JPS6040528A - 磁気ディスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 旨 本発明は、高密度磁気記録に使用される磁気ディスクに
関し、特に摺動強度の大きな構造及びその製造方法に関
するものである。

〔発明の背景〕

第１図は、電子計算機等の記憶装置として用いられてい
る磁気ディスク装置の概念図である。　。

第１図において、ベース１に回転自在に支持さ。

わ、た１（１１２に、複数の磁気ディスクろを増刊け、
駆。

動手段４によって＋ＩＱｉ　２を介１７て磁気ディスク
ろを。

高ｊ土で回転させる。

一方、ベース１に摺動ｎｉＪ能に支持されたギヤリーノ
シ５にンンバル６を介して磁気ヘット７を支持・させイ
）。

そｌ〜で図示１７ない電子泪算機本体からの指令に。

より、磁気−＼ノド７を磁気ディスクろの半径方向ｌ。

に移動さぜ、磁気ディスク６−１−の所望の位置で記録
の書込み及び読出（７を行なうようになっている。

次に第２図は磁気ディスク乙の断面図である。

第２図において、基板１１は、アルミニウムのごどき非
磁性体の円板である。

その基４反１１の両面に、バインダと磁性材料の微粉末
を混合した磁性膜１２が塗布され、ている。

」−記のごとき磁気ディスク装置において、通常用いら
れている浮動ヘット方式においては、磁気ディスク６の
高速回転によってその表面に生じる気流により、磁気テ
ィスフ乙の表面と磁気へノド７との間に微小な間隙が形
成され、磁気ヘッド７゜が磁気ディスク表向に接触しな
いように々ってい゛る。

しかし何らかの原因によって磁気ヘッド７が磁気ディス
ク表面に稀に接触することがあり、その頻度が多く力る
と磁気ディスク表面の磁性膜１２゛が剥離するという摺
動事故が生じることがある。。

上記のように磁性膜１２が剥離すると、磁気デ。

イスクに記録された情報が失わわてし」うので、１゜極
めて重大な事故と々る。

従来、上記のごとき摺動事故への対策としては、磁性膜
１２の組成物ど１７て磁性材料とバインダの他にフィラ
ーと称するアルミナ微粉末を混入する方法が用いられて
いた。

上記のように硬いアルミナ微粉末を磁性膜に混入してお
くと、磁気ヘッドが磁性膜に接触したとき、アルミナ微
粉末の突起に当るため、磁性材料とバインダからなる部
分すなわち磁気記録に必要な部分に直接接触することが
なく、したがって剥・　６　・ １４１１を防市することが出来る。

ｌ−かｌ〜高密度記録を行々う場合には、上記のよ。

うに磁＋ｌ材第１、バインダ及びフィラーの混合物を。

塗布した磁性膜では、良好な電磁気特性を得るこ。

どが困ガｔであり、スパッタ法等によって基板１１Ｊ：
”に直接、薄い磁性層を刺着させる方法が良好な特。

＋１を実ＪＪ）、できると１〜て研究開発が行々われて
いるδしかし上記のスパッタ法では、アルミナのフィ。

ラーを混入さぜることが出来ないため、電磁気特。

性は良好であっても、摺動強度が小さいため実用、。

性に乏しかった。

雪た］）１１記の磁気ディスクろと磁気ヘッド７との微
小々間隙ず々わち磁気ヘッドの浮上量：は、記録密度を
高密度化するためには、より小さくする心安があイ）が
、浮」−量を小さくすれば摺動事故を生５ しる確率が大きくなるので、その点からも摺動強度の小
さいスパッタ法の磁気ディスクは実用化が困φ（（であ
−）だ。

′８１）／こ従来のフィラーを含んだ混合物を塗布する
方法でｖｌ、フィラーＶこよる突起の高さを均一がっ・
　４　・ 精密に設定することが困難であるため、磁気ヘノ。

ドの浮上量をあ捷り小さく設定することが出来々。

かった。

〔発明の目的〕

本発明は」−記の問題を解決するためになされだ５もの
であり、高密度記録が可能であり、かつ摺動。

強度の大きな磁気ディスク及びその製造方法を提。

供することを目的どする。

〔発明の概要〕

上記の目的を達成するため本発明の磁気ディス１０りは
、基板表面上からの高さが所要スペーシング。

以下の値をもった高硬度物質からなる多数の微小。

々突起を形成した基板を用い、その基板上に磁性。

層を付着させたものである。

なお所要スペーシングとは、前記の磁気ヘッドｌ。

の浮上量の設計値であり、必要とする記録密度や摺動事
故に対する安全性等から選定され、る値である。

上記のごとく本発明の磁気ディスクにおいては、予め微
小な突起を形成した基板を用いるので、その」−に磁性
層を利着させるにｄ、スパッタ法ヲ用。

いて直接、伺着さぜることか出来るため、電磁気゛特性
を向上さぜ、高密度記録が【１１′能どなる。　４だ基
板表面に形成された高硬度物質の微小な゛突起のため、
磁気ヘットが磁性層に直接接触する５おそわ−がなくな
るため、摺動事故に対する耐久性゛にも優わている。

件だ本発明の製造方法は、基板Ｊ−に高硬度物質の微粉
末を塗布し、そノ１．を鏡面仕上げされた平板。

にに１−さんで抑圧することにより、微粉末を基板面１
゜に押込み、次に基板表面を所要スペーシング以下の厚
さだけエツチングすることにより、基板表面からの高さ
が所要スペーシング以下の多数の微小な突起をイ）つだ
基板をつくり、次にその基板表面に磁性層を付着さぜる
ものである。

上記のごどき製造方法によれば、基板表向上の突起の高
さを均一かつ精密に設定することが出来、捷だ基板ｊ７
ｉ’ｉに突起を堅固に形成することが出来る。

〔発明の実施例〕

以下実施例に基づいて本発明の詳細な説明する。

第６図（ｒ：Ｌ本発明の磁気ディスクの製造方法を示。

す工程図である。

１ず工程２１で、基板として用いるアルミニラｊ、゛円
板を切削加−王で作る。

次に工程２２で、上記アルミニウム円板の表面研５摩を
行々う。ここ捷で工程は従来と同様である。

次に工程２３で、」−記アルミニウノ、円板の表面に゛
アルミナ微粉末の塗布を行なう。

具体的には、所要スペーシングを考慮して選定・しだ粒
径が０．５μｍη〜２μｍ程度のアルミナ微粉末）。

を用い、塗布の結果、１ｃｍ　当りの粒数が１００゜乃
至１０００個程度分布するように、適当なバインダ（例
えばニトロセルローズ）を含む液体（例えば酢酸アミル
）にアルミナ微粉末を懸濁させたものを同転塗布し、そ
れを乾燥させる。　１゜なお回転塗布とは、アルミニウ
ム円板を回転させながら、その−（二に−に記懸濁液を
点滴し、遠心力によって一様に薄く塗布する方法である
。

１だ上記の例では、アルミナ微粉末を用いだが、高硬度
物質で安定性の良い物であれば、他の物質・　７　・ を用いても良い。

次に工程２４では、アルミナ微粉末を塗布したア。

ルミニウノ、円板を、別に用意した表面を鏡面研摩゛１
−だステンレス板（高硬度物質であわ、ば他の物で。

も可）にはさみ、高圧プレスで押圧ずろことによ５す、
アルミナ微粉末をアルミニウム円板面に埋込゛む。

次に二「程２５では、アルミニウム円板の表面を薬。

品又ｄ、スパッタによってエツチングする。

このエツチングの際、軟かいアルミニウムのみ１゜が削
らね、アルミナ微粉末はその′！ｆ、を残るから１、ア
ルミニウム円板の表面に、アルミナ微粉末が半。

ば埋込１：れた形で多数の微小な突起を形成することに
なる。

捷だエツチングの深さｄ］、所要スペーシング以下の値
にする。

上記の工程により、アルミニウム円板の表面に、その高
さが全て均一々多数の微小な突起を形成することが出来
る。

な“Ｌ−エツチング川の薬液としては、例えば赤面・　
８　・ 塩６００ｇと苛性力’Ｊ２０ｇとを水１１に溶解しだ　
。

ものを用いるととが出来る。

まだエツチング後は、水やアルコールでよく洗。

滌したのち、乾燥させることは、通常のエノチン。

グと同様である。

次に工程２６では、上記の突起を形成したアルミニウム
円板の表面に、磁性層を付着する。　゛この場合、スパ
ッタ法を用いて磁性層を形成す・れば、電磁気特性の優
れた磁性層を得ることが出・来るが、通常の塗布による
方法等を用いることも、１１出来る。

次に工程２７では、磁気ヘッドと接触した場合。

の衝撃力を弱めるため、潤滑剤（例えば油）を塗。

布する。

なお、工程２６で、スパッタ法を用いる場合、基ｌ。

板表面がアルミニウムの酸化膜である方が磁性層の密着
性が良い場合がある。

そのよう々場合には、工程２５と２６との間に工程２５
′として、突起を形成１〜だのちのアルミニウム円板の
表面を酸化又はアルマイト処理する］−程を設けわ、ば
良い。

次に第４図ｄ−１本発明の磁気ディスクの断面図。

である。

第４図（Ａ）は、］二程２５で、基板（アルミニウム゛
円板）１６の表面に多数の微小な突起１４を形成し５た
ものを示す。

寸だ第４図（１１）は、基板表面側近の拡大断面図゛で
あり、１５は磁性層を示す。

なお実際の磁性層１５の厚さは、０．１１ｚｍ以下で。

あり、所要スペーシング（突起の高さよりやや犬１゜）
に比べて非常に小さい値である。

」二記のごとき磁気ディスクにおいては、基板表。

面に多数の微小な突起１４が形成されているので、磁気
ヘッドが接触した場合でも、突起の先端に当。

るだけで磁性層には接触せず、したがって磁性層１゜が
剥離することが々い。

なお磁気ヘッドと突起が接触したとき、突起上の磁性層
が剥離したとしても、突起の面積は基板表面の全面積に
比べて極めて小さいから、ディジタル信号の記録再生に
用いられる磁気ディスクとしては障害とはならない。

〔発明の効果〕

以」二説明したごどく本発明の磁気ディスクにお′いて
は、予め微小な突起を形成した基板を用いろ。

ので、その」二に磁性層を付着させるには、スパン５り
法を用いて直接、旧著させることが出来るため、電磁気
特性を向上させ、高密度記録が可能となる６壕だ基板表
面に形成されまた高硬度物質の微小な・突起のため、磁
気ヘッドが磁性層に直接接触する。

おそれがなくなるため、摺動事故に対する耐久性、。

にも優れている。

捷だ本発明の磁気ディスクの製造方法において。

は、基板表面に高硬度物質の微粉末を塗布したのち、平
板で押圧して微粉末を押込み、次に基板面をエツチング
することによって微小な突起を形成ｌコ するように構成しているので、突起の高さを均一にする
ことが出来、かつ精密に設定することが出来る。そのた
め所要スペーシングの値を小さく設定することが出来る
ので、記録密度を向上さぜることか出来る。

・１１・ 寸だ基板面に微小々突起を堅固に形成するとと゛が出来
るので、摺動事故に対する耐久性も向上さ。

せることか出来る等、多くの効果がある。　。

【図面の簡単な説明】

第１図は磁気ティスフ装置の概念図、第２図は５従来の
磁気ディスクの一例の断面図、第６図は本。 発明の製造方法の一実施例の工程図、第４図は本゛発明
の磁気ディスクの一実施例の断面図である。・符号の説
明 １・・・ベース　２・・・軸　、。 ６・・・磁気ディスク　４・・・駆動手段５・・・キャ
リッジ　６・・・ジンバル７・・・磁気ヘッド　１１・
・・基板 １２・・磁性膜　１３・・・基板 １４・・・突起　１５・・・磁性層　１゜代理人弁理士
　中村純之助 ・１２・ 矛１　図 矛２図 旦 矛３図 才４図 （Ａ） Ａ （Ｂ）

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板表面からの高さが所要スペーシンダ以５下の
   高硬度物質からなる多数の微小な突起を表面。 に形成した基板と、該基板上に付着せしめられた。 磁性層とからなる磁気ディスク。
2. （２）上記高硬度物質としてアルミナを用いたこ。 とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気１゜デ
   ィスク。
3. （３）基板上に高硬度物質の微粉床を塗布し、それを鏡
   面仕上げされた平板にはさんで押圧することにより、微
   粉末を基板面に埋込み、次に基板表面を所要スペーシン
   グ以下の厚さだけエツチング５ することによシ、基板表面からの高さが所要スペーシン
   グ以下の多数の微小な突起をもった基板をつくり、次に
   その基板表面に磁性層を付着させることを特徴とする磁
   気ディスクの製造方法。
4. （４）　アルミニウム円板上にアルミナ微粉末を塗布し
   、それを鏡面仕上げされたステンレス板には゛さんで高
   圧プレスで押圧することにより、アルミ。 ナ微粉末をアルミニウム、円板面に埋込み、次にア。 ルミニウム円板表面を薬品又はスパッタによって゛所要
   スペーシング以下の厚さだけエツチングする５ことによ
   り、所要スペーシング以下の高さをもつ。 だ多数のアルミナ微粉末の突起を有するアルミニ。 ラム円板をつくり、次にアルミニウム円板表面に。 磁性層を付着させることを特徴とする特許請求の。 範囲第６項記載の磁気ディスクの製造方法。　１゜（５
   ）上記アルミナ微粉末の粒径を０．３ｚｚｍ乃至２μｍ
   にしたことを特徴とする特許請求の範囲第４項記載の磁
   気ディスクの製造方法。