結果を示す。（ＩＩ）よ
り実施例１と同様の方法で注型板を作成し、同様の方法
で吸湿率変化・透過率を測定した結果をそれぞれ第２表
・第１図に示す。
に４− （２’−メチルチオフェニル）−フェノール２
１．７ｇを用いた他は、実施例１と同様の操作を行ない
、４−２゛−メチルチオビフェニルアクリレート（ＩＩ
）１７ｇを得た。第１表に分析結果を示す。（ＩＩ）よ
り実施例１と同様の方法で注型板を作成し、同様の方法
で吸湿率変化・透過率を測定した結果をそれぞれ第２表
・第１図に示す。
実施例３
１− （２’−メトキシフェニル）−フェノールの代わ
りに４− （２’−メチルフェニル）−フェノール１８
．３ｇを用いた他は、実施例１と同様にして、４−２′
−メチルビフェニルアクリレ−） （ＩＩＩ） １６ｇ
を得た。第１表に分析結果を示す。実施例１と同様の方
法で注型板を作成し、吸湿率変化・透過率を測定した結
果を第２表・第１図に示す。
りに４− （２’−メチルフェニル）−フェノール１８
．３ｇを用いた他は、実施例１と同様にして、４−２′
−メチルビフェニルアクリレ−） （ＩＩＩ） １６ｇ
を得た。第１表に分析結果を示す。実施例１と同様の方
法で注型板を作成し、吸湿率変化・透過率を測定した結
果を第２表・第１図に示す。
実施例４
４− （２’−メトキシフェニル）−フェノールの代わ
りに４− （２” 、４’ 、６“−トリメチルフェニ
ル）−フェノール２１．３ｇを用いたイ也は、実施例１
と同様にして、４−２”、４′。
りに４− （２” 、４’ 、６“−トリメチルフェニ
ル）−フェノール２１．３ｇを用いたイ也は、実施例１
と同様にして、４−２”、４′。
６′ −トリメチルビフェニルアクリレート（ｒＶ）１
８ｇを得た。第１表に分析結果を示す。実施例１と同様
の方法で注型板を作成し、吸湿率変化・透過率を測定し
た結果を第２表・第１図に示す。
８ｇを得た。第１表に分析結果を示す。実施例１と同様
の方法で注型板を作成し、吸湿率変化・透過率を測定し
た結果を第２表・第１図に示す。
比較例１
４−フェニルフェノールより実施例１と同様の操作によ
り４−ビフェニルアクリレート（Ｖ）を得た。
り４−ビフェニルアクリレート（Ｖ）を得た。
（Ｖ）より実施例１と同様の方法で注型板を作成し、吸
湿率変化・透過率を測定した結果をそれぞれ第２表・第
１図に示す。
湿率変化・透過率を測定した結果をそれぞれ第２表・第
１図に示す。
第２表
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明の光学用アクリル酸エステ
ルは吸湿率が小さく、透明性に優れた硬化物を与え、光
学材料として極めて優れた特性を示す。
ルは吸湿率が小さく、透明性に優れた硬化物を与え、光
学材料として極めて優れた特性を示す。
第１図は光学用アクリル酸エステルから作成した注型板
の分光透過率測定結果を示す図である。 １：実施例１，３ ２：実施例２，４ ３：比較例１ 特許出願人 キャノン株式会社
の分光透過率測定結果を示す図である。 １：実施例１，３ ２：実施例２，４ ３：比較例１ 特許出願人 キャノン株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、下式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｘは−ＣＨ＿３、−ＯＲ、−ＳＲ、−ＳＯＲ、
−ＳＯ＿２Ｒを表わし、Ｒは炭素数１〜１８の脂肪族ま
たは芳香族炭化水素基、ｎは１〜３の整数を表わす。） で示される光学用アクリル酸エステル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP480888A JPH01180854A (ja) | 1988-01-14 | 1988-01-14 | 光学用アクリル酸エステル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP480888A JPH01180854A (ja) | 1988-01-14 | 1988-01-14 | 光学用アクリル酸エステル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01180854A true JPH01180854A (ja) | 1989-07-18 |
Family
ID=11594058
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP480888A Pending JPH01180854A (ja) | 1988-01-14 | 1988-01-14 | 光学用アクリル酸エステル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01180854A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005044882A1 (ja) * | 2003-11-07 | 2005-05-19 | Toagosei Co., Ltd. | 活性エネルギー線硬化型光学材料用組成物 |
| CN100384895C (zh) * | 2003-11-07 | 2008-04-30 | 东亚合成株式会社 | 活性能量线固化型光学材料用组合物 |
| JP2021080464A (ja) * | 2015-06-09 | 2021-05-27 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングＭｅｒｃｋ Ｐａｔｅｎｔ Ｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ ｍｉｔ ｂｅｓｃｈｒａｅｎｋｔｅｒ Ｈａｆｔｕｎｇ | 重合性化合物および液晶ディスプレイにおけるそれらの使用 |
| JP2022028594A (ja) * | 2020-08-03 | 2022-02-16 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 重合性化合物 |
-
1988
- 1988-01-14 JP JP480888A patent/JPH01180854A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005044882A1 (ja) * | 2003-11-07 | 2005-05-19 | Toagosei Co., Ltd. | 活性エネルギー線硬化型光学材料用組成物 |
| CN100384895C (zh) * | 2003-11-07 | 2008-04-30 | 东亚合成株式会社 | 活性能量线固化型光学材料用组合物 |
| US7799844B2 (en) | 2003-11-07 | 2010-09-21 | Toagosei Co., Ltd. | Active energy beam-curable composition for optical material |
| JP4892974B2 (ja) * | 2003-11-07 | 2012-03-07 | 東亞合成株式会社 | 活性エネルギー線硬化型光学材料用組成物 |
| JP2021080464A (ja) * | 2015-06-09 | 2021-05-27 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングＭｅｒｃｋ Ｐａｔｅｎｔ Ｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ ｍｉｔ ｂｅｓｃｈｒａｅｎｋｔｅｒ Ｈａｆｔｕｎｇ | 重合性化合物および液晶ディスプレイにおけるそれらの使用 |
| JP2022028594A (ja) * | 2020-08-03 | 2022-02-16 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 重合性化合物 |
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