JPH01184722A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH01184722A JPH01184722A JP63008703A JP870388A JPH01184722A JP H01184722 A JPH01184722 A JP H01184722A JP 63008703 A JP63008703 A JP 63008703A JP 870388 A JP870388 A JP 870388A JP H01184722 A JPH01184722 A JP H01184722A
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- thin
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁
気記録層とする磁気記録媒体の製造方法に関する。
気記録層とする磁気記録媒体の製造方法に関する。
従来の技術
高分子フィルム上に直接又は、下地層を介して、電子ビ
ーム蒸着法で、Ｃ０−Ｎｉを針め蒸着した、いわゆる蒸
着テープは、蒸着時に酸素ガスを導入することで、電磁
変換特性、耐久性、耐食性の向上をはかっている〔例え
ば、外国論文誌、アイイーイーイー トランザクション
ズオンマグネティクス（ＩＩＣＩＣＲＴＲＡＮＳＡＣＴ
ＩＯＮＳ ＯＮ ＭＡＧＮＥＴＩＣ３）ｖｏｌ、Ｍ
ＡＧ−２０％ＡＳ Ｐ、Ｐ、８２４−８２６（１９８
４）参照〕。更に耐久性の向上をはかる有効な手段は磁
気記録層の微細凹凸化である〔同論文誌、ｖｏｌ ｍＡ
Ｇ−２１、Ａ６、Ｐ、Ｐ、１５２４〜１６２６（１９８
６）参照〕が加えて、保護膜。
ーム蒸着法で、Ｃ０−Ｎｉを針め蒸着した、いわゆる蒸
着テープは、蒸着時に酸素ガスを導入することで、電磁
変換特性、耐久性、耐食性の向上をはかっている〔例え
ば、外国論文誌、アイイーイーイー トランザクション
ズオンマグネティクス（ＩＩＣＩＣＲＴＲＡＮＳＡＣＴ
ＩＯＮＳ ＯＮ ＭＡＧＮＥＴＩＣ３）ｖｏｌ、Ｍ
ＡＧ−２０％ＡＳ Ｐ、Ｐ、８２４−８２６（１９８
４）参照〕。更に耐久性の向上をはかる有効な手段は磁
気記録層の微細凹凸化である〔同論文誌、ｖｏｌ ｍＡ
Ｇ−２１、Ａ６、Ｐ、Ｐ、１５２４〜１６２６（１９８
６）参照〕が加えて、保護膜。
潤滑剤との多くの組み合わせも提案され、とりわけ、ダ
イアモンド状硬質炭素薄膜（以下り、Ｌ、Ｏ。
イアモンド状硬質炭素薄膜（以下り、Ｌ、Ｏ。
膜と記す）の保護性が注目されている〔電子通信学会、
磁気記録研究会質料、ＭＲ８５−６６（１９８６）参照
〕。
磁気記録研究会質料、ＭＲ８５−６６（１９８６）参照
〕。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、Ｄ、Ｌ、Ｃ，膜をスパッタリング法。
化学気相蒸着法、プラズマ化学気相蒸着法等で強磁性金
属薄膜を形成し、溶液塗布法で脂肪酸、パーフルオロカ
ルボン酸、パーフルオロポリエーテル等の潤滑剤を配す
ることで製造される磁気記録媒体は耐久性は良好である
が、スペーシング損失が短波長域で大きくなることから
改善が望まれていた。本発明は上記した事情に鑑みなさ
れたもので短波長Ｃ／Ｎの優れた磁気記録媒体の製造方
法を提供するものである。
属薄膜を形成し、溶液塗布法で脂肪酸、パーフルオロカ
ルボン酸、パーフルオロポリエーテル等の潤滑剤を配す
ることで製造される磁気記録媒体は耐久性は良好である
が、スペーシング損失が短波長域で大きくなることから
改善が望まれていた。本発明は上記した事情に鑑みなさ
れたもので短波長Ｃ／Ｎの優れた磁気記録媒体の製造方
法を提供するものである。
課題を解決するだめの手段
上記した問題点を解決するため本発明の磁気記録媒体の
製造方法は、強磁性金属薄膜上にボロン。
製造方法は、強磁性金属薄膜上にボロン。
チタン、シリコンのいずれかを含む硬質炭素薄膜を形成
した後、連続して真空蒸着法にて反応基を有する潤滑剤
を配するようにしたものである。
した後、連続して真空蒸着法にて反応基を有する潤滑剤
を配するようにしたものである。
作用
本発明の磁気記録媒体の製造方法は上記した構成により
、潤滑剤が硬質炭素薄膜の一部と強固に反応し、硬質炭
素薄膜を薄くしても、応力集中を防ぐので、保護効果を
十分得られるので、スペーシング損失の小さい磁気記録
媒体を与えることができる。
、潤滑剤が硬質炭素薄膜の一部と強固に反応し、硬質炭
素薄膜を薄くしても、応力集中を防ぐので、保護効果を
十分得られるので、スペーシング損失の小さい磁気記録
媒体を与えることができる。
実施例
以下、図面を参照しながら本発明の磁気記録媒体の製造
方法について説明する。図は本発明を実施するのに用い
た磁気記録媒体の製造装置の要部構成図である。図で１
はポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリフェニレ
ンサルファイドフィルム等の高分子フィルム又は、必要
に応じて下塗り層を配した高分子フィルム上に、高周波
スパッタリング法、電子ビーム蒸着法等によりＧｏ−Ｏ
ｒ。
方法について説明する。図は本発明を実施するのに用い
た磁気記録媒体の製造装置の要部構成図である。図で１
はポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリフェニレ
ンサルファイドフィルム等の高分子フィルム又は、必要
に応じて下塗り層を配した高分子フィルム上に、高周波
スパッタリング法、電子ビーム蒸着法等によりＧｏ−Ｏ
ｒ。
Ｇｏ−Ｔｉ 、Ｇｏ −Ｍｏ 、Ｇｏ−Ｎｉ 、Ｇｏ−
Ｎｉ−０等の強磁性金属薄膜を形成したもので、ここで
は処理基板と呼ぶ。尚、該強磁性金属薄膜の形成と、こ
れからのべる処理を同じ真空容器内で行うようにしても
よいのは勿論であるがここでは、別に製造した例でのべ
る。２は送り出し軸、３は巻取り軸で、４は反応管で、
石英管で構成し、ガス導入孔６を配し、内部に加速電極
８、外部に高周波コイル７を配し、プラズマを発生でき
るようにした。８は潤滑剤蒸発源で加熱法は、熱媒循環
をはじめ、傍熱、直接加熱いずれの加熱手段でもよい。
Ｎｉ−０等の強磁性金属薄膜を形成したもので、ここで
は処理基板と呼ぶ。尚、該強磁性金属薄膜の形成と、こ
れからのべる処理を同じ真空容器内で行うようにしても
よいのは勿論であるがここでは、別に製造した例でのべ
る。２は送り出し軸、３は巻取り軸で、４は反応管で、
石英管で構成し、ガス導入孔６を配し、内部に加速電極
８、外部に高周波コイル７を配し、プラズマを発生でき
るようにした。８は潤滑剤蒸発源で加熱法は、熱媒循環
をはじめ、傍熱、直接加熱いずれの加熱手段でもよい。
９は防着マスクで、１ｏは真空容器、１１は真空排気系
、１２は回転支持体である。
、１２は回転支持体である。
図の装置で、直径６０ｆｆｉの回転支持体に沿わせて、
厚み１０μｍ のポリエチレンテレフタレートフィルム
上に直径１ｏｏ人のＡｌ２Ｏ，微粒子を１０ケ／（μｍ
）２ 配した上で、Ｃｏ−Ｎ１（Ｎ：２０ｗｔ％）を５
Ｘ １０−５（ＴＯｒｒ ）の酸素中で電子ビーム蒸
着を最小入射角４０度で行いＱ、１μｍの強磁性金属薄
膜を配した処理基板を、ａｍ／ｗｉｎで巻き取りながら
、ＯＨ４ガスを１．２１７ｍ１ｎＳＢ２Ｈ６ガスを０．
０４１／ｍｉｎ導入し１３．５ｓＭＨｚ、 １．２ＫＷ
の高同波により、Ｂを含むダイアモンド状硬質炭素薄膜
を３６０マの直流加速条件で８０人形成し、次に、パー
フルオロステアリン酸を４Ｘ １０−５（Ｔｏｒｒ）の
真空中で８０人真空蒸着し８ミリ幅の磁気テープとした
。−ガル転倒は、ＣＨ４ガスを１．２ （４／ｍ１ｎ）
導入し、１３．５６（ＭＨｚ）、１．４ＫＷ（７）高周
波を印加し、カロ速電圧３９０マでダイアモンド状硬質
炭素薄膜を１６０人配し、その上にパーフルオロステア
リン酸を８０人真空蒸着し、８ミリ幅の磁気テープとし
た。両者のテープを改造した８ミリビデてオにより、ギ
ャップ長０．２３μｍ のメタルインギャップ型のアモ
ルファスヘラ鼾°により、輝度信号の周波数を６０％増
加させた広帯域条件でのＣ／Ｎとスチル特性を比較した
。実施例は初期値のＣ／Ｎが比較例よｐ２．３（ｄＢ）
良好であった。又。
厚み１０μｍ のポリエチレンテレフタレートフィルム
上に直径１ｏｏ人のＡｌ２Ｏ，微粒子を１０ケ／（μｍ
）２ 配した上で、Ｃｏ−Ｎ１（Ｎ：２０ｗｔ％）を５
Ｘ １０−５（ＴＯｒｒ ）の酸素中で電子ビーム蒸
着を最小入射角４０度で行いＱ、１μｍの強磁性金属薄
膜を配した処理基板を、ａｍ／ｗｉｎで巻き取りながら
、ＯＨ４ガスを１．２１７ｍ１ｎＳＢ２Ｈ６ガスを０．
０４１／ｍｉｎ導入し１３．５ｓＭＨｚ、 １．２ＫＷ
の高同波により、Ｂを含むダイアモンド状硬質炭素薄膜
を３６０マの直流加速条件で８０人形成し、次に、パー
フルオロステアリン酸を４Ｘ １０−５（Ｔｏｒｒ）の
真空中で８０人真空蒸着し８ミリ幅の磁気テープとした
。−ガル転倒は、ＣＨ４ガスを１．２ （４／ｍ１ｎ）
導入し、１３．５６（ＭＨｚ）、１．４ＫＷ（７）高周
波を印加し、カロ速電圧３９０マでダイアモンド状硬質
炭素薄膜を１６０人配し、その上にパーフルオロステア
リン酸を８０人真空蒸着し、８ミリ幅の磁気テープとし
た。両者のテープを改造した８ミリビデてオにより、ギ
ャップ長０．２３μｍ のメタルインギャップ型のアモ
ルファスヘラ鼾°により、輝度信号の周波数を６０％増
加させた広帯域条件でのＣ／Ｎとスチル特性を比較した
。実施例は初期値のＣ／Ｎが比較例よｐ２．３（ｄＢ）
良好であった。又。
４０℃８０％ＲＨでくり返し記録再生を行った時、６０
回目の再生出力にジッター成分が比較例では画面に影響
が現われたが、実施例は、１６０回目の再生出力にもジ
ッター成分がみられず安定していた。２０Ｃ１５％ＲＨ
でのスチル特性は実施例も比較例もほぼ同程度の耐久性
を示した。即ち、１６分で出力が０．６〜１（ｄＢ）低
下し、３０分で１．１〜１．４（ｄＢ） 出力が低下す
る程度で良好であった。
回目の再生出力にジッター成分が比較例では画面に影響
が現われたが、実施例は、１６０回目の再生出力にもジ
ッター成分がみられず安定していた。２０Ｃ１５％ＲＨ
でのスチル特性は実施例も比較例もほぼ同程度の耐久性
を示した。即ち、１６分で出力が０．６〜１（ｄＢ）低
下し、３０分で１．１〜１．４（ｄＢ） 出力が低下す
る程度で良好であった。
他に、Ｔｉ、Ｓｉの塩化物のガスを用いてＴｉ 、 Ｓ
ｉを含むダイアモンド状硬質炭素薄膜を形成し、スルフ
ォン酸、脂肪酸等の反応基を有する潤滑剤を真空蒸着し
てもよい。尚、Ｓｉ、Ｔｉ、ＢはＣに対し原子％で３％
〜１６％程度含むのが適当である。
ｉを含むダイアモンド状硬質炭素薄膜を形成し、スルフ
ォン酸、脂肪酸等の反応基を有する潤滑剤を真空蒸着し
てもよい。尚、Ｓｉ、Ｔｉ、ＢはＣに対し原子％で３％
〜１６％程度含むのが適当である。
発明の効果
以上のように本発明によれば、短波長域で優れたＣ／Ｎ
と耐久性を有する磁気記録媒体を製造することができる
といったすぐれた効果がある。
と耐久性を有する磁気記録媒体を製造することができる
といったすぐれた効果がある。
図は本発明を実施するのに用いた磁気記録媒体の製造装
置の要部構成図である。 １・・・・・・処理基板、４・・・・・・反応管、７・
・・・・・高周波コイル、８・・・・・潤滑剤蒸発源。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名／−
−恋理呈液 ４−及斥管 ７− 高ＭＪ−Ｊオル ８−一一ンＭ滑刑蒸亮源
置の要部構成図である。 １・・・・・・処理基板、４・・・・・・反応管、７・
・・・・・高周波コイル、８・・・・・潤滑剤蒸発源。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名／−
−恋理呈液 ４−及斥管 ７− 高ＭＪ−Ｊオル ８−一一ンＭ滑刑蒸亮源
Claims (1)
- 強磁性金属薄膜上にボロン又はチタン又はシリコンを含
む硬質炭素薄膜を形成した後、連続して真空蒸着法にて
反応基を有する潤滑剤を配することを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63008703A JP2563425B2 (ja) | 1988-01-19 | 1988-01-19 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63008703A JP2563425B2 (ja) | 1988-01-19 | 1988-01-19 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01184722A true JPH01184722A (ja) | 1989-07-24 |
| JP2563425B2 JP2563425B2 (ja) | 1996-12-11 |
Family
ID=11700297
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63008703A Expired - Fee Related JP2563425B2 (ja) | 1988-01-19 | 1988-01-19 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2563425B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01286113A (ja) * | 1988-05-13 | 1989-11-17 | Hitachi Ltd | 磁気ディスク及びその製造方法 |
| JPH0325723A (ja) * | 1989-06-22 | 1991-02-04 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| JPH03113825A (ja) * | 1989-09-26 | 1991-05-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH0467431A (ja) * | 1990-07-06 | 1992-03-03 | Kubota Corp | 磁気記録媒体の保護潤滑膜形成方法 |
| US5540957A (en) * | 1992-07-24 | 1996-07-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of manufacturing a magnetic recording medium |
| US5798135A (en) * | 1993-12-28 | 1998-08-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for producing a magnetic recording medium having a carbon protective layer |
| US6171674B1 (en) * | 1993-07-20 | 2001-01-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Hard carbon coating for magnetic recording medium |
| US6835523B1 (en) * | 1993-05-09 | 2004-12-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Apparatus for fabricating coating and method of fabricating the coating |
| JP2006028273A (ja) * | 2004-07-13 | 2006-02-02 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 炭化水素系有機薄膜からなる潤滑剤及び潤滑方法 |
-
1988
- 1988-01-19 JP JP63008703A patent/JP2563425B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01286113A (ja) * | 1988-05-13 | 1989-11-17 | Hitachi Ltd | 磁気ディスク及びその製造方法 |
| JPH0325723A (ja) * | 1989-06-22 | 1991-02-04 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| JPH03113825A (ja) * | 1989-09-26 | 1991-05-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
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| US5637393A (en) * | 1992-07-24 | 1997-06-10 | Matsuhita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic recording medium and its manufacturing method |
| US6835523B1 (en) * | 1993-05-09 | 2004-12-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Apparatus for fabricating coating and method of fabricating the coating |
| US6171674B1 (en) * | 1993-07-20 | 2001-01-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Hard carbon coating for magnetic recording medium |
| US6183816B1 (en) | 1993-07-20 | 2001-02-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method of fabricating the coating |
| US6468617B1 (en) | 1993-07-20 | 2002-10-22 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Apparatus for fabricating coating and method of fabricating the coating |
| US5798135A (en) * | 1993-12-28 | 1998-08-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for producing a magnetic recording medium having a carbon protective layer |
| JP2006028273A (ja) * | 2004-07-13 | 2006-02-02 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 炭化水素系有機薄膜からなる潤滑剤及び潤滑方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2563425B2 (ja) | 1996-12-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |