JPH0417111A - 塗布型磁気記録媒体及び磁気記録再生装置並びに磁性塗料の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気記録媒体に依り、特に磁気記録媒体の磁気
記録層を形成する磁性塗料の製造方法およびそれを用い
た電気特性ならびに信頼性に優れた高密度磁気ディスク
及びこれと記録および再生を行なう磁気ヘッドを有する
磁気記録再生装置に関する。

〔従来の技術〕

従来、強磁性粉体をエポキシ樹脂、フェノール樹脂、ビ
ニル樹脂等を含有する高分子結合剤中に分散させた磁性
塗料を非磁性基体上に塗布して磁気記録媒体を製造する
優れた方法として、Ｃｏ被着酸化鉄粉について、特開昭
６３−４４’２２号公報、特開平１−１．９０７６８号
公報等が開示されている。上記の方法は微粉末状にした
樹脂組成物を強磁性粉体と機械的に十分に混合させた後
、高ずり応力下で混練させる工程で磁性塗料をつくり、
これを塗布する。

従来、高記録密度化については、Ｃｏ被着酸化鉄粉、バ
リウムフェライト粉を強磁性粉体として用い、これを微
粉末状のエポキシ樹脂から成る分散結合剤で混練して得
た磁性塗料を非磁性基体に塗布して磁気記録膜を得る方
法が特開平１−１９０７６８号公報において論じられて
いる。また、メタル粉を強磁性粉体として用いた磁性塗
料を非磁性基板上に塗布して形成した塗膜を不活性ガス
中で焼付は硬化した磁気記録膜を得る方法が特開昭５９
−３３６２７号公報において論じられている。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記従来技術において、Ｃｏ被着酸化鉄粉の場合は、面
記録密度５４Ｍｂ／ｉｎ２が得られ、期待通りの記録密
度が得られているが、バリウムフェライト粉およびメタ
ル粉の場合は期待通りの面記録密度が得られていない。

これは、次の理由による。

磁気ディスク媒体の記録導度は近年益々向上している。

それに伴い、磁気ディスク媒体の塗膜は次第に薄膜化し
てきている。しかし、バリウムフェライト粉は結晶磁気
異方性が大きいため、メタル粉は磁化量が大きいため、
いずれも分散が困難な磁性材料である。そのため、これ
らの磁性材料を用いた磁性塗料を塗布した磁気ディスク
媒体で、加工前の塗膜膜厚が０．３μｍ以下で、かつ加
工前の塗膜面粗さが０．０４０μｍ　Ｒａ　以下のもの
は得られていない。

したがって、磁性材料に、バリウムフェライト粉または
メタル粉を用いた磁気ディスク媒体を製造する場合には
、塗膜加工量を増すことにより、面粗さの小さい、薄膜
の磁気ディスク媒体を得ることになる。塗膜加工量の増
大は加工時間の増加につながるばかりでなく、塗膜表面
のスクラッチ傷の発生頻度を増大させると同時に、塗膜
中の磁性粉体の破損、破断を招き、磁気ディスク媒体の
電気特性を劣化させることになる。

磁気ディスクの加工前の面粗さと磁気ディスクノイズと
は第２図に示すような関係がある。それ故、磁気ディス
クの加工前の面粗さは可能な限り小さい方が望ましいが
、磁性材料にバリウムフェライト粉、メタル粉を用いる
場合には、磁気ディスクの薄膜化が進むほど、第１図に
示すように加工前に面粗さの小さい磁気ディスクを得る
ことが困難である。

また、特にバリウムフェライト粉の場合には以下の問題
があった。即ち、バリウムフェライト粉を含有する磁性
塗料をアルミニウム基板上に塗布し、面内配向を施した
磁気ディスクは第３図に示すように、磁気ディスクの加
工前の面粗さを小さくすると、Ｂ　ｒ　／　Ｂ　ｍ値も
小さくなる傾向があった。そのため、バリウムフェライ
ト粉を用いて、ノイズが小さい、再生出力の７大きい磁
気ディスクは得られなかった。

また、特にメタル粉の場合には以下の問題があった。即
ち、メタル粉を含有する磁気ディスク媒体は窒素気流中
での高温焼付は処理を行なうと、メタル粉が酸化劣化す
るため、第４図に示すように、磁気ディスク媒体の磁化
量は大幅に低下した。

本発明の目的は磁性材料にバリウムフェライト粉、メタ
ル粉を用いた薄膜で面粗さの小さい磁気記録媒体を提供
することにある。

本発明の他の目的はバリウムフェライト粉を用いた磁性
塗料の製造方法を改良することにより、加工前の面粗さ
が小さくて、かつ、Ｂｒ／Ｂｍ値の大きい、即ち、ノイ
ズが小さくて、再生出力の大きい磁気ディスクを得るこ
とにある。

本発明の他の目的は、特にメタル粉について、磁性塗料
の製造方法を改良することにより、メタル粉の酸化を抑
制し、磁化量の大きい、即ち、再生出力の大きい磁気デ
ィスクを得ることにある。

本発明の他の目的は高Ｓ／Ｎ、高分解能の磁気記録再生
装置を提供することにある。さらに、本装置の他の目的
は、誤動作が少なく、さらに、ヘッドクラッシュの生じ
難い磁気記録再生装置を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的はｐ−ビニルフェノール樹脂、その誘導体およ
びその共重合体の粉末から成る群から選ばれた少なくと
も１種を分散用高分子結合剤として用いることにより達
成できる。優れた方法としては、バリウムフェライト粉
またはメタル粉をｐ−ビニルフェノール樹脂粉末と混合
後、高ずり応力下で混練を行なう方法がある。この方法
により上記強磁性粉体が均一に分散した磁性塗料が得ら
れることを見出した。そして、このようにして製造した
磁性塗料を用い、非磁性基体に塗布し、配向することに
より、内周から外周にかけての加工前の塗膜膜厚が０．
３μｍ以下のほぼ均一な磁気ディスク媒体を得ることが
できた。また、上記磁気ディスク媒体は加工前の面粗さ
が０．０２μｍＲａ以下と小さいものであった。

〔作用〕

本発明の一具体例であるバリウムフェライト粉を用いて
本発明の方法によりつくられた磁性塗料を非磁性基板に
塗布し、面内配向として得た磁気ディスクでは、第１図
に示されるように、小さな塗膜面粗さでの薄膜化が可能
である。もた、第３図に示されるように、小さな塗膜面
粗さでＢｒ／８ｍを大きな値に保つことも可能である。

これらの結果から、上記ｐ−ビニルフェノール樹脂等の
粉末を分散用高分子結合剤として用いた場合、磁性塗料
中でのバリウムフェライト粉の分散性が良くなることが
わかる。この理由の詳細は不明であるが、以下のように
推察される。すなわち、上記ｐ−ビニルフェノール樹脂
等は前述したように高分子量であるため、ｐ−ビニルフ
ェノール樹脂等は強磁性粉体表面に長く強く吸着する。

そのため、ｐ−ビニルフェノール樹脂等が吸着した強磁
性粉体は有機溶媒中での分散安定性が極めて良くなる。

その結果として、強磁性粉体として、分散が困難とされ
ているバリウムフェライト微粉末のような強磁性粉体で
も、極めて小さい面粗さの磁性薄膜の形成が可能になっ
たものと推察される。

また、メタル粉を用いた面内配向磁気ディスクの場合も
、小さな面粗さでの薄膜化が可能である。

さらにこの場合、第４図に示すように、メタル粉の耐酸
化性を大幅に向上させることが可能になった。その理由
の詳細は不明であるが、以下のように考えられる。メタ
ル粉表面にｐ−ビニルフェノール樹脂等が強く、多量に
吸着する。ｐ−ビニルフェノール樹脂等はＦｅと結合し
て、キレ−１−を形成していると考えられる。その結果
、金属が安定化され、メタル粉の耐酸化性が向上してい
るものと考えられる。

本発明では、塗膜膜厚が０．３μｍ以下の塗膜も極めて
小さな面粗さで形成できるため、最終的に希望する塗膜
膜厚が０．３μｍ以下の磁気ディスク媒体を得る場合で
も、従来のような多量の塗膜加工を必要としない。その
ため、塗膜表面には、スクラッチは殆ど発生せず、塗膜
中の強磁性粉体の破損、破断が無いため、優れた電気特
性を有する磁気ディスク媒体、磁気記録再生装置を提供
し得る。

特に、バリウムフェライト粉を用いた面内配向磁気ディ
スク媒体においては、加工前の塗膜面粗さが０　、０２
　μｍ　Ｒａ　以下と小さくて、Ｂｒ７８ｍ値が０．８
５　と大きな磁気ディスク媒体を得ることが初めて可能
になった。また、メタル粉を用いた面内配向磁気ディス
ク媒体においては、ｐビニルフェノール樹脂等を分散用
高分子結合剤として用いたため、メタル粉の酸化をかな
り抑制することが可能になり、高温焼付は処理による磁
気ディスク媒体の磁化量の低下を従来の１／２以下にす
ることが可能になった。その結果、メタル粉を含有した
磁気ディスクを初めて実用可能なものにすることができ
た。

以上述べた理由により、バリウムフェライト粉またはメ
タル粉を用いた上記の磁気ディスク媒体を用いることに
より、面記録密度７０　Ｍ　ｂ　／ｉｎ２以上の磁気記
録再生装置が容易に得られる。

本発明において、強磁性粉の分散用にｐ−ビニルフェノ
ール樹脂を用いるが、その一部を臭素化した誘導体や、
ｐ−ビニルフェノールとスチレンあるいはｐ−ビニルフ
ェノールとメチルメタアクリレートあるいはｐ−ビニル
フェノールとヒドロキシエチルメタアクリレ−１−等の
共重合体を用いることが可能である。これらの樹脂はい
ずれも粉末状の樹脂であるが、本発明の目的には粉末粒
径は小さい方が望ましく、粒径が大きい場合には２００
μｍ以下、より好ましくは２０μｍ以下の粒径に粉砕す
る必要がある。

本発明は、特に、バリウムフェライト粉とメタル粉に対
し著しい効果を示すが、酸化鉄粉、Ｃ。

被着酸化鉄粉を用いてもよい。本発明において用いられ
る強磁性粉体は、ＢＥＴ比表面積が３０ｍ２７ｇ以上、
好ましくは４０　ｒｒ？　／　ｇ以上のものであること
が望ましい。

また、本発明における強磁性粉体とｐ−ビニルフェノー
ル樹脂粉末等の高ずり応力下の混線は具体的には、強磁
性粉体とｐ−ビニルフェノール樹脂粉末等の混合物に少
量の溶剤を添加して混線を行なっている。当然の結果と
して、混線物は高粘度になるため、少なくともｌ　Ｏ’
ｄｙｎｅ／　ｃｘＮ以上の高ずり応力がかけられるよう
な混練装置、例えば、ニーダ−混線機等を用いる。高ず
り応力下で混線を行なう方法により、得られた塗料にさ
らに超音波分散処理を施すとさらに優れた効果が得られ
る。

〔実施例〕

以下に本発明の一実施例を挙げさらに詳細に説明する。

実施例Ｉ ＢＥＴ比表面積５０　ｍ　／　ｇのバリウムフェライト
粉（Ｈｃｌｏｏｏｏｅ）１００重量部とｐ−ビニルフェ
ノール樹脂粉末２０重量部を十分に混合した後、シクロ
へキサノン２０重量部を添加して、ニーダ−混練機中で
、約４時間、高ずり応力下で混練を行なった。その後、
さらにシクロへキサノン１０重量部を添加し、約２時間
混棟を継続した。

上記混練物をボールミルポットに入れ、シクロヘキサノ
ンとイソホロンからなる混合溶媒１１５重量部を加え、
５日間ボールミル混練を行ない、バリウムフェライト粉
を分散させた。つぎに、エポキシ樹脂２８重量部とビニ
ル樹脂７重量部をシクロヘキサノン・イソホロン・ジオ
キサンからなる混合溶媒６００重量部に溶解した溶液を
加えて、磁気ディスク用の磁性塗料を調製した。つぎに
、あらかじめ表面を清浄にした５、２５インチのアルミ
ニウム基板上に上記塗料をスピン塗布し、周知の方法に
より面内磁場配向を行なった。塗布した磁気ディスクを
２３０℃で焼付けた後、塗膜膜厚９面粗さ及びＢｒ／Ｂ
ｍ値を測定した。

得られた磁気ディスクの加工前の塗膜膜厚は半径方向距
離Ｒ３８ｍｎおよびＲ６０ｎｉｎのいずれの位置におい
ても０．２８μｍであった。また加工前の面粗さは０．
０１８　μｍＲａ　　、Ｂ　ｒ／Ｂｍ値は０．８５であ
った。その後、周知の方法により塗膜加工を行ない、加
工後、膜厚をＲ３８ｎｗｎ　。

Ｒ６０画とも２４μｍとした。

本磁気ディスクをギャップ長０．３μｍのメタルインギ
ャップヘッドを用いて、浮動スペーシング０．１５μｍ
で評価した結果、ＤＳ。＝　４４ｋＰＣＩを示した。

実施例２ ＢＥＴ比表面積５０　ｍ　／　ｇのバリウムフェライト
粉（Ｈｃｌｏｏｏｏｅ）１００重量部とｐ−ビニルフェ
ノール樹脂粉末２０重量部を十分に混合した後、シクロ
へキサノン２０重量部を添加して、ニーダ−混練機中で
、約４時間、高ずり応力下で混線を行なった。その後、
シクロへキサノン１０重量部を添加し、さらに約２時間
混線を継続した。

上記混練物をボールミルボッ１−に入れ、シクロヘキサ
ノンとイソホロンからなる混合溶媒１１５重量部を加え
、５日間ボールミル混練を行ない、バリウムフェライト
粉を分散させた。つぎに、エポキシ樹脂２０重量部とフ
ェノール中間体１５重量部をシクロヘキサノン・イソホ
ロン・ジオキサンからなる混合溶媒４００重量部に溶解
した溶液を加えて、磁気ディスク用、の磁性塗料を調製
した。

つぎに、あらかじめ表面を清浄にした５、２５　インチ
のアルミニウム基板」二に上記塗料を超音波分解処理後
スピン塗布し、周知の方法により面内磁場配向を行なっ
た。塗布した磁気ディスクを２３０℃で焼付けた後、塗
膜厚９面粗さ及びＢ　ｒ　／　Ｂ　ｍ値を測定した。

得られた磁気ディスクの加工前の膜厚はＲ３８■および
Ｒ６０ｎｗｎのいずれの位置においても０．２２μｍで
あった。また、加工前の面粗さは０．０１６ｐ　ｍ　Ｒ
ａ　　であり、Ｂ　ｒ　／　Ｂ　ｍ値は０．９０であっ
た。加工後、塗膜膜厚を０．２０μｍとした。実施例１
と同様の評価を行なった結果、Ｄ５゜＝４９ｋＰＣＩを
示した。

実施例３ ＢＥＴ比表面積５０　ｍ　／　ｇのバリウムフェライト
粉（ＨｃｌＯＯｏｏｅ）１００重量部とｐ−ビニルフェ
ノール樹脂粉末２０重量部を十分に混合した後、シクロ
へキサノン２０重量部を添加して、ニーダ−混練機中で
、約４時間、高ずり応力下で混線を行なった。その後、
シクロへキサノン１０重量部を添加し、さらに約２時間
混線を継続した。

上記混線物をボールミルボッ１−に入れ、シクロヘキサ
ノンとイソホロンからなる混合溶媒１１５重量部を加え
、５日間ボールミル混練を行ない、バリウムフェライト
粉を分散させた。つぎに、エポキシ樹脂２０重量部とフ
ェノール中間体１５重量部をシクロヘキサノン・イソホ
ロン・ジオキサンからなる混合溶媒６００重量部に溶解
した溶液を加えて、磁気ディスク用の磁性塗料を調製し
た。

つぎに、あらかじめ表面を清浄にした５、２５　インチ
のアルミニウム基板上に上記塗料をスピン塗布し、周知
の方法により、面内磁場配向を行なった。塗布した磁気
ディスクを２３０℃で焼付けた後、塗膜厚２面粗さを測
定した。

得られた磁気ディスクの加工前の膜厚はＲ３８ｍおよび
Ｒ６０ｎｗｎのいずれの位置においても０．１２μｍで
あった。また、加工前の面粗さは０．０１４μｍＲａで
あった。加工後、塗膜膜厚を０．１０μｍとした。実施
例１と同様の評価を行なった結果、Ｄ、ｏ＝５３ｋＰＣ
Ｉを示した。

実施例４ ＢＥＴ比表面積５０ｒｒｒ／ｇのバリウムフェライト粉
（Ｈｃｌｏｏｏｏｅ、粒径約０．０８μｍ。

板状比１０）１００’重量部とＰ−ビニルフェノール樹
脂粉末２０重量部を十分に混合した後、シクロへキサノ
ン２０重量部を添加して、ニーダ−混線機中で、約４時
間、高ずり応力下で混線を行なった。その後、シクロへ
キサノン１０重量部を添加し、さらに約２時間混練を継
続した。

上記混練物をボールミルポットに入れ、シクロヘキサノ
ンとイソホロンからなる混合溶媒１１５重量部を加え、
５日間ボールミル混練を行ない、バリウムフェライト粉
を分散させた。つぎに、エポキシ樹脂２０重量部とフェ
ノール中間体１５重量部をシクロヘキサノン・イソホロ
ン・ジオキサンからなる混合溶媒９００重量部に溶解し
た溶液を加えて、磁気ディスク用の磁性塗料を調製した
。

つぎに、あらかじめ表面を清浄にした５、２５　インチ
のアルミニウム基体上に上記塗料を超音波分散処理後ス
ピン塗布し、周知の方法により、面内磁場配向を行なっ
た。塗布した磁気ディスクを２３０℃で硬化した。得ら
れた塗布ディスクの膜厚と面粗さを測定した。膜厚はＲ
３８＋ｎｍ、　Ｒ６０ｍのいずれにおいても０．０８μ
ｍであった。また、面粗さは０．０１μｍ　Ｒａ　であ
った。さらに、この場合バリウムフェライトの粒子の積
層構造は単層構造であった。本磁気ディスクは実施例１
と同様の評価により、Ｄ５ｏ＝５６ｋＰＣＩを示した。

実施例１〜４では、バリウムフェライト粉を用いた面内
配向の磁気ディスク媒体の例を示したが、垂直配向の磁
気ディスク媒体も作成した。

実施例５ 粒径０．１２μｍ、板状比４のバリウムフェライト粉（
ＨｃｌＯＯＯＯｅ）１００重量部とｐ−ビニルフェノー
ル樹脂粉末２０重量部を十分に混合した後、シクロへキ
サノン２０重量部を添加して、ニーダ−混練機中で、約
４時間、高ずり応力下で混練を行なった。その後、シク
ロへキサノン１０重量部を添加し、さらに約２時間混練
を継続した。

上記混練物をボールミルポットに入れ、シクロヘキサノ
ンとイソホロンからなる混合溶媒１１５重量部を加え、
５日間ボールミル混練を行ない、バリウムフェライ１へ
粉を分散させた。つぎに、エポキシ樹脂２０重量部とフ
ェノール中間体１５重量部をシクロヘキサノン・イソホ
ロン・ジオキサンからなる混合溶媒１４００重量部に溶
解した溶液を加えて、磁気ディスク用の磁性塗料を調製
した。つぎに、あらかじめ表面を清浄にした５、２５イ
ンチのアルミニウム基板上に上記磁性塗料を超音波分散
処理後、スピン塗布し、周知の方法により、垂直配向を
行なった。塗布した磁気ディスクを２３０℃で焼付けた
後、得られた磁気ディスクの加工前の塗膜膜厚はＲ３８
＋ｎｍ、Ｒ６０ｍｎのいずれにおいても０．０４μｍで
あった。また、加工前の塗膜面粗さは０．０１６μｍ　
Ｒａ　であった。

比較例Ｉ ＢＥＴ比表面積５０ｍ／ｇのバリウムフェライト粉（（
ＨｃｌＯＯＯＯｅ）１００重量部と粒径２０μｍのエポ
キシ樹脂粉末２４重量部を十分に混合した後、シクロへ
キサノン２０重量部を添加して、ニーダ−混線機中で、
約４時間、高ずり応力下で混線を行なった。その後、シ
クロへキサノン１０重量部を添加し、さらに約２時間混
練を継続した。

上記混練物をボールミルポットに入れ、シクロヘキサノ
ンとイソホロンからなる混合溶媒１６０重量部を加え、
５日間ボールミル混練を行ない、バリウムフェライト粉
を分散させた。つぎに、フェノール中間体２４重量部と
ビニル樹脂７重量部をシクロヘキサノン・イソホロン・
ジオキサンからなる混合溶媒３５０重量部に溶解した溶
液を加えて、磁気ディスク用の磁性塗料を調製した。つ
ぎに、あらかじめ表面を清浄にした５、２５　インチの
アルミニウム基板上に上記塗料をスピン塗布し、周知の
方法により、面内磁場配向を行なった。

塗布した磁気ディスクを２３０℃で焼付けた後、塗膜厚
２面粗さおよびＢｒ／８ｍを測定した。

得られた塗布ディスクの加工前の膜厚はＲ３８ｎｕｎ、
Ｒ６Ｑｎｗｎのいずれの位置においても０．４０μｍで
あった。また、加工前の面粗さは０．０４５μｍＲａで
あり、Ｂｒ／８ｍ値は０．７０であった。

比較例２ ＢＥＴ比表面積５０　ｍ　／　ｇのバリウムフェライト
粉（ＨｃｌＯＯＯＯｅ）１００重量部と粒径２０μｍの
エポキシ樹脂粉末２４重量部を十分に混合した後、シク
ロへキサノン２０重量部を添加（ｚ３） して、ニーダ−混練機中で、約４時間、高ずり応力下で
混練を行なった。その後、シクロへキサノン１０重量部
を添加し、さらに約２時間混線を継続した。

上記混練物をボールミルポットに入れ、シクロヘキサノ
ンとイソホロンからなる混合溶媒１６０重量部を加え、
５日間ボールミル混練を行ない、バリウムフェライト粉
を分散させた。つぎに、フェノール中間体２４重量部と
ビニル樹脂７重量部をシクロヘキサノン・イソホロン・
ジオキサンからなる混合溶媒３００重量部に溶解した溶
液を加えて、磁気ディスク用の磁性塗料を調製した。つ
ぎに、あらかじめ表面を清浄にした５、２５　インチの
アルミニウム基板上に上記塗料をスピン塗布し、周知の
方法により、面内磁場配向を行なった。

塗布した磁気ディスクを２３０℃で焼付けた後、塗膜厚
２面粗さおよびＢ　ｒ　／　Ｂ　ｍを測定した。

得られた磁気ディスクの加工前の塗膜膜厚はＲ３８ｍｍ
およびＲ６０ｍｍのいずれの位置においても０．５０　
μｍであり、Ｂｒ／８ｍ値は０．６５であった。加工後
、塗膜膜厚を０．３５μｍとした。実施例１と同様の評
価を行なったところＤ５゜２８ｋＦＣｉであった。

実施例６ ＢＥＴ比表面積６０　ｍ　／　ｇのＦｅメタル粉（Ｈｃ
１６０００ｅ）１００重量部と単結晶アルミナ５重量部
およびｐ−ビニルフェノール樹脂粉末２５重量部十分に
混合した後、シクロへキサノン２０重量部を添加して、
ニーダ−混線機中で約４時間高ずり応力下で混線を行な
った。その後、シクロへキサノン１０重量部を添加し、
さらに約２時間混線を継続した。

上記混練物をボールミルポットに入れ、シクロヘキサノ
ンとイソホロンからなる混合溶媒１８０重量部を加え、
５日間ボールミル混練を行ない、Ｆｅメタル粉を分散さ
せた。つぎに、エポキシ樹脂２０重量部とフェノール中
間体１０重量部をシクロヘキサノン・イソホロン・ジオ
キサンからなる混合溶媒２５０重量部に溶解した溶液を
加えて、磁気ディスク用の磁性塗料を調製した。つぎに
、あらかじめ表面を清浄にした５、２５　インチのアル
ミニウム基板上に上記塗料をスピン塗布し、周知の方法
により、面内磁場配向を行なった。塗布した磁気ディス
クを窒素気流中で２４０℃で焼付けた後、塗膜膜厚９面
粗さおよび磁気特性を測定した。

得られた塗布ディスクの加工前の膜厚はＲ３８側および
Ｒ６０ｍｍのいずれの位置においても０．２８μｍであ
った。また、加工前の面粗さは０．０２０μｍＲａであ
った。また、磁気ディスクの抗磁力は１６５００ｅ、Ｂ
ｒ／８ｍ値は０，８８　であり、磁化量は硬化処理によ
り約８％低下した。

実施例７ ＢＥＴ比表面積６０ｍ／ｇのＦｅメタル粉（Ｈｃ１６０
００ｅ）１００重量部とｐ−ビニルフェノール樹脂粉末
２０重量部を十分に混合した後、シクロへキサノン２０
重量部を添加して、ニーダ−混練機中で、約４時間、高
ずり応力下で混練を行なった。その後、シクロへキサノ
ン１０重量部を添加し、さらに約２時間混練を継続した
。

上記混練物をボールミルポットに入れ、シクロヘキサノ
ンとイソホロンからなる混合溶媒１８０重量部を加え、
５日間ボールミル混練を行ない、Ｆｅメタル粉を分散さ
せた。つぎに、エポキシ樹脂２０重量部とフェノール中
間体１５重量部をシクロヘキサノン・イソホロン・ジオ
キサンからなる混合溶媒３５０重量部に溶解した溶液を
加えて、磁気ディスク用の磁性塗料を調製した。つぎに
、あらかじめ表面を清浄にした５、２５　インチのアル
ミニウム基板上に上記塗料を超音波分散処理後、スピン
塗布し、面内磁場配向を行なった。塗布した磁気ディス
クを窒素気流中で２４０℃で焼付けた。得られた塗布デ
不スクについて、加工前の塗膜厚と面粗さおよび磁気特
性を測定した。膜厚はＲ３８ｎｎおよびＲ６０ｒｒｒｎ
のいずれの位置においても０．１８　μｍであり、面粗
さは０．０１５　μｍＲａであった。また、磁気ディス
クの抗磁力は１６４００ｅ、Ｂｒ／Ｂｍ値は０．８７で
あり、磁化量は硬化処理により約９％低下した。

実施例８ ＢＥＴ比表面積６０　ｒｒｒ　／　ｇのＦｅメタル粉（
Ｈｅ１６０００ｅ）１００重量部とｐ−ビニルフェノー
ル樹脂粉末２０重量部を十分に混合した後、シクロへキ
サノン２０重量部を添加して、ニーダ−混線機中で、約
４時間、高ずり応力下で混線を行なった。その後、シク
ロへキサノン１０重量部を添加し、さらに約２時間混練
を継続した。

上記混練物をボールミルポットに入れ、シクロヘキサノ
ンとイソホロンからなる混合溶媒１８０重量部を加え、
５日間ボールミル混棟を行ない、Ｆｅメタル粉を分散さ
せた。つぎに、エポキシ樹脂２０重量部とフェノール中
間体１５重量部をシクロヘキサノン・イソホロン・ジオ
キサンからなる混合溶媒４５０重量部に溶解した溶液を
加えて、磁気ディスク用の磁性塗料を調製した。つぎに
、あらかじめ表面を清浄にした５、２５　インチのアル
ミニウム基板上に上記塗料を超音波分散処理した後、ス
ピン塗布し、周知の方法により、面内磁場配向を行なっ
た。塗布した磁気ディスクを窒素気流中で２４０℃で焼
付けた。

得られた塗布ディスクについて、塗膜膜厚９面粗さおよ
び磁気特性を測定した。塗膜膜厚はＲ３８画およびＲ６
０＋ｎｍのいずれの位置においても０．１２μｍであり
、面粗さは０．０１３μｍＲａ　であった。Ｂｒ　／　
Ｂ　ｍ値は０．８５であり、磁化量は硬化処理により約
８％低下した。

比較例３ ＢＥＴ比表面積６０ｒｒｒ／ｇのＦｅメタル粉（Ｈｅ１
６０００ｅ）１００重量部と単結晶アルミナ５重量部お
よびエポキシ樹脂粉末２２重量部を混合した後、シクロ
へキサノン２０重量部を添加して、ニーダ−混練機中で
、約４時間、高ずり応力下で混線を行なった。その後、
シクロへキサノン１０重量部を添加し、さらに約２時間
混線を継続した。

上記混練物をボールミルポットに入れ、シクロヘキサノ
ンとイソホロンからなる混合溶媒１７０重量部を加え、
５日間ボールミル混練を行ない、Ｆｅメタル粉を分散さ
せた。つぎに、フェノール中間体２２重量部とビニル樹
脂６重量部をシクロヘキサノン・イソホロン・ジオキサ
ンからなる混合溶媒３００重量部に溶解した溶液を加え
て、磁気ディスク用の磁性塗料を調製した。つぎに、あ
らかじめ表面を清浄にした５、２５　インチのアルミニ
ウム基板上に上記塗料をスピン塗布し、周知の方法によ
り、面内磁場配向を行なった。塗布した磁気ディスクを
窒素気流中で２４０℃で焼付けた後、塗膜厚２面粗さお
よび磁気特性を測定した。

得られた塗布ディスクの加工前の膜厚はＲ３８ｍおよび
Ｒ６０ｎｎのいずれの位置においても０．４０μｍであ
った。加工前の面粗さは０．０５０μｍＲａであった。

磁気ディスクの抗磁力は１５３００ｅ、Ｂｒ／Ｂｍ値は
０．７９　であり、磁化量は硬化処理により約２４％低
下した。

以上の本発明の実施例において、高分子結合剤として、
エポキシ樹脂、フェノール中間体、ビニル樹脂を用いて
いるが、その他一般に使用されている塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアル
コール共重合体、アクリロニトリル−アクリル酸−２−
ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体などのビニル
系樹脂、アクリロニトリル−ブタジェン共重合体などの
ゴム系樹脂、ニトロセルロース、アセチルセルロースな
どの繊維素系樹脂、フェノキシなどのエポキシ系樹脂、
ウレタン、ウレタンプレポリマーなどのウレタン系樹脂
など、強磁性粉体の結合性のよい通常の有機高分子化合
物を用いることができる。

なお、本発明における強磁性粉体の分散用高分子結合剤
として用いるビニル樹脂として、ポリビニルブチラール
、ポリビニルホルマール、ポリビニルアセテートなどを
挙げることをでき、この中で特にポリビニルブチラール
を用いることがより好ましい。

〔発明の効果〕

以上詳細に説明したごとく本発明の方法によって製造し
た磁性塗料は、強磁性粉体が塗料中に均一に分散された
磁性塗料を得ることができ、これを磁気記録媒体、例え
ば５．２５　インチのアルミニウム基板を用いた磁気デ
ィスクに適用すると、加工前の表面粗さが０．０２０μ
ｍ　Ｒａ　以下と非常に小さい面粗さとなり、また磁気
ディスクの内外周とも０．３μｍ以下の極めて薄く、か
つ均一な膜厚の薄膜を塗布法により容易に形成させるこ
とが可能であるため、従来技術と比較すると、塗膜加工
を殆ど必要とせず、そのため、加工時の塗膜中の磁性粉
が切断、破損を受けれこともなく、加工時のスクラッチ
傷の発生もなくなり、電気的欠陥を大幅に低減させる効
果がある。さらに、強磁性粉体が特にバリウムフェライ
ト粉の場合、Ｂｒ／８ｍ０．８５　以上と大きく、かつ
加工前の塗膜面粗さが０．０２μｍ　Ｒａ　以下の面内
配向磁気ディスクが容易に得られるため、ディスクのノ
イズ低減と再生出力と分解能の向上が期待できる。

また、強磁性粉体が特にメタル粉の場合には、メタル粉
の耐酸化性を大幅に向上させることが可能になったため
、磁気ディスクの再生出力の向上と信頼性の向上が期待
できる。

以上述べたごとく、強磁性粉体にバリウムフェライト粉
又はメタル粉を用いた本発明による磁気ディスク媒体は
電気特性が極めて優れているため、線・記録密度Ｄ５ｏ
は４４ｋＰＣＩ以上と大きい。しく３２） たがって、面記録密度７０　Ｍ　ｂ　／　ｉ　ｎ　”以
上の磁気記録再生装置が容易に得られる。上記磁気ディ
スクは既に述べたように記録密度が大きいため、磁気記
録再生装置の記録容量は４０ＧＢ以上と大きなものにな
っても、磁気ディスクの小形化が可能なため、磁気記録
再生装置も小形化し、設置床面積を小さくすることが可
能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は強磁性粉体にバリウムフェライト粉を用いた磁
気ディスク媒体の加工前の塗膜膜厚と加工前の塗膜面粗
さとの関係を示す図、第２図は磁気ディスク媒体の加工
前の塗膜面粗さの磁気ディスクノイズとの関係を示す図
、第３図は強磁性粉体にバリウムフェライト粉を用いた
磁気ディスク媒体の加工前の塗膜面粗さとＢ　ｒ　／　
Ｂ　ｍ値の関係を示す図、第４図は強磁性粉体にＦｅメ
タル粉を用いた磁気ディスク媒体の処理温度と磁化量低
下率の関係を示す図である。 第１図、第３図、第４図において、○は本発明のデータ
、・は従来のデータをプロットしたものである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、非磁性基体と、該非磁性基体上に塗布形成された磁
   気記録膜を有する塗布型磁気記録媒体において、上記磁
   気記録膜の分散用高分子結合剤はｐ−ビニルフェノール
   樹脂、その誘導体およびその共重合体から成る群から選
   ばれた少なくとも１種を有し、その膜は０．３μｍ以下
   であり、かつその面粗さは０．０２μｍＲａ以下である
   ことを特徴とする塗布型磁気記録媒体。 ２、上記磁気記録膜の膜厚および面粗さは各々０．２μ
   ｍ以下および０．０１５μｍＲａ以下である請求項１記
   載の塗布型磁気記録媒体。 ３、上記磁気記録膜の膜厚および面粗さは各々０．１μ
   ｍ以下および０．０１μｍＲａ以下である請求項２記載
   の塗布型磁気記録媒体。 ４、上記磁気記録膜を構成する強磁性粉体はバリウムフ
   ェライト、メタル、Ｃｏ被着酸化鉄、酸化鉄および炭化
   鉄から成る群から選ばれた少なくとも１種である請求項
   １、２又は３記載の塗布型磁気記録媒体。 ５、上記塗布型磁気記録媒体は磁気ディスクである請求
   項１、２、３又は４記載の塗布型磁気記録媒体。 ６、非磁性基体と、該非磁性基体上に塗布形成された磁
   気記録膜を有する塗布型磁気記録媒体において、上記磁
   気記録膜を構成する強磁性粉体は、バリウムフェライト
   であり、該バリウムフェライトの粒子の積層構造は単層
   構造であり、かつその配向方向は面内方向であることを
   特徴とする塗布型磁気記録媒体。 ７、上記磁気記録膜はｐ−ビニルフェノール樹脂、その
   誘導体およびその共重合体から成る群から選ばれた少な
   くとも１種を分散用高分子結合剤として有する請求項６
   記載の塗布型磁気記録媒体。 ８、非磁性基体と、該非磁性基体上に塗布形成された磁
   気記録膜を有する塗布型磁気記録媒体において、上記磁
   気記録膜はバリウムフェライト粉またはメタル粉を有し
   、かつ、ｐ−ビニルフェノール樹脂、その誘導体および
   その共重合体から成る群から選ばれた少なくとも１種を
   分散用高分子結合剤として有することを特徴とする塗布
   型磁気記録媒体。 ９、上記塗布型磁気記録媒体は面内配向しており、かつ
   ０．８５以上のＢｒ／Ｂｍを有する請求項８記載の塗布
   型磁気記録媒体。 １０、飽和磁束密度が４ＫＧ以上である磁性材料を用い
   た磁気ヘッドと、請求項１乃至９のいずれか一項に記載
   の塗布型磁気記録媒体を有し、上記磁気ヘッドにより上
   記塗布型磁気記録媒体への情報の記録およびその再生を
   行なうことを特徴とする磁気記録再生装置。 １１、上記磁性材料の膜厚は少なくとも５μｍである請
   求項１０記載の磁気記録再生装置。 １２、上記飽和磁束密度は９ＫＧ以上である請求項１１
   記載の磁気記録再生装置。 １３、強磁性粉体にバリウムフェライト粉またはメタル
   粉を用いた塗布型磁気ディスクを有し、面記録密度が７
   ０Ｍｂ／ｉｎ＾２以上であることを特徴とする磁気記録
   再生装置。 １４、上記塗布型磁気ディスクの磁気記録膜はｐ−ビニ
   ルフェノール樹脂、その誘導体およびその共重合体から
   成る群から選ばれた少なくとも１種を分散用高分子結合
   剤として有している請求項１３記載の磁気記録再生装置
   。 １５、磁性塗料の製造方法において、強磁性粉体の分散
   用高分子結合剤としてｐ−ビニルフェノール樹脂、その
   誘導体およびその共重合体の粉末から成る群から選ばれ
   た少なくとも１種を用いることを特徴とする磁性塗料の
   製造方法。 １６、磁性塗料の製造方法において、強磁性粉体もしく
   は充填材を含む強磁性粉体と、該強磁性粉体の分散用高
   分子結合剤であるｐ−ビニルフェノール樹脂、その誘導
   体およびその共重合体の粉末から成る群から選ばれた少
   なくとも１種とを機械的に十分に混合させた後、高ずり
   応力下で混練させることを特徴とする磁性塗料の製造方
   法。 １７、上記強磁性粉体はバリウムフェライト、メタル、
   Ｃｏ被着酸化鉄、酸化鉄および炭化鉄から成る群から選
   ばれた少なくとも１種である請求項１５又は１６記載の
   磁性塗料の製造方法。