JPH01193247A - ピリジルオキシ誘導体 - Google Patents
ピリジルオキシ誘導体Info
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- JPH01193247A JPH01193247A JP63016846A JP1684688A JPH01193247A JP H01193247 A JPH01193247 A JP H01193247A JP 63016846 A JP63016846 A JP 63016846A JP 1684688 A JP1684688 A JP 1684688A JP H01193247 A JPH01193247 A JP H01193247A
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- hydroxyl group
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Pyridine Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、−数式
(式中、Aは水酸基または保護された水酸基、Yけ−C
H2CH2−またけ−〇H=CH−で表わされる基であ
シ、zはハロゲン原子、アミノ基、フタルイミド基、水
酸基または保護された水酸基である。)で表されるピリ
ノルオキシ誘導体、ならびに−数式(式中、Aはハロゲ
ン原子、水酸基または保護された水酸基、Yは−CH2
CI(2−または−〇H=CH−で表わされる基であり
、nt′io% lまたけ2である。)で表されるピリ
ゾルオキシ誘導体に関する。−数式(1)で表されるピ
リジルオキシ誘導体、ならびに−数式(I)で表される
ピリジルオキシ誘導体はヒスタミンH2受容体拮抗作用
に基づく抗潰瘍剤として有用な化合物への中間体となシ
得る化合物である(下記参考側参照)。
H2CH2−またけ−〇H=CH−で表わされる基であ
シ、zはハロゲン原子、アミノ基、フタルイミド基、水
酸基または保護された水酸基である。)で表されるピリ
ノルオキシ誘導体、ならびに−数式(式中、Aはハロゲ
ン原子、水酸基または保護された水酸基、Yは−CH2
CI(2−または−〇H=CH−で表わされる基であり
、nt′io% lまたけ2である。)で表されるピリ
ゾルオキシ誘導体に関する。−数式(1)で表されるピ
リジルオキシ誘導体、ならびに−数式(I)で表される
ピリジルオキシ誘導体はヒスタミンH2受容体拮抗作用
に基づく抗潰瘍剤として有用な化合物への中間体となシ
得る化合物である(下記参考側参照)。
(従来の技術)
従来、ヒスタミンH2受容体拮抗作用に基づく抗消化性
潰瘍剤は特開昭61−85365号明細書にで表される
化合物が開示されている。更に高活性の化合物を見出す
べく検討した結果 (化合物B) が本出願人により開発された(特願昭62−56434
号)。固化合物に共通する合成法として(式中、Wば、
二置換アミノ基である。)なる化合物と HO△YANH2 (式中、Yは前記と同じである。)なる化合物の両者を
反応させることによシ目的化合物への中間体 (式中、WおよびYは前記と同じである。)を得ていた
。
潰瘍剤は特開昭61−85365号明細書にで表される
化合物が開示されている。更に高活性の化合物を見出す
べく検討した結果 (化合物B) が本出願人により開発された(特願昭62−56434
号)。固化合物に共通する合成法として(式中、Wば、
二置換アミノ基である。)なる化合物と HO△YANH2 (式中、Yは前記と同じである。)なる化合物の両者を
反応させることによシ目的化合物への中間体 (式中、WおよびYは前記と同じである。)を得ていた
。
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながら、前記した従来の合成法は、前記した中間
体人への誘導が極めて煩雑であ夛、工業的に採用するに
は問題があった。
体人への誘導が極めて煩雑であ夛、工業的に採用するに
は問題があった。
(問題点を解決するための手段)
本発明者等は、従来の欠点を克服すべく検討した結果、
前記−数式(1)および前記−数式(IDで表されるピ
リジルオキシ誘導体が前記したごとくの化合物Aおよび
B等の製造に極めて有用な化合物であることを見出し、
本発明を完成した。
前記−数式(1)および前記−数式(IDで表されるピ
リジルオキシ誘導体が前記したごとくの化合物Aおよび
B等の製造に極めて有用な化合物であることを見出し、
本発明を完成した。
本発明の前記−数式(1)で表されるピリジルオキシ誘
導体は、例えば、以下の反応式に従い製造することがで
きる。
導体は、例えば、以下の反応式に従い製造することがで
きる。
〔第一工程〕 ↓+HOAY△OR’
(■)〔第二工程] ↓ 〔第三工程〕 ↓ 〔第四工程〕 ↓ 〔第五工程〕 ↓ (式中、A′は保護された水酸基、Yけ−CH2CH2
−または−CH=CH−で表わされる基であり、R′は
、水酸基の保護基であり、x’ 、 x’はそれぞれ独
立にハロゲン原子である。) また本発明の前記−数式(mで表されるピリジルオキシ
誘導体は、例えば、以下の反応式に従い製造することが
できる。
(■)〔第二工程] ↓ 〔第三工程〕 ↓ 〔第四工程〕 ↓ 〔第五工程〕 ↓ (式中、A′は保護された水酸基、Yけ−CH2CH2
−または−CH=CH−で表わされる基であり、R′は
、水酸基の保護基であり、x’ 、 x’はそれぞれ独
立にハロゲン原子である。) また本発明の前記−数式(mで表されるピリジルオキシ
誘導体は、例えば、以下の反応式に従い製造することが
できる。
〔第七工程〕 ↓
(トb)
〔第八工程〕 ↓
(II−e)
(A′i保護された水酸基、Xは・・ログン原子、Yは
−CH2CH2−または−CH=C)I−で表わされる
基であり、Rtfp−二トロフェニル基、2.4−ジニ
トロフェニル基またけ0−ニトロフェニル基で表ワされ
る基であシ、nは0,14たけ2である)〔第一工程〕 本工程は、前記−数式面で表されるハロゲンピリジン銹
導体と一般式(IV)で表されるアルコール誘導体を反
応させ、前記−数式(1−a)で表されるピリジルオキ
シ誘導体を製造するものである。
−CH2CH2−または−CH=C)I−で表わされる
基であり、Rtfp−二トロフェニル基、2.4−ジニ
トロフェニル基またけ0−ニトロフェニル基で表ワされ
る基であシ、nは0,14たけ2である)〔第一工程〕 本工程は、前記−数式面で表されるハロゲンピリジン銹
導体と一般式(IV)で表されるアルコール誘導体を反
応させ、前記−数式(1−a)で表されるピリジルオキ
シ誘導体を製造するものである。
本工程の原料である前記−数式[有]で表されるノ・ロ
グンピリジン誘導体のXIとしては、ブロム原子、クロ
ル原子などを用いることができ、以下(1)および(i
i)に記載する反応式に従い製造することができる化合
物である。
グンピリジン誘導体のXIとしては、ブロム原子、クロ
ル原子などを用いることができ、以下(1)および(i
i)に記載する反応式に従い製造することができる化合
物である。
(式中、A′は、保護され九本酸基である。)即ち、工
業的に入手容易な2−アミノ−4−メチルピリジンを前
記反応式に併記した条件にて反応させることKよシ製造
することができる。
業的に入手容易な2−アミノ−4−メチルピリジンを前
記反応式に併記した条件にて反応させることKよシ製造
することができる。
(iD
(式中、A′は保護された水酸基である。)即ち、工業
的に入手容易なイソニコチン酸 N−オキシドを前記反
応式に併記した条件にて反応させることにより製造する
ことができる。
的に入手容易なイソニコチン酸 N−オキシドを前記反
応式に併記した条件にて反応させることにより製造する
ことができる。
なお、水酸基の保護基としては、テトラヒドロピラニル
、メトキシメチル、メトキシエチル、トリフェニルメチ
ル、およびトリメチルシリルなどを使用することができ
る。
、メトキシメチル、メトキシエチル、トリフェニルメチ
ル、およびトリメチルシリルなどを使用することができ
る。
前記−数式(■)で表されるアルコール誘導体としては
、例えば4−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−2
−ブテン−1−オール、4−(トリフェニルメチルオキ
シ)−2−ブテン−1−オール、4−ベンジルオキシ−
2−ブテン−1−オール、4−(2−テトラヒドロフリ
ル)−2−ブテン−1−オール4−(2−テトラヒドロ
ピラニルオキシ)−ブタン−1−オール、4−(トリフ
ェニルメチルオキシ)−ブタン−1−、t −k、4−
ヘンシルオキシ−ブタン−1−オール、4−(2−テト
ラヒドロフリル)−ブタ7−1−オール等を使用するこ
とができる。
、例えば4−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−2
−ブテン−1−オール、4−(トリフェニルメチルオキ
シ)−2−ブテン−1−オール、4−ベンジルオキシ−
2−ブテン−1−オール、4−(2−テトラヒドロフリ
ル)−2−ブテン−1−オール4−(2−テトラヒドロ
ピラニルオキシ)−ブタン−1−オール、4−(トリフ
ェニルメチルオキシ)−ブタン−1−、t −k、4−
ヘンシルオキシ−ブタン−1−オール、4−(2−テト
ラヒドロフリル)−ブタ7−1−オール等を使用するこ
とができる。
前記−数式(2)と前記−数式(■)との反応による前
記−数式(1−a)で表わされるピリジルオキシ誘導体
は以下に示す(イ)法および(ロ)法の条件で行なうこ
とができる。
記−数式(1−a)で表わされるピリジルオキシ誘導体
は以下に示す(イ)法および(ロ)法の条件で行なうこ
とができる。
(イ)法
本性は、相間移動触媒および無機塩基の存在下に行うも
のである。相間移動触媒としては、有機アンモニウム塩
、クラウンエーテル類がよい。有機アンモニウム塩とし
ては、例えばヨウ化テトラ−n−ブチルアンモニウム、
臭化テトラ−n−ブチルアンモニウム、塩化テトラ−n
−ブチルアンモニウム、硫酸水素テトラ−n−ブチルア
ンモニウム等を使用でき、クラウンエーテル類としては
、12−クラウン−4,18−クラウン−6等を使用で
きる。また無機塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等を使用で
きる。
のである。相間移動触媒としては、有機アンモニウム塩
、クラウンエーテル類がよい。有機アンモニウム塩とし
ては、例えばヨウ化テトラ−n−ブチルアンモニウム、
臭化テトラ−n−ブチルアンモニウム、塩化テトラ−n
−ブチルアンモニウム、硫酸水素テトラ−n−ブチルア
ンモニウム等を使用でき、クラウンエーテル類としては
、12−クラウン−4,18−クラウン−6等を使用で
きる。また無機塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等を使用で
きる。
相間移動触媒および無機塩基の使用量は、基質の1/l
O等量から2等mを用いる。
O等量から2等mを用いる。
反応を行うには溶媒中で行うことが望ましく、ベンゼン
、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジメトキ
シエタン(DME ) 、テトラヒドロフラン(THF
) 、ジオキサン等のエーテル類、ジメチルホルムア
ミド(DMF’ )等のアミド類、アセトニトリル、プ
ロピオニトリル等のニトリル類を好適に使用できる。
、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジメトキ
シエタン(DME ) 、テトラヒドロフラン(THF
) 、ジオキサン等のエーテル類、ジメチルホルムア
ミド(DMF’ )等のアミド類、アセトニトリル、プ
ロピオニトリル等のニトリル類を好適に使用できる。
反応温度は、80〜200℃の範囲で行うのが好ましい
。
。
(ロ)法
本工程は、アルカリ金属化合物の存在下に行うことがで
きる。アルカリ金属化合物としては、水素化ナトリウム
、水素化カリウム、ナトリウムアミド等を使用でき、そ
の使用量は基質の1〜3等菫である。
きる。アルカリ金属化合物としては、水素化ナトリウム
、水素化カリウム、ナトリウムアミド等を使用でき、そ
の使用量は基質の1〜3等菫である。
反応を行うには溶媒中で行うことが望ましく、ベンゼン
、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、DME
、 THF 、ジオキサン等のエーテル類、DMF等の
アミド類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニト
リル類を好適に使用できる。
、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、DME
、 THF 、ジオキサン等のエーテル類、DMF等の
アミド類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニト
リル類を好適に使用できる。
反応温度は、35〜120℃の範囲で行うのが好ましい
。
。
〔第二工程〕
本工程は、前記−数式(1−a)で表されるピリジルオ
キシ誘導体を加水分解することによシ、前記−数式(1
−b)で表されるピリジルオキシ誘導体を製造するもの
である。
キシ誘導体を加水分解することによシ、前記−数式(1
−b)で表されるピリジルオキシ誘導体を製造するもの
である。
本工程は、塩酸、硫酸、酢酸、p−)ルエンスルホン酸
、カンファースルホン酸、クエン酸等の酸類、p−トル
エンスルホン酸ピリジニウム、塩化ピリジニウム等の存
在下に行うことが望ましい。
、カンファースルホン酸、クエン酸等の酸類、p−トル
エンスルホン酸ピリジニウム、塩化ピリジニウム等の存
在下に行うことが望ましい。
反応を行うには溶媒中行うことが望ましく、メタノール
(MeOH)、エタノール(Etoa ) 、グロノ4
ノール(PrOH)等のアルコール類、水、アセトンを
使用できる。
(MeOH)、エタノール(Etoa ) 、グロノ4
ノール(PrOH)等のアルコール類、水、アセトンを
使用できる。
反応は、25〜70℃で円滑に進行する。
〔第三工程]
本工程は、前記−数式(1−b)で表されるピリジルオ
キシ誘導体とハロゲン化剤とを反応させ、前記−数式(
I−c )で表されるピリジルオキシ誘導体を製造する
ものである。
キシ誘導体とハロゲン化剤とを反応させ、前記−数式(
I−c )で表されるピリジルオキシ誘導体を製造する
ものである。
本工程に使用するハロゲン化剤としては、例えifu化
f−オニル、塩化p−)ルエンスルホニル、塩化メタン
スルホニル、オキシ塩化リン、五塩化リン、三塩化リン
、無水メタンスルホン酸、三臭化リン、臭化メタンスル
ホニル等を使用できる。
f−オニル、塩化p−)ルエンスルホニル、塩化メタン
スルホニル、オキシ塩化リン、五塩化リン、三塩化リン
、無水メタンスルホン酸、三臭化リン、臭化メタンスル
ホニル等を使用できる。
本工程は塩基を使用することが好ましい。塩基としては
、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類、炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素す) IJウム等の
無機塩基類を使用できる。塩基の使用蓋は、前記のハロ
ゲン化剤に対して少なくとも等量が好ましい。
、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類、炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素す) IJウム等の
無機塩基類を使用できる。塩基の使用蓋は、前記のハロ
ゲン化剤に対して少なくとも等量が好ましい。
反応は溶媒中行うことが望ましく、例えばクロロホルム
、ソクロロメタン等のハti)fン化炭化水素類、ベン
ゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、THF 、 D
ME等のエーテル類を好適に用いることができる。
、ソクロロメタン等のハti)fン化炭化水素類、ベン
ゼン、トルエン等の芳香族炭化水素類、THF 、 D
ME等のエーテル類を好適に用いることができる。
反応は、−10〜15℃で円滑に進行する。
本工程は、前記−数式(1−c)で表されるピリジルオ
キシ誘導体とフタルイミドまたはそのアルカリ金属塩と
を反応させることによシ前記一般式(1−d ’)で表
さnるピリジルオキシ誘導体を製造するものである。
キシ誘導体とフタルイミドまたはそのアルカリ金属塩と
を反応させることによシ前記一般式(1−d ’)で表
さnるピリジルオキシ誘導体を製造するものである。
本工程でフタルイミドを用いる場合は、前記第一工程(
イ)の方法の条件と全く同様に行えばよく、フタルイミ
ドのアルカリ金属塩を用いる場合には前記第−1穆(イ
)の方法から無機金属の使用を除いて行えばよい。
イ)の方法の条件と全く同様に行えばよく、フタルイミ
ドのアルカリ金属塩を用いる場合には前記第−1穆(イ
)の方法から無機金属の使用を除いて行えばよい。
その他の条件については全て第一工程((イ)の方法の
条件と全く同様に行うことができる。
条件と全く同様に行うことができる。
本工程は、前記−数式(1−d)で表されるピリジルオ
キシ誘導体を加水分解することにより前記−数式(1−
e)で表されるピリジルオキシ誘導体を製造するもので
ある。
キシ誘導体を加水分解することにより前記−数式(1−
e)で表されるピリジルオキシ誘導体を製造するもので
ある。
本工程は、ヒドラジン、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基類、
メチルアミン、エチルアミン等の有機塩基類の存在下に
行うことが好ましい。前記試薬類の使用量は、前記−数
式(1−d)で表されるピリジルオキシ誘導体に対し等
髪用いることが望ましい。
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無機塩基類、
メチルアミン、エチルアミン等の有機塩基類の存在下に
行うことが好ましい。前記試薬類の使用量は、前記−数
式(1−d)で表されるピリジルオキシ誘導体に対し等
髪用いることが望ましい。
反応を行うには溶媒中行うことが望ましく、M@OH、
EtOH、PrOH等のアルコール類、水、エーテル、
THF 、 Dlll!E等のエーテル類を使用できる
。
EtOH、PrOH等のアルコール類、水、エーテル、
THF 、 Dlll!E等のエーテル類を使用できる
。
反応は、30〜100℃で円滑に進行する。
本工程は、前記−数式(I−・)で表されるピリジルオ
キシ誘導体と前記−数式(■で表されるフルフリルチオ
エステルとを反応させることにょシ前記一般式(II−
a)で表されるピリジルオキシ誘導体を製造するもので
ある。
キシ誘導体と前記−数式(■で表されるフルフリルチオ
エステルとを反応させることにょシ前記一般式(II−
a)で表されるピリジルオキシ誘導体を製造するもので
ある。
本工程の一方の原料である前記−数式(■で表されるフ
ルフリルチオエステルは、例えば、2−(フルフリルス
ルフィニル)酢酸トニトロフェノー/’類(例えばp−
ニトロフェノール、2.4−ジニトロフェノール、0−
ニトロフェノール等)全脱水縮合剤(例えばジシクロへ
キシル力ルゲジイミド等)の存在下反応させることによ
り得ることができる。
ルフリルチオエステルは、例えば、2−(フルフリルス
ルフィニル)酢酸トニトロフェノー/’類(例えばp−
ニトロフェノール、2.4−ジニトロフェノール、0−
ニトロフェノール等)全脱水縮合剤(例えばジシクロへ
キシル力ルゲジイミド等)の存在下反応させることによ
り得ることができる。
本工程を実施するには溶媒中で行うことが望ましく、例
えば、エチルエーテル、’l’l(P 、 DME 、
ジオキサン等のエーテル類、クロロホルム、ジクロロメ
タン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン等
の芳香族炭化水素類、DMF等のアミド類を使用できる
。
えば、エチルエーテル、’l’l(P 、 DME 、
ジオキサン等のエーテル類、クロロホルム、ジクロロメ
タン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン等
の芳香族炭化水素類、DMF等のアミド類を使用できる
。
反応は、0〜50℃で円滑に進行する。
本工程は、前記−数式(■1)で表されるピリジルオキ
シ誘導体を脱保護し、前記−数式(トb)で表されるピ
リジルオキシ誘導体を製造するものである。
シ誘導体を脱保護し、前記−数式(トb)で表されるピ
リジルオキシ誘導体を製造するものである。
本工程は、酸の存在下に行うことが必要である。
酸としては、塩酸、硫酸等の鉱酸、酢酸、P−)ルエン
スルホン酸、カンファースルホン酸、クエン酸等の有機
酸を好適に使用できる。酸の使用量は、前記−数式(I
f−a)で表されるピリジルオキシ誘導体に対してlな
いし5当量である。
スルホン酸、カンファースルホン酸、クエン酸等の有機
酸を好適に使用できる。酸の使用量は、前記−数式(I
f−a)で表されるピリジルオキシ誘導体に対してlな
いし5当量である。
反応を行うには溶媒中行うことが望ましく、MeOH、
EtOH、PrOH等のアルコール類、水、アセトンを
使用できる。
EtOH、PrOH等のアルコール類、水、アセトンを
使用できる。
反応は、70〜120℃で円滑に進行する。
本工程は、前記−数式(II−b )で表されるピリジ
ルオキシ誘導体とハロダン化剤とを反応させ、前記−数
式(II−e)で表されるピリジルオキシ誘導体を製造
するものである。
ルオキシ誘導体とハロダン化剤とを反応させ、前記−数
式(II−e)で表されるピリジルオキシ誘導体を製造
するものである。
本工程に使用するハロダン化剤としては、例えば塩化チ
オニル、塩化p−トルエンスルホニル、塩化メタンスル
ホニル、オキシ塩化リン、五塩化リン、三塩化リン、無
水メタンスルホン酸、三臭化リン、臭化メタンスルホニ
ル等を使用できる。
オニル、塩化p−トルエンスルホニル、塩化メタンスル
ホニル、オキシ塩化リン、五塩化リン、三塩化リン、無
水メタンスルホン酸、三臭化リン、臭化メタンスルホニ
ル等を使用できる。
本工程は、塩基の存在下使用することが好ましい。塩基
としては、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類
、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素す) IJ
ウム等の無機塩基類を使用できる。
としては、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類
、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素す) IJ
ウム等の無機塩基類を使用できる。
塩基の使用1tは、前記のハロダン化剤に対して少なく
とも等量が好ましい。
とも等量が好ましい。
反応は溶媒中行うことが望ましく、例えばクロロホルム
、ジクロロメタン等のハロダン化炭化水素類、ベンゼン
、トルエン等の芳香族炭化水素臥THF 、 DME等
のエーテル類を好適に用いることができる。
、ジクロロメタン等のハロダン化炭化水素類、ベンゼン
、トルエン等の芳香族炭化水素臥THF 、 DME等
のエーテル類を好適に用いることができる。
反応は、−10〜15℃で円滑に進行する。
本工程で製造される一般式(If−e)で表されるピリ
ジルオキシ誘導体は、通常単離せず、次の反応に用いる
事ができる。
ジルオキシ誘導体は、通常単離せず、次の反応に用いる
事ができる。
以上のごとくして本発明の化合物を製造することができ
る。以下、実施例および参考例によシ更に詳細に説明す
る。
る。以下、実施例および参考例によシ更に詳細に説明す
る。
参考例1
2−アミノ−4−メチルピリジン(108,1,9)を
47憾臭化水素酸(500m)に溶かし寒剤で0℃にし
、臭素(50ON)を滴下した。反応が5℃以下になる
ように調節しながら亜硝酸ナトリウム(172,5II
)の水(500mj)溶液を滴下した。すべて滴下して
から1時間攪拌し水酸化す 。
47憾臭化水素酸(500m)に溶かし寒剤で0℃にし
、臭素(50ON)を滴下した。反応が5℃以下になる
ように調節しながら亜硝酸ナトリウム(172,5II
)の水(500mj)溶液を滴下した。すべて滴下して
から1時間攪拌し水酸化す 。
トリウム(約300Ii)の水(11)溶液を滴下し溶
液を塩基性にした。酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗
し乾燥させた後溶媒を留去した。残渣を蒸溜し2−プロ
モー4−メチルピリジン(1261,73憾)を得た。
液を塩基性にした。酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗
し乾燥させた後溶媒を留去した。残渣を蒸溜し2−プロ
モー4−メチルピリジン(1261,73憾)を得た。
沸点79〜81’C/4〜5關Hg。
’H−NMR(d 、 CDC25) : 8.22
(I H−d 、 J=4.9 Hz ) 。
(I H−d 、 J=4.9 Hz ) 。
7.33(IH,s)、7.70(IH,d、J=4.
9Hz)。
9Hz)。
2.34(3H,m) 。
参考例2
2−プロモー4−メチルピリジン(50,9)を硫酸(
400mj)に溶かし、水冷下無水クロム酸(87,2
& )を少量ずつ加えた。1時間攪拌し氷水中にいれ、
析出した結晶を濾取した。粗結晶をエタノールから再結
晶し、2−プロモー4−ビリジンカルボン酸を(48,
8F、83%)得た。
400mj)に溶かし、水冷下無水クロム酸(87,2
& )を少量ずつ加えた。1時間攪拌し氷水中にいれ、
析出した結晶を濾取した。粗結晶をエタノールから再結
晶し、2−プロモー4−ビリジンカルボン酸を(48,
8F、83%)得た。
融点213.9〜214.4℃
参考例3
水素化ホウ素ナトリウム(17,4#)をTHF(1,
6))に懸濁させ、メカニカルスターラーで攪拌した。
6))に懸濁させ、メカニカルスターラーで攪拌した。
氷水にて冷却し、2−プロモー4−ビリジンカルボン酸
(62,8,F)を少量ずつ加えた。室温まで昇温後、
水素の発生が止むまで攪拌し、三フフ化ホウ素・ニーテ
ラー)(75,81I7)のTHF(500mJ)溶液
を室温にて3時間かけて滴下した。滴下終了後そのまま
20時間攪拌した。反応溶液を氷水にて冷却し、1.5
N−塩酸を加え−1〜2とし、THFを減圧留去した。
(62,8,F)を少量ずつ加えた。室温まで昇温後、
水素の発生が止むまで攪拌し、三フフ化ホウ素・ニーテ
ラー)(75,81I7)のTHF(500mJ)溶液
を室温にて3時間かけて滴下した。滴下終了後そのまま
20時間攪拌した。反応溶液を氷水にて冷却し、1.5
N−塩酸を加え−1〜2とし、THFを減圧留去した。
4N−水酸化ナトリウム溶液を加えpH10〜11とし
、酢酸エチルにて抽出、有機層は飽和食塩水で洗浄した
。水層はさらに酢酸エチルにて2回抽出し、有機層を飽
和食塩水で洗浄した。有機層は合わせて無水硫酸す)
IJウムにて乾燥し、減圧下濃縮することによシ2−プ
ロモー4−ピリジンメタノール(51,31,88憾)
を得た。
、酢酸エチルにて抽出、有機層は飽和食塩水で洗浄した
。水層はさらに酢酸エチルにて2回抽出し、有機層を飽
和食塩水で洗浄した。有機層は合わせて無水硫酸す)
IJウムにて乾燥し、減圧下濃縮することによシ2−プ
ロモー4−ピリジンメタノール(51,31,88憾)
を得た。
融点63.3−64.4℃(ジイソプロビルエーテル)
’H−NMR(δ、CDC23)=8.31(IHld
、J=4.5H1)、7゜38(LH,s)、7.22
(IH,d、J=4.5Hz)、4.76(2H+s)
+2.40〜2.70(IHlm)−IR(cm 、
KBr): 3268,1598,1382.1070
−C6H6BrO:実測値 186.9638計算値
186.9633 参考例4 2−プロモー4−ピリジンメタノール(21,36y)
、ジメトキシメタン(71tAり及びp−)ルエンスル
ホン酸・−水和物(2,1s I ) tベンゼン(3
00d)ic懸濁L、31 モL’ キs−5’/−フ
(251)を入れたソックスレー抽出器を通し、20時
間還流した。冷却後、反応液を飽和炭酸水素す) IJ
ウム溶液で洗浄、水洗、乾燥後、減圧上濃縮した。
’H−NMR(δ、CDC23)=8.31(IHld
、J=4.5H1)、7゜38(LH,s)、7.22
(IH,d、J=4.5Hz)、4.76(2H+s)
+2.40〜2.70(IHlm)−IR(cm 、
KBr): 3268,1598,1382.1070
−C6H6BrO:実測値 186.9638計算値
186.9633 参考例4 2−プロモー4−ピリジンメタノール(21,36y)
、ジメトキシメタン(71tAり及びp−)ルエンスル
ホン酸・−水和物(2,1s I ) tベンゼン(3
00d)ic懸濁L、31 モL’ キs−5’/−フ
(251)を入れたソックスレー抽出器を通し、20時
間還流した。冷却後、反応液を飽和炭酸水素す) IJ
ウム溶液で洗浄、水洗、乾燥後、減圧上濃縮した。
残渣を蒸溜することKよシ2−プロモー4−(メトキシ
メトキシメチル)ピリジン(13,2g、5゜憾)を得
た。
メトキシメチル)ピリジン(13,2g、5゜憾)を得
た。
沸点:118〜b
’H−NMR(δ、CDCts ) : 8.33 (
I H、d 、 J=4.8 Hz ) 、7.51(
IH,s)、7.22(IH,dd、J=4.8,2.
1Hz)。
I H、d 、 J=4.8 Hz ) 、7.51(
IH,s)、7.22(IH,dd、J=4.8,2.
1Hz)。
4.73(2H,m) 、 4.59(2H,s )
、 3.41 (3H。
、 3.41 (3H。
S)・
IR(CIll−’、fl1m): 2950,160
0,1550,1470゜1390゜ C3H1゜BrN0□:実測値 232゜9880計算
値 232.9876 参考例5 イソニコチン酸オキシド(87N)、オキシ塩化リン(
350m)、五塩化リン(192,9)を混合し、3時
間還流した。反応混合液を氷にあけ、−夜装置した。生
じた沈澱を濾取し、エタノールから再結晶することで2
−クロロ−4−ピリジンカル?ン酸(65y、66憾)
を得た。
0,1550,1470゜1390゜ C3H1゜BrN0□:実測値 232゜9880計算
値 232.9876 参考例5 イソニコチン酸オキシド(87N)、オキシ塩化リン(
350m)、五塩化リン(192,9)を混合し、3時
間還流した。反応混合液を氷にあけ、−夜装置した。生
じた沈澱を濾取し、エタノールから再結晶することで2
−クロロ−4−ピリジンカル?ン酸(65y、66憾)
を得た。
融点:228.1〜228.7℃
IR(cm 、KBr):1718.1604.15
66.1458.1372゜C6H4N02CL:実測
値 156.9940計算値 156.9931 参考例6 水素化ホウ素ナトリウム(35,59,P)をTHF(
31)に懸濁させ、メカニカルスターラーで攪拌した。
66.1458.1372゜C6H4N02CL:実測
値 156.9940計算値 156.9931 参考例6 水素化ホウ素ナトリウム(35,59,P)をTHF(
31)に懸濁させ、メカニカルスターラーで攪拌した。
氷水にて冷却し、2−クロロ−4−ピリジンカルゲン酸
(98,83#)を小倉ずつ加えた。
(98,83#)を小倉ずつ加えた。
室温まで昇温後、水素の発生が止むまで攪拌し、三フフ
化ホウ素・エーテラート(158m7)のTHF(10
00d)溶液を室温にて3時間かけて滴下した。滴下終
了後そのまま20時間攪拌した。反応溶液を氷水にて冷
却し、1.5N−塩酸を加えP)11〜2とし、THF
を減圧下留去した。4N−水酸化ナトリウム溶液を加え
−lO〜11とし、酢酸エチルにて抽出、有機層は飽和
食塩水で洗浄した。
化ホウ素・エーテラート(158m7)のTHF(10
00d)溶液を室温にて3時間かけて滴下した。滴下終
了後そのまま20時間攪拌した。反応溶液を氷水にて冷
却し、1.5N−塩酸を加えP)11〜2とし、THF
を減圧下留去した。4N−水酸化ナトリウム溶液を加え
−lO〜11とし、酢酸エチルにて抽出、有機層は飽和
食塩水で洗浄した。
水層はさらに酢酸エチルにて2回抽出し、有機層を飽和
食塩水で洗浄した。有機層は合わせて無水硫酸ナトリウ
ムにて乾燥し、減圧上濃縮するととにより2−クロロ−
4−ピリジンメタノール(75,OI、83係)を得た
。
食塩水で洗浄した。有機層は合わせて無水硫酸ナトリウ
ムにて乾燥し、減圧上濃縮するととにより2−クロロ−
4−ピリジンメタノール(75,OI、83係)を得た
。
融点:65.7〜66.4℃
’H−NMR(δ、CDC15) : 8.30 (I
H、d 、J=4.6 Hz ) 、7.37(IH
,s ) 、 7.22(IH,d 、 J =4.6
Hz) 、 4.76(2H,m ) 、 2.70〜
2.85(IH,br−s)。
H、d 、J=4.6 Hz ) 、7.37(IH
,s ) 、 7.22(IH,d 、 J =4.6
Hz) 、 4.76(2H,m ) 、 2.70〜
2.85(IH,br−s)。
IR(cm−’、KBr): 3284.1600.1
394゜参考例7 2−クロロ−4−ピリジンメタノール(4,3(1)、
ジメトキシメタン(20rR1)及びp−)ルエンスル
ホン酸・−水和物(0,57g ) ヲベンゼン(20
0尻りに懸濁し、3Xモレキエラーシープ(25#)を
入れたソックスレー抽出器を通し、20時間還流した。
394゜参考例7 2−クロロ−4−ピリジンメタノール(4,3(1)、
ジメトキシメタン(20rR1)及びp−)ルエンスル
ホン酸・−水和物(0,57g ) ヲベンゼン(20
0尻りに懸濁し、3Xモレキエラーシープ(25#)を
入れたソックスレー抽出器を通し、20時間還流した。
冷却後、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄、
水洗、乾燥後、減圧上濃縮した。
水洗、乾燥後、減圧上濃縮した。
残渣を蒸溜することによ#)2−クロロ−4−(メトキ
シメトキシメチル)ピリジン(4,0,9,71優)を
得た。
シメトキシメチル)ピリジン(4,0,9,71優)を
得た。
沸点:118〜120℃/ 5 mHg 。
’H−NFillR(δ、CDCL3) : 8.35
(I H、d 、に5.6 Hz ) 17.36(
IH,i)、7.20(IH,d、J=5.6Hz)、
4.74′(2H,s)、4.61(2H,@)、3.
41(3H,a)。
(I H、d 、に5.6 Hz ) 17.36(
IH,i)、7.20(IH,d、J=5.6Hz)、
4.74′(2H,s)、4.61(2H,@)、3.
41(3H,a)。
実施例1
水素化ナトリウム(60憾純度、4.81)をテトラヒ
ドロフラン(50rILl)及びジメチルホルムアミド
(5ゴ)に懸濁させ、水冷下、2−プロモー4−(メト
キシメトキシメチル)ピリジン(13,91及び4−(
2−オキシテトラヒドロピラニル)−cig −2−ブ
テン−1−オール(13,25II)のテトラヒドロフ
ラン(2o01!Lt)溶液を滴下し、18時間還流し
た。冷却後、水(10m)を加え減圧下濃縮した。残渣
をベンゼンにとり、セライト濾過に付し、濾液を水洗、
乾燥後、溶媒を溜去り、2−C4−<2−オキシテトラ
ヒドロピラニル)−ci膳−2−ブテン−1−オキシ)
−4−(メトキシメトキシメチル)ピリジン(16,P
、82%)を得た。
ドロフラン(50rILl)及びジメチルホルムアミド
(5ゴ)に懸濁させ、水冷下、2−プロモー4−(メト
キシメトキシメチル)ピリジン(13,91及び4−(
2−オキシテトラヒドロピラニル)−cig −2−ブ
テン−1−オール(13,25II)のテトラヒドロフ
ラン(2o01!Lt)溶液を滴下し、18時間還流し
た。冷却後、水(10m)を加え減圧下濃縮した。残渣
をベンゼンにとり、セライト濾過に付し、濾液を水洗、
乾燥後、溶媒を溜去り、2−C4−<2−オキシテトラ
ヒドロピラニル)−ci膳−2−ブテン−1−オキシ)
−4−(メトキシメトキシメチル)ピリジン(16,P
、82%)を得た。
’H−NMR(δ、 CDCAs) : 8.10 (
IH,d 、 J=5.4Hz ) 、 6.84(I
H,d、J=5.4Hz)、6.74(IH,s)、5
.84(2H,a)、4.92(2H,d、J =6H
z)、4.71(2H。
IH,d 、 J=5.4Hz ) 、 6.84(I
H,d、J=5.4Hz)、6.74(IH,s)、5
.84(2H,a)、4.92(2H,d、J =6H
z)、4.71(2H。
a)、4.66(IH,t、J=3.6Hz)、4.5
5(2H,a)。
5(2H,a)。
4.37(IH,dd、J=11.7,6.3Hz)、
4.19(IH。
4.19(IH。
dd 、 J=11.7 、6.3Hz) 、 3.8
7(IH,m) 、 3.55(IH,m)、3.40
(3H,s)、1.49〜1.80(6H。
7(IH,m) 、 3.55(IH,m)、3.40
(3H,s)、1.49〜1.80(6H。
m)・
IR((*−’、fi1m):2950,1620,1
570,1450゜1320゜ C17H25N05:実測値 323.1745計算値
323.1733 実施例2 2−(4−(2−オキシテトラヒドロピラニル)−ai
m −2−ブテン−1−オキシ)−4−(メトキシメト
キシメチル)ピリノン(16,9)をエタノール(30
0d)に溶解し、p−)ルエンスルホン酸ピリジニウム
(1,3#)を加え60℃(浴温)にて18時間攪拌し
た。反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム溶液を加えア
ルカリ性とし減圧下濃縮した。残渣を酢酸エチルにとり
、水洗、乾燥後、溶媒を溜去し4−(4−(メトキシメ
トキシメチル)ピリジルー2−オキシ] −cig −
2−ブテン−1−オール(11,28#、95係)を得
た。
570,1450゜1320゜ C17H25N05:実測値 323.1745計算値
323.1733 実施例2 2−(4−(2−オキシテトラヒドロピラニル)−ai
m −2−ブテン−1−オキシ)−4−(メトキシメト
キシメチル)ピリノン(16,9)をエタノール(30
0d)に溶解し、p−)ルエンスルホン酸ピリジニウム
(1,3#)を加え60℃(浴温)にて18時間攪拌し
た。反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム溶液を加えア
ルカリ性とし減圧下濃縮した。残渣を酢酸エチルにとり
、水洗、乾燥後、溶媒を溜去し4−(4−(メトキシメ
トキシメチル)ピリジルー2−オキシ] −cig −
2−ブテン−1−オール(11,28#、95係)を得
た。
’H−NMR(δ、 CDCl2) : 8.05(I
H,d 、J=5.4Hz ) 、6.85(IH,d
、J=5.4Hz)、6.76(IH,s)、5.89
(IH,m)、5.76(IH,m)、5.01(2H
,d、J=6.9Hz)、4.71(2H,m)、4.
56(2H,a)、4.32(2H,d、J=6.0H
z)、3.40(3H,s)−IR(cm 、fil
m): 3400.2950,1620,1560゜
1420.1320゜ Cl2H17NO4:実測値 239.1161計算値
239.1158 実施例3 す 4−(4−(メトキシメトキシメチル)ピリジル−2−
オキシ] −cis−2−ブテン−1オール(2I)を
ジクロロメタン(3oml)に溶解し、無水炭酸カリウ
ム(3g)を懸濁させ、水冷下、塩化チオニル(1,4
,1のジクロロメタン(5id)溶液を滴下した。同条
件で1時間攪拌後、不溶物を濾去し、減圧下濃縮した。
H,d 、J=5.4Hz ) 、6.85(IH,d
、J=5.4Hz)、6.76(IH,s)、5.89
(IH,m)、5.76(IH,m)、5.01(2H
,d、J=6.9Hz)、4.71(2H,m)、4.
56(2H,a)、4.32(2H,d、J=6.0H
z)、3.40(3H,s)−IR(cm 、fil
m): 3400.2950,1620,1560゜
1420.1320゜ Cl2H17NO4:実測値 239.1161計算値
239.1158 実施例3 す 4−(4−(メトキシメトキシメチル)ピリジル−2−
オキシ] −cis−2−ブテン−1オール(2I)を
ジクロロメタン(3oml)に溶解し、無水炭酸カリウ
ム(3g)を懸濁させ、水冷下、塩化チオニル(1,4
,1のジクロロメタン(5id)溶液を滴下した。同条
件で1時間攪拌後、不溶物を濾去し、減圧下濃縮した。
残渣をトルエン(100d)に溶解し、フタルイミドカ
リウム(z、3y)、硫酸水素テトラ−n−ブチルアン
モニウム(305ダ)を懸濁させ、18時間還流させた
。冷却後、不溶物を濾去し、ベンゼンで希釈、IN−水
酸化す) IJウム溶液で洗浄、水洗、乾燥後、溶媒を
溜去しN−(4−(4−(メトキシメトキシメチル)ピ
リジル−2−オキシ) −elm −2−ブテニル〕フ
タルイミド(2,97,197%)を得た。
リウム(z、3y)、硫酸水素テトラ−n−ブチルアン
モニウム(305ダ)を懸濁させ、18時間還流させた
。冷却後、不溶物を濾去し、ベンゼンで希釈、IN−水
酸化す) IJウム溶液で洗浄、水洗、乾燥後、溶媒を
溜去しN−(4−(4−(メトキシメトキシメチル)ピ
リジル−2−オキシ) −elm −2−ブテニル〕フ
タルイミド(2,97,197%)を得た。
融点:69.2〜70.1℃(エタノールエチルエーテ
ル)。
ル)。
”H−NMR(δ、 CDCLs) : 8.13 (
IH,d 、 J=5.4Hz ) 、7.84(2H
,m) 、 7.72(2H,m) 、 6.85(I
H,d 、 J=5.4Hz ) 、 6.76(IH
,s )、 5.92(IH,m)、5.68(IH,
m)、5.11(2H,d、J=6.6Hz)、4.7
1(2H,s ) 、 4.56(2H,s) 、 4
.47(2H,d 、 J=7.2Hz)、3.41(
3H,s)。
IH,d 、 J=5.4Hz ) 、7.84(2H
,m) 、 7.72(2H,m) 、 6.85(I
H,d 、 J=5.4Hz ) 、 6.76(IH
,s )、 5.92(IH,m)、5.68(IH,
m)、5.11(2H,d、J=6.6Hz)、4.7
1(2H,s ) 、 4.56(2H,s) 、 4
.47(2H,d 、 J=7.2Hz)、3.41(
3H,s)。
IR(cm、 、KBr):2960,1720.1
630,1570.1400,1320゜C2oH2o
N205:実測値 368.1360計算値 368.
1372 実施例4 N−(4−(4−(メトキシメトキシメチル)ピリジル
ー2−オキシ) −elm −2−ブテン〕フタルイミ
ド(3,285,1id)をメタノール(100+al
)に溶解しヒドラジン・−水和物(1,48g)を加え
、3時間還流した。反応液を減圧下濃縮後、残渣(結晶
)をジクロロメタンで洗浄、濾液を減圧下濃縮した。残
渣を酢酸エチルにとり水洗、乾燥後、溶媒を溜去しI−
アミノ−4−〔4−メトキシメトキシメチル)ピリジル
−2−オキシ]−aim−2ブテン(1,84F、86
%)を得た。
630,1570.1400,1320゜C2oH2o
N205:実測値 368.1360計算値 368.
1372 実施例4 N−(4−(4−(メトキシメトキシメチル)ピリジル
ー2−オキシ) −elm −2−ブテン〕フタルイミ
ド(3,285,1id)をメタノール(100+al
)に溶解しヒドラジン・−水和物(1,48g)を加え
、3時間還流した。反応液を減圧下濃縮後、残渣(結晶
)をジクロロメタンで洗浄、濾液を減圧下濃縮した。残
渣を酢酸エチルにとり水洗、乾燥後、溶媒を溜去しI−
アミノ−4−〔4−メトキシメトキシメチル)ピリジル
−2−オキシ]−aim−2ブテン(1,84F、86
%)を得た。
1H−NMR(δ、 CDCl2) : 8.10 (
IH,d 、 J=4.5Hz)、 6.85(IH,
d、J=4.5Hz)、6.75(LH,m)、5.7
4(2H,m)、4.89(2H,m)、4.71(2
H,s)、4.55(2H,a)、3.45(2H,m
)、3.40(3H,s)。
IH,d 、 J=4.5Hz)、 6.85(IH,
d、J=4.5Hz)、6.75(LH,m)、5.7
4(2H,m)、4.89(2H,m)、4.71(2
H,s)、4.55(2H,a)、3.45(2H,m
)、3.40(3H,s)。
1.49(2H,br−s)。
IR(crIL−’、fl1m): 3400,330
0.2950,1620゜1570.1430,132
0゜ C1□H18N203:実測値 238.1294計算
値 238.1317 実施例5 1−アミノ−4−[:4−(メトキシメトキシメチル)
ピリジル−2−オキシ] cim −2−ブテン(1,
7,!i’)をテトラヒドロフラン(100TILl)
に溶解シ、フルフリルチオ酢酸p−ニトロフェニルエス
テル(2,34g)を加え、室温にて一晩攪拌した。反
応液を減圧下濃縮し、残渣を酢酸エチルにとり、IN−
水酸化す) IJウム溶液で洗浄、水洗、乾燥後、溶媒
を溜去しN−[4−(4−(メトキシメトキシメチル)
ピリジルー2−オキシ)−cis−2−ブテニル]−2
−(フルフリルチオ)アセトアミド(2,5II、89
憾)を得た。
0.2950,1620゜1570.1430,132
0゜ C1□H18N203:実測値 238.1294計算
値 238.1317 実施例5 1−アミノ−4−[:4−(メトキシメトキシメチル)
ピリジル−2−オキシ] cim −2−ブテン(1,
7,!i’)をテトラヒドロフラン(100TILl)
に溶解シ、フルフリルチオ酢酸p−ニトロフェニルエス
テル(2,34g)を加え、室温にて一晩攪拌した。反
応液を減圧下濃縮し、残渣を酢酸エチルにとり、IN−
水酸化す) IJウム溶液で洗浄、水洗、乾燥後、溶媒
を溜去しN−[4−(4−(メトキシメトキシメチル)
ピリジルー2−オキシ)−cis−2−ブテニル]−2
−(フルフリルチオ)アセトアミド(2,5II、89
憾)を得た。
’H−NMR(δ、CDCt3 ) : 8.12 (
I H、d 1J=4.2 Hz ) 、7.36(I
H,m)、6.86(2H,d、J=4.2Hz)、6
.77(LH,a)。
I H、d 1J=4.2 Hz ) 、7.36(I
H,m)、6.86(2H,d、J=4.2Hz)、6
.77(LH,a)。
6.29(IH,dd、 J=3.3.1.8Hz)、
6.20(IH,d 、 J=3.9Hz)、 5.
85(IH,m)、5.62(IH,m)、4.93(
2H,d、J=6.3Hz)、4.72(2H,s)、
4.56(2H,a )、3.99(2H,t、J=5
.4Hz)、3.74(2H,s)、3.41(3H,
s)、3.22(2H,s)。
6.20(IH,d 、 J=3.9Hz)、 5.
85(IH,m)、5.62(IH,m)、4.93(
2H,d、J=6.3Hz)、4.72(2H,s)、
4.56(2H,a )、3.99(2H,t、J=5
.4Hz)、3.74(2H,s)、3.41(3H,
s)、3.22(2H,s)。
IR(cm 、film):3350.2950.1
660.1620,1560.1420−C4,H24
N205S:実測値392.1402計算値392.1
405実施例6 N−(4−(4−(メトキシメトキシメチル)ピリジル
−2−オキシ−elm−2−ブテニル:)−2−(フル
フリルチオ)アセトアミド(200In9)をメタノー
ル(15−)に溶解しp−)ルエンスルホン酸・−水和
物(10■)を加えR流した。反応終了後、冷却し、飽
和炭酸水素ナトリウム溶液を加えアルカリ性とした後減
圧下濃縮した。残渣を酢酸エチルにとシ水洗、乾燥後、
溶媒を溜去した。残渣をカラムクロマトダラフィー(移
動相:ベンゼン/酢酸エチル)で分離しN−(4−(4
−(ヒドロキシメチル)ピリジル−2−オキシ)−el
m−2−ブテニル:)−2−(フルフリルチオ)アセト
アミド(871n9)、50憾)を得た。
660.1620,1560.1420−C4,H24
N205S:実測値392.1402計算値392.1
405実施例6 N−(4−(4−(メトキシメトキシメチル)ピリジル
−2−オキシ−elm−2−ブテニル:)−2−(フル
フリルチオ)アセトアミド(200In9)をメタノー
ル(15−)に溶解しp−)ルエンスルホン酸・−水和
物(10■)を加えR流した。反応終了後、冷却し、飽
和炭酸水素ナトリウム溶液を加えアルカリ性とした後減
圧下濃縮した。残渣を酢酸エチルにとシ水洗、乾燥後、
溶媒を溜去した。残渣をカラムクロマトダラフィー(移
動相:ベンゼン/酢酸エチル)で分離しN−(4−(4
−(ヒドロキシメチル)ピリジル−2−オキシ)−el
m−2−ブテニル:)−2−(フルフリルチオ)アセト
アミド(871n9)、50憾)を得た。
’ H−NMR(δ、 CDC23): 8.11(I
H,d 、J=6Hz ) 、7.35(IH,d。
H,d 、J=6Hz ) 、7.35(IH,d。
1.5Hz)、6J36(2H,d、J−4,2Hz)
、6.79(IH,s)、6.29(IH,dd、J=
3.3,1.5Hz)、5.84(IH,m)、5.6
0(IH,m)。
、6.79(IH,s)、6.29(IH,dd、J=
3.3,1.5Hz)、5.84(IH,m)、5.6
0(IH,m)。
4.93(2H,d、J−5,7Hz)、4.68(2
H,s) 、 3.98(2H。
H,s) 、 3.98(2H。
t、J=6.6Hz)、3.73(2)I、 s )
、 3.22(2H,s )。
、 3.22(2H,s )。
IR(m−’、fi1m): 3400.2950.1
660.1620.1570゜1420.1400゜ C17H2oN204S:実測値348.1140
計算値348.1143実施例7 N−[4−[4−(ヒドロキシメチル)ピリジル−2−
オキシ] −clm −2−ブテニル〕−2−(フルフ
リルチオ)アセトアミド(900■)及ヒドリエチルア
ミン(834■)をクロロホルム(30d)に溶解し、
塩化メタンスルホニル(9461n9)のクロロホルム
(5111)溶液を水冷下滴下した。1時間攪拌後、反
応液を飽和炭酸水素す) IJウム溶液で洗浄、水洗、
乾燥後、溶媒を溜去した。残渣をエタノールに溶解し、
水冷下ビイリジン(1,17#)を加え、6時間還流し
た。
660.1620.1570゜1420.1400゜ C17H2oN204S:実測値348.1140
計算値348.1143実施例7 N−[4−[4−(ヒドロキシメチル)ピリジル−2−
オキシ] −clm −2−ブテニル〕−2−(フルフ
リルチオ)アセトアミド(900■)及ヒドリエチルア
ミン(834■)をクロロホルム(30d)に溶解し、
塩化メタンスルホニル(9461n9)のクロロホルム
(5111)溶液を水冷下滴下した。1時間攪拌後、反
応液を飽和炭酸水素す) IJウム溶液で洗浄、水洗、
乾燥後、溶媒を溜去した。残渣をエタノールに溶解し、
水冷下ビイリジン(1,17#)を加え、6時間還流し
た。
反応液を減圧下濃縮し、残渣を酢酸エチルにとシ、10
%酢酸水溶液で抽出した。水層に炭酸カリウム(固体)
を加えアルカリ性とした後、酢酸エチルで抽出した。有
機層を水洗、乾燥後、溶媒を溜去しN−[4−[4−(
ピペリジノメチル)ピリジル−2−オキシ] −cim
−2−ブテニル〕−2−(フルフリルチオ)アセトア
ミド(820In9.79%)を得た。
%酢酸水溶液で抽出した。水層に炭酸カリウム(固体)
を加えアルカリ性とした後、酢酸エチルで抽出した。有
機層を水洗、乾燥後、溶媒を溜去しN−[4−[4−(
ピペリジノメチル)ピリジル−2−オキシ] −cim
−2−ブテニル〕−2−(フルフリルチオ)アセトア
ミド(820In9.79%)を得た。
’H−NMR(δ1CDCLs ) : 8.06 (
I H、d 、J=4.2’Hz ) 、7.35(I
H,d 、 J=1.8Hz ) 、 6.88(2H
,d 、 J==4.2Hz )。
I H、d 、J=4.2’Hz ) 、7.35(I
H,d 、 J=1.8Hz ) 、 6.88(2H
,d 、 J==4.2Hz )。
6.74(IH,@) 、 6.29(IH,d d、
J=4.2.1.8Hz)。
J=4.2.1.8Hz)。
6.20(IH,d、J=1.8Hz) 、5.86(
LH,m)。
LH,m)。
5.64(IH,m) 、 4.91(2H,d、 J
=7.2Hz )。
=7.2Hz )。
3.99(2H,t 、 J=6.0Hz ) 、 3
.74(2H,a ) 。
.74(2H,a ) 。
3.41(2H,a) 、 3.22(2f(、a )
、 2.37(4H,m) 。
、 2.37(4H,m) 。
1.58(4H,m)、 1.44(2H,m)。
rR(crIL−’、 film):3350.295
0.1670.1620.1570゜1430、142
0.1310゜ C2□H2,N303S:実測値 415.1927計
算値 415.1929 参考例8 N−[4−[:4−(ピペリジノメチル)ピリジル−2
−オキシ] −cig −2−ブテニル〕−2−(フル
7リルチオ)アセトアミド(8zOダ)をジクロロメタ
ン(30ml)に溶解し、氷−塩で冷却し、m−クロロ
過安息香酸(493■)のジクロロメタン(15m)溶
液を滴下した。同条件で15分間攪拌後、反応液を冷飽
和炭酸水素す) IJウム溶液で洗浄、水洗、乾燥後、
溶媒を溜去しN−[4−[4−(ピペリジノメチル)ピ
リジル−2−オキシ] −cim −2−ブテニル]−
2−(フルフリルスルフィニル)アセトアミド(387
9,45%)を得た。
0.1670.1620.1570゜1430、142
0.1310゜ C2□H2,N303S:実測値 415.1927計
算値 415.1929 参考例8 N−[4−[:4−(ピペリジノメチル)ピリジル−2
−オキシ] −cig −2−ブテニル〕−2−(フル
7リルチオ)アセトアミド(8zOダ)をジクロロメタ
ン(30ml)に溶解し、氷−塩で冷却し、m−クロロ
過安息香酸(493■)のジクロロメタン(15m)溶
液を滴下した。同条件で15分間攪拌後、反応液を冷飽
和炭酸水素す) IJウム溶液で洗浄、水洗、乾燥後、
溶媒を溜去しN−[4−[4−(ピペリジノメチル)ピ
リジル−2−オキシ] −cim −2−ブテニル]−
2−(フルフリルスルフィニル)アセトアミド(387
9,45%)を得た。
融点:92.7〜94.9℃
’)I−NMR(δ、CDCLs ) : 8.04
(IH、d 、J==5.I Hz ) 17.44(
IH,d、J=1.6Hz)、7.15〜7.25(I
H,br−s)。
(IH、d 、J==5.I Hz ) 17.44(
IH,d、J=1.6Hz)、7.15〜7.25(I
H,br−s)。
6.73(IH,s)、6.47(IH,d、J=5.
1Hz)。
1Hz)。
6.40(IH,dd、J=3.1,1.6Hz )、
5.80〜5.90(lH,m)、5.60〜5.75
(LH,m)、4.93(2H,t。
5.80〜5.90(lH,m)、5.60〜5.75
(LH,m)、4.93(2H,t。
J=6.1Hz)、4.38(IH,d、J=14.2
Hz)、4.15(2H,dd、J=6.1.6.1H
z)、4.14(lH,d、J=14.2Hz)、3.
69(IH,d、J=14.2Hz)、3.40(2H
,5)=3.34(IH,d、J=14.2Hz)、2
.30〜2.45(4H,m)、1.50〜1.65(
4H,m)、1.40〜1.50(2H,m)。
Hz)、4.15(2H,dd、J=6.1.6.1H
z)、4.14(lH,d、J=14.2Hz)、3.
69(IH,d、J=14.2Hz)、3.40(2H
,5)=3.34(IH,d、J=14.2Hz)、2
.30〜2.45(4H,m)、1.50〜1.65(
4H,m)、1.40〜1.50(2H,m)。
IR(crrL 、KBr):3350.2950,1
645,1620゜1530.1410,1290,1
041゜C2□H29N、04S二実測値 431.1
883計算値 431.1879 (発明の効果) 本発明の前記−数式(1)および(IDで表されるピリ
ジルオキシ誘導体は簡便に製造できる。又、参考例に示
した如く反応に付すことにより容易に前記化合物Bに導
くことができる。化合物BけすぐれたヒスタミンH2受
容体拮抗作用を有する。
645,1620゜1530.1410,1290,1
041゜C2□H29N、04S二実測値 431.1
883計算値 431.1879 (発明の効果) 本発明の前記−数式(1)および(IDで表されるピリ
ジルオキシ誘導体は簡便に製造できる。又、参考例に示
した如く反応に付すことにより容易に前記化合物Bに導
くことができる。化合物BけすぐれたヒスタミンH2受
容体拮抗作用を有する。
特許出願人 富士レビオ株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aは水酸基または保護された水酸基、Yは−C
H_2CH_2−または−CH=CH−で表わされる基
であり、Zはハロゲン原子、アミノ基、フタルイミド基
、水酸基または保護された水酸基である。)で表される
ピリジルオキシ誘導体。 2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aはハロゲン原子、水酸基または保護された水
酸基、Yは−CH_2CH_2−または−CH=CH−
で表わされる基であり、nは0、1または2である。)
で表されるピリジルオキシ誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63016846A JPH0637472B2 (ja) | 1988-01-29 | 1988-01-29 | ピリジルオキシ誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63016846A JPH0637472B2 (ja) | 1988-01-29 | 1988-01-29 | ピリジルオキシ誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01193247A true JPH01193247A (ja) | 1989-08-03 |
| JPH0637472B2 JPH0637472B2 (ja) | 1994-05-18 |
Family
ID=11927576
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63016846A Expired - Lifetime JPH0637472B2 (ja) | 1988-01-29 | 1988-01-29 | ピリジルオキシ誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0637472B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0562833A1 (en) | 1992-03-23 | 1993-09-29 | Sankyo Company Limited | Anti-ulcer pyridyloxy derivatives, their preparation and uses |
| US7803585B2 (en) | 2004-09-17 | 2010-09-28 | Yuki Gosei Kogyo Co., Ltd. | Process for preparing 2-Hydroxy-4-Substituted Pyridines |
-
1988
- 1988-01-29 JP JP63016846A patent/JPH0637472B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0562833A1 (en) | 1992-03-23 | 1993-09-29 | Sankyo Company Limited | Anti-ulcer pyridyloxy derivatives, their preparation and uses |
| US7803585B2 (en) | 2004-09-17 | 2010-09-28 | Yuki Gosei Kogyo Co., Ltd. | Process for preparing 2-Hydroxy-4-Substituted Pyridines |
| US8227617B2 (en) | 2004-09-17 | 2012-07-24 | Yuki Gosei Kogyo Co., Ltd. | Process for preparing 2-hydroxy-4-substituted pyridines |
| US8227234B2 (en) | 2004-09-17 | 2012-07-24 | Yuki Gosei Kogyo Co., Ltd. | Process for preparing 2-hydroxy-4-substituted pyridines |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0637472B2 (ja) | 1994-05-18 |
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