JPH01188764A - 高真空用ガスケツト - Google Patents
高真空用ガスケツトInfo
- Publication number
- JPH01188764A JPH01188764A JP1125888A JP1125888A JPH01188764A JP H01188764 A JPH01188764 A JP H01188764A JP 1125888 A JP1125888 A JP 1125888A JP 1125888 A JP1125888 A JP 1125888A JP H01188764 A JPH01188764 A JP H01188764A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gasket
- vacuum
- rubber
- metal
- high vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Gasket Seals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は例えば機器を超高真空に維持するために用い
られる高真空用ガスケットに関するものである。
られる高真空用ガスケットに関するものである。
第3図は例えばJIS B2401に示された典型的な
高真空用ガスケットである従来のOリングを示す断面図
で、図中(!I)はOリングで、合成ゴム、天然ゴム又
は合成樹脂で形成されている。
高真空用ガスケットである従来のOリングを示す断面図
で、図中(!I)はOリングで、合成ゴム、天然ゴム又
は合成樹脂で形成されている。
第4図は高真空用ガスケットの一般的な実施態様を示す
部分断面構成図で、図において、(1)は真空ポンプ、
(21は真空チャンバ、(3)は真空ボン・プ(1)の
フランジ%(4)は7ランジ(3)に設けられたガスケ
ット用のe、(5)はガスケット、この場合はOリング
、(6)は真空チャンバ品のフランジ、(7)は真空ポ
ンプ(1)と真空チャンバ(21とを結合するボルト、
ナツト、αOは真空系である。
部分断面構成図で、図において、(1)は真空ポンプ、
(21は真空チャンバ、(3)は真空ボン・プ(1)の
フランジ%(4)は7ランジ(3)に設けられたガスケ
ット用のe、(5)はガスケット、この場合はOリング
、(6)は真空チャンバ品のフランジ、(7)は真空ポ
ンプ(1)と真空チャンバ(21とを結合するボルト、
ナツト、αOは真空系である。
この真空系all)においては、真空ポンプ(1)と真
空チャンバ(2)とを7ランジ<4)(61で結合して
、真空チャンバ(21内部を真空にひく。この際にフラ
ンジ(3)の結合部に真空シール用のガスケット(5)
を用いる。
空チャンバ(2)とを7ランジ<4)(61で結合して
、真空チャンバ(21内部を真空にひく。この際にフラ
ンジ(3)の結合部に真空シール用のガスケット(5)
を用いる。
一般にゴム材は多量のガスを内部に吸蔵しており、表面
が真空に曝されると、このガスが表面から真空部に放出
される。この単位面積当りのガス放出量はステンレス鋼
: 3 X 10 Pa−m”/s/n”。
が真空に曝されると、このガスが表面から真空部に放出
される。この単位面積当りのガス放出量はステンレス鋼
: 3 X 10 Pa−m”/s/n”。
ゴム: 3 X 10 Pa−m”/s/m”である
ノテ、真空系Qdの主要な構成材料であるステンレス鋼
に比べると、約1000 倍大きい。従って、真空系α
Oの全表面積中、ガスケット(5)が占める表面積は小
さいが、この部分が放出するガス量は全ガス量の中で大
きな部分を占める。
ノテ、真空系Qdの主要な構成材料であるステンレス鋼
に比べると、約1000 倍大きい。従って、真空系α
Oの全表面積中、ガスケット(5)が占める表面積は小
さいが、この部分が放出するガス量は全ガス量の中で大
きな部分を占める。
一方、良く知られているように、真空系αOの到達真空
度は真空系αdの全ガス放出量と、真空ポンプ(1)の
排気速度とのつり合いによって決まる。従うて、従来の
真空系αOではゴム製のガスケットを使用しているため
に、到達真空度がこの部分の放出ガス量で規定されてし
まい、高い真空度が得られないという問題点があった。
度は真空系αdの全ガス放出量と、真空ポンプ(1)の
排気速度とのつり合いによって決まる。従うて、従来の
真空系αOではゴム製のガスケットを使用しているため
に、到達真空度がこの部分の放出ガス量で規定されてし
まい、高い真空度が得られないという問題点があった。
そこで、この問題点を解決するために、ゴム製ガスケッ
トに変えてメタルガスケットを用いるという方法がある
。ところが、メタルガスケットは放出ガス量が小さく、
高真空が得やすい反面、弾性に乏しく、フランジ面にな
じみにくい。このため真空リークをひきおこしやすいと
いう問題点がある。
トに変えてメタルガスケットを用いるという方法がある
。ところが、メタルガスケットは放出ガス量が小さく、
高真空が得やすい反面、弾性に乏しく、フランジ面にな
じみにくい。このため真空リークをひきおこしやすいと
いう問題点がある。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、単位面積当りのガス放出量を金属並みに抑制
できるとともに、真空リークをひきおこしにくい高真空
用のガスケットを得ることを目的とする。
たもので、単位面積当りのガス放出量を金属並みに抑制
できるとともに、真空リークをひきおこしにくい高真空
用のガスケットを得ることを目的とする。
この発明の高真空用ガスケットは、ゴム又は合成樹脂製
のガスケットに金属又はセラミックの薄膜を付着したも
のである。
のガスケットに金属又はセラミックの薄膜を付着したも
のである。
この発明における金属又はセラミックの薄膜はガスケッ
ト表面からの単位面積当りのガス放出量を大巾に低減す
る。
ト表面からの単位面積当りのガス放出量を大巾に低減す
る。
一方、本体はゴム又は合成樹脂製であるので、ゴムの弗
性を保持しており、例えば7リング面とのなじみも良く
、従って真空リークが発生しにくい。
性を保持しており、例えば7リング面とのなじみも良く
、従って真空リークが発生しにくい。
以下、乙の発明の一実施例を図について説明する。fi
1図の断面図において、(5)はこの発明の一実施例の
高真空用ガスケットで、この場合は0リングであり、ゴ
ム製ガスケット(ロ)の表面に金属薄膜(2)、この場
合は金又は銀の厚さ数μmの薄膜を付着している。即ち
金属薄膜でコーティングしている。
1図の断面図において、(5)はこの発明の一実施例の
高真空用ガスケットで、この場合は0リングであり、ゴ
ム製ガスケット(ロ)の表面に金属薄膜(2)、この場
合は金又は銀の厚さ数μmの薄膜を付着している。即ち
金属薄膜でコーティングしている。
金属薄膜(至)の付着(コーティング)方法としては、
蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング、その他
藩膜形成技術の分野で一般的な方法が適用できる。なお
、ゴムに金又は銀の金属を直接付着できない場合には、
まずゴムになじみやすい金属を付着させ、その上に金又
は銀を付着させるようにするとよい。
蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング、その他
藩膜形成技術の分野で一般的な方法が適用できる。なお
、ゴムに金又は銀の金属を直接付着できない場合には、
まずゴムになじみやすい金属を付着させ、その上に金又
は銀を付着させるようにするとよい。
このように、この発明の高真空用ガスケットは、本体は
ゴム製であるが表面に金属薄膜が付着・コーティングさ
れているので、表面からのガス放出量を大巾に低減する
ことができると1ともに、ゴムの弾性を有しているので
、フランジ面とのなじみも良く、真空リークが発生しに
くい優れたものである。
ゴム製であるが表面に金属薄膜が付着・コーティングさ
れているので、表面からのガス放出量を大巾に低減する
ことができると1ともに、ゴムの弾性を有しているので
、フランジ面とのなじみも良く、真空リークが発生しに
くい優れたものである。
なお、上記実施例ではガスケットに金又は銀の金属薄膜
を付着したものについて示したが、他の金属又は合金で
も良く、場合によっては、TiN。
を付着したものについて示したが、他の金属又は合金で
も良く、場合によっては、TiN。
SiC等のセラミックであっても良い。
また、上記実施例では、ゴム製本体全面に金属薄膜を付
着コーティングしたものについて示したが、第2図の断
面図に示す他の実施例の高真空用ガスケットのように、
金属薄膜を部分的に付着。
着コーティングしたものについて示したが、第2図の断
面図に示す他の実施例の高真空用ガスケットのように、
金属薄膜を部分的に付着。
即ち真空に接する部分だけに付着、コーティングするよ
うにしても良い。
うにしても良い。
さらに上記実施例ではゴム製のガスケットとしてOリン
グについて示したが、ゴム製に限らず、テフロン■のよ
うな合成樹脂製でもよく他のあらゆる形状のガスケット
に適用できる。
グについて示したが、ゴム製に限らず、テフロン■のよ
うな合成樹脂製でもよく他のあらゆる形状のガスケット
に適用できる。
さらにまた上記実施例では、真空チャンバと真空ポンプ
の結合部の真空シールの場合について示したが、真空パ
ルプのシート面、真空只ルブのグランド部、その他真空
システムのあらゆるシール部に適用できる@ 〔発明の効果〕 以上のように、この発明によれば、ゴム又は合成樹脂製
のガスケットに金属又はセラミックの薄膜を付着したこ
とにより、ガス放出量が小さく、真空リークをひきおこ
しにくい高真空用ガスケットが得られる効果がある。
の結合部の真空シールの場合について示したが、真空パ
ルプのシート面、真空只ルブのグランド部、その他真空
システムのあらゆるシール部に適用できる@ 〔発明の効果〕 以上のように、この発明によれば、ゴム又は合成樹脂製
のガスケットに金属又はセラミックの薄膜を付着したこ
とにより、ガス放出量が小さく、真空リークをひきおこ
しにくい高真空用ガスケットが得られる効果がある。
第1図はこの発明の一実施例の高真空用ガスケットを示
す断面図、第2図はこの発明の他の実施例を示す断面図
、第3図は従来の高真空用ガスケットを示す断面図、第
4図は高真空用ガスケットの一般的な実施態様を示す部
分断面構成図である。 図において、(5)は高真空用ガスケット、■はゴム製
ガスケット、(2)は金属薄膜である。 なお、図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。
す断面図、第2図はこの発明の他の実施例を示す断面図
、第3図は従来の高真空用ガスケットを示す断面図、第
4図は高真空用ガスケットの一般的な実施態様を示す部
分断面構成図である。 図において、(5)は高真空用ガスケット、■はゴム製
ガスケット、(2)は金属薄膜である。 なお、図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (1)
- ゴム又は合成樹脂製のガスケットに金属又はセラミック
の薄膜を付着したことを特徴とする高真空用ガスケット
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1125888A JPH01188764A (ja) | 1988-01-20 | 1988-01-20 | 高真空用ガスケツト |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1125888A JPH01188764A (ja) | 1988-01-20 | 1988-01-20 | 高真空用ガスケツト |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01188764A true JPH01188764A (ja) | 1989-07-28 |
Family
ID=11772915
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1125888A Pending JPH01188764A (ja) | 1988-01-20 | 1988-01-20 | 高真空用ガスケツト |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01188764A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0550243U (ja) * | 1991-12-09 | 1993-07-02 | 株式会社本山製作所 | 超高気密シール部材 |
| WO2005050069A1 (ja) * | 2003-11-21 | 2005-06-02 | Daikin Industries, Ltd. | 表面コーティングされたシール材 |
| JP2011506980A (ja) * | 2007-12-20 | 2011-03-03 | インフィコン ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 隔膜圧力測定セルの構造 |
| JP2019178695A (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-17 | 株式会社フジキン | 管継手 |
-
1988
- 1988-01-20 JP JP1125888A patent/JPH01188764A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0550243U (ja) * | 1991-12-09 | 1993-07-02 | 株式会社本山製作所 | 超高気密シール部材 |
| WO2005050069A1 (ja) * | 2003-11-21 | 2005-06-02 | Daikin Industries, Ltd. | 表面コーティングされたシール材 |
| CN100402895C (zh) * | 2003-11-21 | 2008-07-16 | 大金工业株式会社 | 表面经涂布的密封材料及密封材料的制造方法 |
| JP2011506980A (ja) * | 2007-12-20 | 2011-03-03 | インフィコン ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 隔膜圧力測定セルの構造 |
| JP2019178695A (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-17 | 株式会社フジキン | 管継手 |
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