JPH01190768A - 磁性塗料の製造方法およびそれを用いた磁気記録媒体と磁気記録再生装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気記録媒体に係り、特に磁気記録媒体の磁気
記録層を形成する磁性塗料の製造方法およびそれを用い
た電気特性ならびに信頼性に優れた高密度磁気ディスク
などに好適な磁気記録媒体、及び、上記磁気記録媒体と
これに記録および再生を行なう磁気ヘッドを有する磁気
記録再生装置。

〔従来の技術〕

従来の強磁性粉体をエポキシ樹脂などを含有する高分子
結合剤中に分散させた磁性塗料を非磁性基体上に塗布し
て磁気記録媒体を製造する方法は、特公昭５５−８１６
号公報をはじめとし数多く提＝３− 案されている。それらの中で、強磁性粉体を樹脂などと
共に混練して製造する方法が、特公昭５７−４０５６６
号公報および 特開昭５６−１００８７１号公報に開示されている。こ
れは、強磁性粉体とエポキシ樹脂などをシクロヘキサノ
ンに溶解した樹脂溶液と共に、高ずり応力下で混練して
磁性塗料をつくり、これを塗布して磁気記録技術を製造
する方法である。しかし、これらの従来技術においては
混線前に強磁性粉体を分散用の結合剤であるエポキシ樹
脂と十分に混合させるという点については全く配慮がな
されていなかった。そのため、これらの従来技術の方法
により得られた磁性塗料においては、混線時に添加され
る少量の樹脂溶液が強磁性粉体の一部に局所的に吸収さ
れた状態で混線が行なわれるため、磁性粉が均一に分散
したタクトイド構造の磁性塗料を得ることは混線の性能
上極めて困難であった。したがって、この従来法による
磁性塗料を用いて磁気記録層髪形酸させる場合、膜厚が
おおよそ０．９μｍ未満の薄膜の形成は不可能であり、
塗布された面の加工前の面粗さは約０．０８μｍＲａと
粗いものであった。そして、磁気ディスクの高記録密度
化に伴ない、塗膜の薄膜化が進行すると、塗膜加工量を
増やさざるを得なくなり、塗膜加工量の増大は加工時間
の増大につながるばかりでなく、塗膜表面のスクラッチ
傷の発生頻度の増大による電気的欠陥の増大を招くとい
う問題が生ずる。

電気的欠陥の増大は、該磁気記録再生装置に於る誤動作
を生ずることになる。さらに、塗膜表面のスクラッチ傷
は磁気ヘッドのディスク対向面をも傷つけ、ヘッドクラ
ッシュの原因となる。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述した従来技術により製造した磁性塗料は、磁性塗料
中の磁性粉の分散が不十分であったため、この磁性塗料
では、膜厚０，９μｍ未満の薄膜形成が事実上不可能で
あり、塗布された面の加工前の面粗さは約０．０８μｍ
Ｒ・と粗いも唱ツあ−た。また、近年の高記録密度磁気
ディスク装置では磁気ヘッドに薄膜ヘットが使用されて
いるため、磁気ディスク媒体の膜厚が大きいと信号が十
分に書き込めないという問題がある。磁気ディスク媒体
は通常、内周側が薄く、外周側が厚く塗布されている。

したがって、薄膜ヘットにおける上記１−ラブルは通常
、磁気ディスクの外周部で起こる。

その対策としては、磁気ディスク外周部の膜厚を薄くす
る必要があるが、現在のところ、内周部よりも外周部の
塗膜加工量を大きくする以外に方法はない。その結果、
塗膜加工時間の増大とスクラッチ傷の多量発生に伴なう
電気的欠陥の増大を招くことになる。

本発明の目的は磁性塗料の製造方法を改良することによ
り、塗料中の磁性粉の分散状態を良好にする。その結果
として磁気ディスク塗布面の加工前の面粗さを小さくす
ることにより、磁気ディスク媒体のＳ／Ｎ　（シグナル
／ノイズ）比を改良すると共に、塗布時の膜厚を磁気デ
ィスクの内外周とともに０．９μｍ以下にすることにあ
る。

本発明の他の目的は高Ｓ／Ｎ、高分解能の磁気記録再生
装置、磁気記録装置を提供することにある。さらに、本
装置の他の目的は、誤動作が少なく、さらに、ヘッド・
クラッシュの生じ難い磁気記録再生装置を提供すること
にある。

〔課題を解決するための手段〕

上記本発明の目的を達成するために、本発明者らは鋭意
研究を重ねた結果、従来は、磁性粉体の分散用結合剤で
ある塊状または板状などのエポキシ樹脂、フェノール樹
脂、ビニル樹脂などを使用していたのを、これを粒径２
０μｍ以下の粉末状の樹脂となし、これをあらかじめＢ
ＥＴ値３０ｍ”／ｇ以上の比表面積をもつ強磁性粉体と
機械的に十分に混合した後、連鎖の溶媒を添加して均一
に混合させている粉末状の樹脂を膨潤させて、高ずり応
力下で混線を行なって、樹脂粉末をほぼ溶融の状態にし
て強磁性粉体と均一に混練させ、その後、従来と同様に
ボールミル混線を行うことにより、強磁性粉体が均一に
分散したタクトイド構造の磁性塗料が得られることを見
出した。そして、このようにして製造した磁性塗料を用
い、非磁性基体に塗布し、配向することにより磁気デイ
＝７− スフを作製したところ、加工前の面粗さが０　、０３０
１Ｌｍ　Ｒａ以下と非常に小さく、しかも、５．２５イ
ンチの磁気膜厚が０．７μｍ以下のほぼ均一な磁気ディ
スクを得ることができ、本発明の目的を十分に達成する
ことができた。

本発明では、塗膜厚さが０．７μｍ以下と薄いめ、加工
後膜厚を０．３μｍ以下としても、スクラッチが入り難
く、このため、誤動作が少なく、かつ、ヘッドクラッシ
ュの生じ難い磁気記録装置を作製しうる。

〔作用〕 強磁性粉体を高ずり応力下で混練させるには、通常、少
量の樹脂溶液を添加して混線を行うが、添加する溶液は
強磁性粉体の一部に局所的に吸収されてしまい、磁性粉
はなかなか均一な状態になりにくく、固体／固体同志の
方がはるかに均一に混合され易い。本発明においては、
２０μｍ以下の微細に粉砕したエポキシ樹脂などの樹脂
組成物とＢＥＴ値３０ｍ２／ｇ以上の比表面積をもつ強
磁性粉体とを、あらかじめ十分に混合するために強磁性
粉体と樹脂組成物とは均一な混合状態となる。そして、
その後の溶媒の添加によって樹脂粒子は膨潤し、それを
核として強磁性粉体が吸着し混練されるため均一なタク
トイド構造の磁性塗料が得られ、その結果、極めて小さ
い面粗さの磁性薄膜の形成が可能になるものと考えられ
る。

本発明において強磁性粉体の分散用にエポキシ樹脂、フ
ェノール樹脂、ビニル樹脂などの粉末状の樹脂を用いる
が、これらの樹脂粉末の粒度を小さくするほど、また、
強磁性粉体も比表面積が大きいほどより小さい面粗さで
の薄膜塗布が可能となる。樹脂粉末の粒度としては、２
０μｍ以下が望ましく、強磁性粉体はＢＥＴ値３０ｍ２
／ｇ以上の比表面積を有していることが望ましい。

磁性塗料は通常、塗料中の溶剤量が増えると、強磁性粉
体の凝集が進行し、薄膜塗布が不可能になると共に面粗
さ（平滑性）も低下する。この傾向は、磁性粉が塗料中
でタクトイドを形成する磁性塗料、例えば、従来技術で
ある特公昭５７−４０５６６号公報、特開昭５６−１０
０８７１号公報に記載されているごとく、強磁性粉体を
エポキシ樹脂溶液に分散させた塗料では特に著しい。

本発明による磁性塗料では、塗料中で磁性粉がタフトイ
１く構造を形成するにもかかわらず、塗料中の溶剤量を
増加させても、強磁性粉体の凝集が進行しないため、上
記のような小さい面あらさでの薄膜塗布が可能となる。

また、本発明による磁性塗料の特異性は、磁気ディスク
円板に磁性塗料をスピン塗布した場合、通常は磁気ディ
スク円板の内周側は薄く、外周側は厚く塗布され、膜厚
勾配がつくのに対し、本発明による磁性塗料では、高速
スピン塗布に行なうことにより磁気ディスク（５，２５
インチ）の内外周での膜厚差は殆んどなく、内周部から
外周部にかけて、加工前膜厚で、例えば０．５μｍの均
一薄膜の形成が可能である。

これにより、磁気ディスクの高分解能化が可能であり、
薄膜ヘッドでの書き込み時のトラブルも解消される。ま
た、塗膜加工時間の大幅短縮も可能である。

〔実施例〕

以下に本発明の一実施例を挙げさらに詳細に説明する。

（実施例　１） 板状のエポキシ樹脂をジェットミルにて粉砕し、粒径約
８．０μＩｎのエポキシ樹脂粉末を得た。上記粉末状エ
ポキシ樹脂２５重量部と強磁性粉体（ＢＥＴ値４０ｍ２
／ｇの比表面積をもつ被着酸化鉄粉（Ｈｃ７７００ｅ）
）、１００重量部および単結晶アルミナ５重量部を十分
混合した後、シクロへキサノン１０重量部を添加して、
ニーダ混練機中でさらに混合を行なった。その後、さら
にシクロへキサノン５重量部を添加して約４時間高ずり
応力下で混線を行なった。

上記混線物をボールミルポットに入れ、シクロヘキサノ
ンとイソホロンからなる混合溶媒１４０重量部を加え、
３日間ボールミル混練を行ない、強磁性粉体を分散させ
た。つぎに、フェノール樹脂２５重量部とビニル樹脂６
重量部をシクロヘキサノン・イソホロン・ジオキサンか
らなる混合溶媒体４９０重量部に溶解した溶液を加えて
、磁気ディスク用の磁性塗料を調製した。つぎに、あら
かじめ、表面を清浄にした５、２５インチのアルミニウ
ム基板上に上記塗料をスピン塗布し、周知の方法により
磁場配向を行なった。塗布した磁気ディスクを２１０℃
で焼付けた後、塗膜厚、面粗さを測定した。

得られた塗布ディスクの加工前の膜厚はＲ３８を ｍｍで０．５０μｍ、Ｒ６０ｍｍでＱ、５　Ｑ　μｍで
あった。また、加工乏前の面粗さは０．０２０μｍＲａ
であった。その後、周知の方法により。

塗膜加工を行ない、加工後膜厚をＲ３８ｍｍ、　Ｒ６０
ｍｍともＱ、３０μｍとした。

本ディスクを、ギャップ長０．３μｍのメタルインギヤ
ツブ型ヘッド髪用いて、電気測定を行なった。測定条件
は、最高記録周波数を２６．２５ｋＰＣＩ、最低記録周
波数を６．５６ｋＰＣＩとした。再生出力と、ノイズを
測定し、最高記録周波数での信号とノイズの比をＳ／Ｎ
、最高記録周波数での信号を、最低記録周波数での信号
で割ってパーセント表示したものを分解能として求めた
。

＝１２− この結果を第１図に示す。縦軸がＳ／Ｎ、横軸が分解能
である。以下に述べる実施例を比較例についても同様の
測定を行い、その結果を第１図にまとめて示した。

（実施例２） 強磁性粉体（ＢＥＴ値４５ｍ２／ｇの比表面積をもつＣ
ｏ被着酸化鉄粉（Ｈｃ７７００ｅ））１００重量部と単
結晶アルミナ５重量部および粒径約３．０μｍのエポキ
シ樹脂粉末２５重量部を十分混合した後、シクロへキサ
ノン１０重量部を添加して、ニーダ混練機中でさらに混
合を行なった。その後、シクロへキサノン５重量部を添
加して約４時間高ずり応力下で混線を行なった。

上記混練物をボールミルボットに入れ、シクロヘキサノ
ン・イソホロンからなる混合溶媒１４０重量部を加え、
３日間ボールミル混練を行ない強磁性粉体を分散させた
。つぎに、フェノール樹脂２５重量部とビニル樹脂６重
量部をシクロヘキサノン・イソホロン・ジオキサンから
なる混合溶媒５５０重量部に溶解した溶液を加えて、磁
気デイスフ用の磁性塗料を調製した。つぎに、あらかじ
め表面を清浄にした５、２５インチのアルミニウム基板
上に上記塗料をスピン塗布し、周知の方法により磁場配
向を行ない、焼付けた後、塗膜厚とだ。塗布面には目視
欠陥は認められなかった。その後、周知の方法により塗
膜加工を行ないＲ３８ｍｍ、Ｒ６０ｍｍとも０．２２　
μｍとした。

（実施例３） 強磁性粉体（ＢＥＴ値５０ｍ２／ｇの比表面積をもつ酸
化鉄粉（Ｈｃ７７００ｅ））１．００重量部と粒径約２
．０μｍのエポキシ樹脂粉末２５重量部を十分混合した
後、シクロへキサノン１０重量部を添加して、ニーダ混
練機中でさらに混合を行なった。その後、シクロへキサ
ノン５重量部を添加して約４時間高ずり応力下で混線を
行なった。

上記混線物をボールミルポットに入れ、シクロヘキサノ
ン・イソホロンからなる混合溶媒１６５重量部を加え、
３日間ボールミル混練を行ない強磁性粉体を分散させた
。つぎに、フェノール樹脂２５重量部とビニル樹脂６重
量部をシクロヘキサノン・イソホロン・ジオキサンから
なる混合溶媒６００重量部に溶解した溶液を加えて、磁
気ディスク用の磁性塗料を調製した。つぎに、あらかじ
め表面を清浄にした５、２５インチのアルミニウム基板
上に上記塗料をスピン塗布し、周知の方法により磁場配
向を行ない、焼付けた後、塗膜厚と面粗さを測定した。

得られた塗布ディスクの加工前の膜厚はＲ３８ｍｍ、Ｒ
６０ｍｍとも０．３０μｍ、加工前の面粗さは０．０１
５μｍＲａであった。その後、周知の方法により塗膜加
工を行ないＲ３８ｍｍ、Ｒ６０ｍｍとも０．２０μｍと
した。

（実施例４） 粒径約２０μｍのエポキシ樹脂粉末を作成した。

上記粉末状エポキシ樹脂２５重量部と強磁性粉体（ＢＥ
Ｔ値３０ｍ２／ｇの比表面積を有する酸化鉄粉（Ｈｃ　
３５００　ｅ　）　）　１００重量部および単結晶アル
ミナ５重量部を十分混合した後、シクロヘキサノン１０
重量部を添加して、ニーダ混練機中でさらに混合を行な
った。その後、さらにシクロへキサノン５重量部を添加
して約４時間高ずり応力下で混線を行なった。

上記混線物をボールミルポットに入れ、シクロヘキサノ
ンとイソホロンからなる混藤合溶媒２００重量部を加え
、３日間ボールミル混練を行ない、強磁性粉体を分散さ
せた。つぎに、フェノール樹脂２５重量部とビニル樹脂
６重量部をシクロヘキサノン・イソホロン・ジオキサン
からなる混合溶媒４００重量部に溶解した溶液を加えて
、磁気ディスク用の磁性塗料を調製した。つぎに、あら
かじめ、表面を清浄にし５．２５インチのアルミニウム
基板上に上記塗料をスピン塗布し、周知の方法により磁
場配向を行なった。塗布した磁気ディスクを２１０℃で
焼付けた後、塗膜厚、面粗さを測定した。得られた塗布
ディスクの加工前の膜厚はＲ３８ｍｍで０．６　μｍ、
Ｒ６０ｍｍで０．７μｍであった。また、加工前の面粗
さは０．０３０μｍＲａであった。その後周知の方法に
より塗膜加工を行ない、Ｒ３８ｍｍ、Ｒ６０ｍｍとも０
．３０μｍにした。

（比較例１） 強磁性粉体（ＢＥＴ値３０ｍ２／ｇの比表面積をもつ酸
化鉄粉（Ｈｃ３５００ｅ））１００重量部と単結晶アル
ミナ５重量部をニーダ混練機に投入し、混合した。その
後、エポキシ樹脂１４重量部をシクロへキサノン２１重
量部に溶解した溶液を添加して混合を継続した。さらに
、エポキシ樹脂６重量部をシクロへキサノン９重量部に
溶解した溶液を添加して、約４時間高ずり応力下で混線
を行なった。

上記混線物をボールミルポットに入れ、エポキシ樹脂５
重量部とシクロヘキサノンとイソホロンからなる混合溶
媒１８０重量部を加え、５日間ボールミル混練を行ない
強磁性粉体を分散させた。

つぎに、フェノール樹脂２５重量部とビニル樹脂６重量
部をシクロヘキサノン・イソホロン・ジオキサンからな
る混合溶媒３５０重量部で溶解した溶液を加えて、磁気
ディスク用の磁性塗料を調製した。

つぎに、あらかじめ表面を清浄にした５、２５インチの
アルミニウム基板上に上記塗料をスピン塗布し、周知の
方法により、磁場配向を行ない、焼付けた後、塗膜厚と
面粗さを測定した。得られた塗布ディスクの加工前の膜
厚は、Ｒ３８ｍｍで０．９μｍ、Ｒ６０ｍｍで１．０μ
ｍであった。そして、加工前の面粗さは０．０８μｍＲ
ａであった。その後、周知の方法により塗膜加工を行な
いＲ３８ｍｍ、０．３μｍ、Ｒ６０ｍｍ、０．３５μｍ
とした。

（比較例２） 強磁性粉体（ＢＥＴ値４０ｍ２／ｇの比表面積をもつＣ
ｏ被着酸化鉄粉（Ｈｃ７７００ｅ））１００重量部と単
結晶アルミナ５重量部をニーダ混練機に投入し、混合し
た。その後、エポキシ樹脂１４重量部をシクロへキサノ
ン２１重量部に溶解した溶液を添加して混合を継続した
。さらに、エポキシ樹脂６重量部をシクロへキサノン９
重量部に溶解した溶液を添加して、約４時間高ずり応力
下で混線を行なった。

上記混練物をボールミルボッ１〜に入れ、エポキシ樹脂
５重量部とシクロヘキサノンとイソホロンからなる混合
溶媒１８０重量部を加え、５日間ボールミル混練を行な
い強磁性粉体を分散させた。

つぎに、フェノール樹脂２５重量部とビニル樹脂６重量
部をシクロヘキサノン・イソホロン・ジオキサンからな
る混合溶媒４５０重量部で溶解した溶液を加えて、磁気
ディスク用の磁性塗料を調製した。

つぎに、あらかじめ表面を清浄にした５、２５インチの
アルミニウム基板上に上記塗料をスピン塗布し、周知の
方法により、磁場配向を行ない、焼付けた後、塗膜厚と
面粗さを測定した。得られた塗布ディスクの加工前の膜
厚は、Ｒ３８ｍｍで０．４μｍ、Ｒ６０ｍｍで０．７　
μｍであった。そして、加工前の面粗さは０．２３μｍ
Ｒａであった。

（比較例３） 板状のエポキシ樹脂をミキサにて粉砕し、粒径約１００
μｍのエポキシ樹脂粉末を得た。上記粉末状エポキシ樹
脂２５重量部と強磁性粉体（ＢＥＴ値２２ｒｎ２／ｇの
比表面積をもつ酸化鉄粉（Ｈｃ３４００８））、１００
重量部および単結晶アルミナ５重量部を十分混合した後
、シクロへキサノン１０重量部を添加して、ニーダ混練
機中でさらに混合を行なった。その後、さらにシクロへ
キサノン５重量部を添加して約４時間高ずり応力下で混
線を行なった。

上記混線物をボールミルポットに入れ、シクロヘキサノ
ンとイソホロンからなる混合溶媒２００重量部を加え、
５日間ボールミル混練を行ない、強磁性粉体を分散させ
た。つぎに、フェノール樹脂２５重量部とビニル樹脂６
重量部をシクロヘキサノン・イソホロン・ジオキサンか
らなる混合溶媒体２８０重量部に溶解した溶液を加えて
、磁気ディスク用の磁性塗料を調製した。つぎに、あら
かじめ、表面を清浄にした５、２５インチのアルミニウ
ム基板上に上記塗料をスピン塗布し、周知の方法により
磁場配向を行なった。塗布した磁気ディスクを２１０°
Ｃで焼付けた後、塗膜厚、面粗さを測定した。

得られた塗布ディスクの加工前の膜厚はＲ３８ｍｍで０
．８μｍ、Ｒ６０ｍｍでＱ、９μｍであった。また、加
工♂前の面粗さは０．０４５μｍＲａであった。

以上の本発明の実施例において用いた強磁性粉体の分散
用高分子結合剤として、エポキシ樹脂、フェノール樹脂
、ビニル樹脂を用いているが、その他、一般に使用され
ている塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−
酢酸ビニル−ビニルアコール共重合体、アクリロニトリ
ル−アクリル酸−２−ヒドロキシエチルメタクリレート
共重合体などのビニル系樹脂、アクリロニトリル−ブタ
ジェン共重合体などのゴム系樹脂、ニトロセルロース、
アセチルセルロースなどの繊維素系樹脂、フェノキシな
どのエポキシ系樹脂、ウレタン、ウレタンプレポリマー
などのウレタン系樹脂など、強磁性粉体の結合性のよい
通常の有機高分子化合物を用いることができる。なお、
本発明における強磁性粉体の分散用高分子結合剤として
用いるビニル樹脂としては、ポリビニルアセテ−ト、ポ
リビニルホルマール、ポリビニルアセテートなどを挙げ
ることができ、この中で特にポリビニルブチラールを用
いることがより好ましい。

また、強磁性粉体としては、本実施例では、酸化鉄粉と
Ｃｏ被着酸化鉄粉を用いているが、その他にも、ＢＥＴ
値３Ｑｍ２／ｇ以上の比表面積を有するメタル粉、バリ
ウムフェライト粉等を用いることができる。

〔発明の効果〕

以上詳細に説明したごとく本発明の方法によって製造し
た磁性塗料は、強磁性粉体が塗料中に均一に分散された
タフ１−イド構造の磁性塗料を得ることができ、これを
磁気記録媒体、例えば１４インチのアルミニウム基板を
用いた磁気ディスクに適用すると、加工前の表面粗さが
０．０５０ＩＬｍＲａ以下と非常に小さい面粗さとなり
、また磁気ディスクの内外周とも０．９μｍ以下の極め
て薄く、かつ均一な膜厚の薄膜を塗布法により容易に較
して、加工時間を半減することができ、さらに加工時の
スクラッチ傷などによる電圧的欠陥を半減させる効果が
ある。また、磁気ディスクのノイズに関しても約３０％
程度の低減が期待できると共に、出力分解能の向上も期
待できる。さらに、磁気ディスク外周部の膜厚が薄いた
め、薄膜ヘット使用時のトラブルなども解消することが
できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例１．実施例２．実施例３、実施
例４および比較例１の磁気ディスクの電気特性の比較を
示す図である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、磁気記録媒体の磁気記録膜形成用の塗料組成物であ
   る磁性塗料の製造方法において、磁気記録膜を構成する
   強磁性粉体と、該強磁性粉体の分散結合剤である樹脂組
   成物とを混合させる際に、上記樹脂組成物を微粉末とな
   し、上記強磁性粉体もしくは充填剤を含む強磁性粉末と
   、上記微粉末とした樹脂組成物とを、機械的に十分に混
   合させた後、高ずり応力下で混練させる工程を含む磁性
   塗料の製造法において上記強磁性粉体の比表面積ＢＥＴ
   値が３０ｍ＾２／ｇ以上であることを特徴とする磁性塗
   料の製造方法。 ２、上記強磁性粉体は酸化鉄粉、Ｃｏ被着酸化鉄粉、メ
   タル粉、バリウムフェライト粉のうちの少なくとも１種
   である特許請求の範囲第１項記載の磁性塗料の製造方法
   。 ３、上記樹脂組成物は、エポキシ樹脂、フェノール樹脂
   、ビニル樹脂のうちの少なくとも１種を含む特許請求の
   範囲第１項記載の磁性塗料の製造方法。 ４、上記樹脂組成物は平均粒径２０μｍ以下の微粉末で
   ある特許請求範囲第１項記載の磁性塗料の製造方法。 ５、磁気記録膜形成用の塗料組成物である磁性塗料を用
   いて製造される磁気記録媒体において、その比表面積Ｂ
   ＥＴ値が３０ｍ＾２／ｇ以上である強磁性粉体もしくは
   充填剤を含む該強磁性粉体と該強磁性粉体の分散結合剤
   であるところの微粉末化した樹脂組成物とを、機械的に
   十分に混合させた後、溶媒を添加して、高ずり応力下で
   混練させる工程を含む方法で製造した磁性塗料を用いて
   、非磁性基体上に磁性塗膜を形成させて成る、加工前に
   おける上記磁性塗膜の膜厚が薄くほぼ均一であり、かつ
   表面粗さの小さい磁性塗膜を有することを特徴とする磁
   気記録媒体。 ６、上記強磁性粉体は酸化鉄粉、Ｃｏ被着酸化鉄粉、メ
   タル粉、バリウムフェライト粉のうちの少なくとも１種
   である特許請求の範囲第５項記載の磁気記録媒体。 ７、上記樹脂組成物は、エポキシ樹脂、フェノール樹脂
   、ビニル樹脂のうちの少なくとも１種からなる特許請求
   の範囲第５項記載の磁気記録媒体。 ８、上記樹脂組成物は平均粒径２０μｍ以下の微粉末で
   ある特許請求の範囲第５項記載の磁気記録媒体。 ９、上記磁気記録媒体は磁気ディスクである特許請求の
   範囲第５項記載の磁気記録媒体。１０、上記非磁性基体
   上に形成された加工前の磁性塗膜の膜厚は０．７μｍ以
   下のほぼ均一な磁性塗膜であり、かつ上記磁性塗膜の表
   面粗さは０．０３μｍＲａ以下である特許請求の範囲第
   ５項記載の磁気記録媒体。 １１、飽和磁束密度が４ｋＧ以上である磁性材料を少な
   くとも磁気ギャップ近傍に設けた磁気ヘッドと、特許請
   求の範囲第５項に記載の磁気記録媒体を有し、記録なら
   びに再生を行なうことを特徴とする磁気記録再生装置。 １２、上記磁性材料の膜厚は５μｍ以上である特許請求
   の範囲第１１項記載の磁気記録装置。 １３、上記飽和磁束密度は９ｋＧ以上である特許請求の
   範囲第１１項記載の磁気記録装置。