JPH01201844A - 光ディスク用マスター原盤の作成方法 - Google Patents
光ディスク用マスター原盤の作成方法Info
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- JPH01201844A JPH01201844A JP2623788A JP2623788A JPH01201844A JP H01201844 A JPH01201844 A JP H01201844A JP 2623788 A JP2623788 A JP 2623788A JP 2623788 A JP2623788 A JP 2623788A JP H01201844 A JPH01201844 A JP H01201844A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）産業上の利用分野
この発明は、光ディスク用マスター原盤の作成方法に関
し、特にガラス基板上に塗布したレジスト膜のレーザ露
光方法に係る。
し、特にガラス基板上に塗布したレジスト膜のレーザ露
光方法に係る。
（ロ）従来の技術
光ディスク、例えば、光磁気ディスクや追記型光ディス
クの案内溝を作成する方法として、従来は、ガラス基板
上にレジストを塗布し、そのレジスト膜をレーザで露光
し、それを現像することによりレジスト膜に凹凸部を作
成し、その凹凸部を電鋳によって転写してスタンパを作
成し、スタンパの凹凸部を成形によって転写してプラス
チック基板の案内溝を作成するという方法がとられてい
る。そして、最近ＩＳＯの標準化委員会においてこの案
内溝寸法が規格化されつつあり、その規格案によれば、
グループトラッキングの場合には、案内溝は、幅１．２
−１．３μｍ、深さ８８０−１Ｏ０ｎ、番地信号をあら
かじめ記録しているヘッダ一部のピット形状は、信号品
質の点から、幅０．３〜０．５μｍ深さ８０〜１３０ｎ
ｍとなっている。つまり、グループトラッキングの場合
には、幅広の案内溝と幅狭のピットを作成することが必
要となる。
クの案内溝を作成する方法として、従来は、ガラス基板
上にレジストを塗布し、そのレジスト膜をレーザで露光
し、それを現像することによりレジスト膜に凹凸部を作
成し、その凹凸部を電鋳によって転写してスタンパを作
成し、スタンパの凹凸部を成形によって転写してプラス
チック基板の案内溝を作成するという方法がとられてい
る。そして、最近ＩＳＯの標準化委員会においてこの案
内溝寸法が規格化されつつあり、その規格案によれば、
グループトラッキングの場合には、案内溝は、幅１．２
−１．３μｍ、深さ８８０−１Ｏ０ｎ、番地信号をあら
かじめ記録しているヘッダ一部のピット形状は、信号品
質の点から、幅０．３〜０．５μｍ深さ８０〜１３０ｎ
ｍとなっている。つまり、グループトラッキングの場合
には、幅広の案内溝と幅狭のピットを作成することが必
要となる。
（ハ）発明が解決しようとする課題
ところで、溝幅は主としてレーザのスポット径で決定さ
れ、そのスポット径は対物レンズの開口数やレーザパワ
ーの強度によって制御される。し・ かじながら、輻０
．３〜０．５μｍの露光帯と幅１．２〜１．３μ−の露
光帯を一本のレーザビームでコントラスト良く形成する
ことは容易ではない。そこで、本願発明者は、複数のレ
ーザビームをディスクの半径方向に並べて幅広の露光帯
を形成する方法をすでに出願している（昭和６２年特許
出願第２０８９４８号）。
れ、そのスポット径は対物レンズの開口数やレーザパワ
ーの強度によって制御される。し・ かじながら、輻０
．３〜０．５μｍの露光帯と幅１．２〜１．３μ−の露
光帯を一本のレーザビームでコントラスト良く形成する
ことは容易ではない。そこで、本願発明者は、複数のレ
ーザビームをディスクの半径方向に並べて幅広の露光帯
を形成する方法をすでに出願している（昭和６２年特許
出願第２０８９４８号）。
しかしながら、この方法においては、露光帯は精度良く
またコントラスト良く形成されるが、レーザビームをデ
ィスク半径方法に移動させる場合に、その移動量（ピッ
チ）にむらがあると、未露光帯の幅にばらつきを生じ、
現像した時に未露光帯に対応するランドの幅にむらが生
じると共に、ランド高さの均一性が維持されないという
問題点がある。
またコントラスト良く形成されるが、レーザビームをデ
ィスク半径方法に移動させる場合に、その移動量（ピッ
チ）にむらがあると、未露光帯の幅にばらつきを生じ、
現像した時に未露光帯に対応するランドの幅にむらが生
じると共に、ランド高さの均一性が維持されないという
問題点がある。
この発明は、このような事情を考慮してなされたもので
、先ディスクの半径方向に所定間隔を有するレーザビー
ムをレジスト膜に照射し、その間隔によって未露光帯を
確保することにより、レーザビームの移動時にピッチが
変化しても未露光帯の幅が変化することがなく、幅広の
露光部帯を得ることができる光ディスク用マスター原盤
の作成方法を提供するものである。
、先ディスクの半径方向に所定間隔を有するレーザビー
ムをレジスト膜に照射し、その間隔によって未露光帯を
確保することにより、レーザビームの移動時にピッチが
変化しても未露光帯の幅が変化することがなく、幅広の
露光部帯を得ることができる光ディスク用マスター原盤
の作成方法を提供するものである。
（ニ）課題を解決するための手段
この発明は、光ディスク用マスター原盤の作成時におけ
るレジスト膜の露光工程において、第１及び第２レーザ
ビームを、基板上のレジスト膜に光ディスクの半径方向
に所定間隔を有して同時に照射して、それぞれ第１及び
第２露光帯を形成し、次に、第２１を光帯の一部に第１
レーザビームの一部が重なり合うように前記２本のレー
ザビームを前記所定間隔を保持して光ディスクの半径方
向に移動して、第１及び第２レーザビームを同時に照射
し、順次、この作業を繰り返して、前記所定間隔に対応
する幅の非露光帯を確保しつつ第１および第２露光帯か
らなる幅広の露光帯を形成することを特徴とする光ディ
スク用マスター原盤の作成方法である。
るレジスト膜の露光工程において、第１及び第２レーザ
ビームを、基板上のレジスト膜に光ディスクの半径方向
に所定間隔を有して同時に照射して、それぞれ第１及び
第２露光帯を形成し、次に、第２１を光帯の一部に第１
レーザビームの一部が重なり合うように前記２本のレー
ザビームを前記所定間隔を保持して光ディスクの半径方
向に移動して、第１及び第２レーザビームを同時に照射
し、順次、この作業を繰り返して、前記所定間隔に対応
する幅の非露光帯を確保しつつ第１および第２露光帯か
らなる幅広の露光帯を形成することを特徴とする光ディ
スク用マスター原盤の作成方法である。
（ホ）作用
第１および第２レーザビームは光ディスクの半径方向に
所定間隔を有して同時に照射されるので、その所定間隔
によって決定される幅の未露光帯が形成される。また、
形成された第２露光帯の一部に、次に照射される第１レ
ーザビームの一部が重合するので、幅広の露光帯が形成
される。
所定間隔を有して同時に照射されるので、その所定間隔
によって決定される幅の未露光帯が形成される。また、
形成された第２露光帯の一部に、次に照射される第１レ
ーザビームの一部が重合するので、幅広の露光帯が形成
される。
（へ）実施例
以下、図面に示す実施例に基づいて、この発明を詳述す
る。これによって、この発明が限定されるものではない
。
る。これによって、この発明が限定されるものではない
。
第１図はこの発明の一実施例に適用されるレーザ光学系
の概略構成を示す構成説明図であり、ｌ！はレーザ装置
、１２．１８はビームスプリブタ、１３．１９は反射鏡
、１４．１５は光変調器、１６は光偏向器、＋７は１７
２波長板である。
の概略構成を示す構成説明図であり、ｌ！はレーザ装置
、１２．１８はビームスプリブタ、１３．１９は反射鏡
、１４．１５は光変調器、１６は光偏向器、＋７は１７
２波長板である。
このような構成において、レーザ装置１１から発射され
ｒこ１本のレーザビームは、スプリッタ１２で２本のレ
ーザビーム４．５に分割される。
ｒこ１本のレーザビームは、スプリッタ１２で２本のレ
ーザビーム４．５に分割される。
そして、光ＲｔＦＩＩ器Ｉ４及び光偏向器１６を通った
レーザビーム４と、反射鏡１３で反射され光変調器１５
およびｌ／２￥Ｉｌ長板１７を通って反射鏡１９で反射
されたレーザビーム５とが、ビームスプリッタ１８で再
び合わされ対物レンズ３に入射する。
レーザビーム４と、反射鏡１３で反射され光変調器１５
およびｌ／２￥Ｉｌ長板１７を通って反射鏡１９で反射
されたレーザビーム５とが、ビームスプリッタ１８で再
び合わされ対物レンズ３に入射する。
第２図は光ディスク用マスター原盤作成時゛のレジスト
膜の露光状態を示す斜視図、第３図（ａ）および第４図
（ａ）は第１図に示す露光作業の各工程を示す部分拡大
断面図であり、第３図（ｂ）および第４図（ｂ）はそれ
ぞれ第３図（ａ）、第４図（ｂ）に対応する原盤部分の
平面図である。これらの図において、ｌはディスク状の
ガラス基板、２はガラス基Ｖｉｔ、１の上に塗布された
レジスト膜であり、ガラス基板ｌの上部近傍に露光用の
対物レンズ３が配置される。レーザビーム４．５は、レ
ジスト膜２に集光されたレジストスポットがレジスト膜
２の上にディスク状ガラス基板ｌの半径方向に一定間隔
ｄをなすように、対物レンズ３を介して照射される。２
本のビーム４．５で挟まれた未露光帯が現像されるとラ
ンドとなり、ビーム４．５で露光された露光帯７．８が
現象されるとグループとなる。
膜の露光状態を示す斜視図、第３図（ａ）および第４図
（ａ）は第１図に示す露光作業の各工程を示す部分拡大
断面図であり、第３図（ｂ）および第４図（ｂ）はそれ
ぞれ第３図（ａ）、第４図（ｂ）に対応する原盤部分の
平面図である。これらの図において、ｌはディスク状の
ガラス基板、２はガラス基Ｖｉｔ、１の上に塗布された
レジスト膜であり、ガラス基板ｌの上部近傍に露光用の
対物レンズ３が配置される。レーザビーム４．５は、レ
ジスト膜２に集光されたレジストスポットがレジスト膜
２の上にディスク状ガラス基板ｌの半径方向に一定間隔
ｄをなすように、対物レンズ３を介して照射される。２
本のビーム４．５で挟まれた未露光帯が現像されるとラ
ンドとなり、ビーム４．５で露光された露光帯７．８が
現象されるとグループとなる。
第３図（ａ）に示すように、ディスクｌの半径方向に間
隔ｄだけ隔ててビーム４．５がレジスト膜２の上に照射
され、ガラス基板ｌが回転すると、第３図（ｂ）に示す
ように幅ｄの未露光帯６を挟んで両側に露光帯７．８が
形成される。
隔ｄだけ隔ててビーム４．５がレジスト膜２の上に照射
され、ガラス基板ｌが回転すると、第３図（ｂ）に示す
ように幅ｄの未露光帯６を挟んで両側に露光帯７．８が
形成される。
次に、光学系を基板ｌの半径方向すなわち矢印六方向に
移動させてレーザビーム５のスポットが露光帯７と距離
したけ重なり合うように配置し、基板ｌを回転させると
、第４図（ａ） （ｂ）に示すように、露光帯７と一部
重合した露光帯８ユによって幅広の露光帯９が形成され
ると共に、幅ｄを有する新たな未露光帯６ａを隔てて露
光帯７１が形成される。
移動させてレーザビーム５のスポットが露光帯７と距離
したけ重なり合うように配置し、基板ｌを回転させると
、第４図（ａ） （ｂ）に示すように、露光帯７と一部
重合した露光帯８ユによって幅広の露光帯９が形成され
ると共に、幅ｄを有する新たな未露光帯６ａを隔てて露
光帯７１が形成される。
このような工程を順次繰り返すことにより、幅広の露光
帯がレジスト膜に形成される。なお、非露光帯の幅ｄは
レーザビーム４．５の間隔を変えることによって制御さ
れ、光学系の移動ピッチと無関係であるので、未感光帯
の幅ｄは高精度に維持される。また、幅広の露光帯の幅
寸法はレーザビーム４．５の出力を制御することなく、
光学系の移動ピッチによって、レーザビーム４．５のス
ポット径の和まで広げることが可能である。
帯がレジスト膜に形成される。なお、非露光帯の幅ｄは
レーザビーム４．５の間隔を変えることによって制御さ
れ、光学系の移動ピッチと無関係であるので、未感光帯
の幅ｄは高精度に維持される。また、幅広の露光帯の幅
寸法はレーザビーム４．５の出力を制御することなく、
光学系の移動ピッチによって、レーザビーム４．５のス
ポット径の和まで広げることが可能である。
第５図（ａ）は光ディスク用マスター原盤のヘッダ一部
の露光方法を示す部分断面図、第５図（ｂ）は第５図（
ａ）の原盤部の平面図、第６図はヘッダ一部に形成され
るビット用露光部の配置説明図、第７図は第６図に対応
して示したレーザビームの変調信号および偏向信号のタ
イムチャートである。
の露光方法を示す部分断面図、第５図（ｂ）は第５図（
ａ）の原盤部の平面図、第６図はヘッダ一部に形成され
るビット用露光部の配置説明図、第７図は第６図に対応
して示したレーザビームの変調信号および偏向信号のタ
イムチャートである。
これらの図において、レーザビーム４，５の変調信号Ｓ
ｌ、Ｓ２が出力されてレジスト膜２の上に露光帯７．８
が形成されている時、時刻ｔｌにおいて変調信号Ｓ１．
Ｓ２がＯＦＦしてレーザビーム４の偏向信号Ｓ３がＯＮ
となると、レーザビーム４は第５図に示すように４ａの
位置に偏向され、レーザビーム４．５の対物レンズ３へ
の入射が停止される。次に、期間ＴＩ−Ｔ３においてレ
ーザビーム４の変調信号が出力され、それに対応してレ
ーザビーム４ａがレジスト膜２に照射され、ヘッダ一部
の幅の狭いピットに対応する露光７ａが形成される。こ
の時、レーザビーム４ａの出力がやや低下してスポット
径が縮小する。それと共に、ビームのスポット位置１が
幅広の露光帯９の中心の延長線上に位置するように偏向
信号Ｓ３を受けた光偏向器１６によって、ビーム角度が
偏向され、対物レンズ３にビーム４ａとして入射される
。そして、再び時刻ｔ２において偏向信号Ｓ３がＯＦＦ
されレーザビーム４，５の変調信号がＯＮされると、再
びレーザビーム４．５が対物レンズ３に入射されて露光
帯７．８がレンズ）ＩＩ！２の上に形成される。
ｌ、Ｓ２が出力されてレジスト膜２の上に露光帯７．８
が形成されている時、時刻ｔｌにおいて変調信号Ｓ１．
Ｓ２がＯＦＦしてレーザビーム４の偏向信号Ｓ３がＯＮ
となると、レーザビーム４は第５図に示すように４ａの
位置に偏向され、レーザビーム４．５の対物レンズ３へ
の入射が停止される。次に、期間ＴＩ−Ｔ３においてレ
ーザビーム４の変調信号が出力され、それに対応してレ
ーザビーム４ａがレジスト膜２に照射され、ヘッダ一部
の幅の狭いピットに対応する露光７ａが形成される。こ
の時、レーザビーム４ａの出力がやや低下してスポット
径が縮小する。それと共に、ビームのスポット位置１が
幅広の露光帯９の中心の延長線上に位置するように偏向
信号Ｓ３を受けた光偏向器１６によって、ビーム角度が
偏向され、対物レンズ３にビーム４ａとして入射される
。そして、再び時刻ｔ２において偏向信号Ｓ３がＯＦＦ
されレーザビーム４，５の変調信号がＯＮされると、再
びレーザビーム４．５が対物レンズ３に入射されて露光
帯７．８がレンズ）ＩＩ！２の上に形成される。
なお、前述の非露光帯の間隔ｄは、光偏向器１６でレー
ザビーム４を偏向さ仕るか又は反射鏡１９を適度に回動
させることにより精度よく調整することができる。また
、１／２波長板１７（第１図）はビーム４と５が互いに
干渉しないように偏波面を変えるためのものである。
ザビーム４を偏向さ仕るか又は反射鏡１９を適度に回動
させることにより精度よく調整することができる。また
、１／２波長板１７（第１図）はビーム４と５が互いに
干渉しないように偏波面を変えるためのものである。
（ト）発明の効果
この発明によれば、非露光帯の幅が高精度に推持される
ので、幅および高さの均一なランドを得ることができ、
幅広のグループを作成することができる。
ので、幅および高さの均一なランドを得ることができ、
幅広のグループを作成することができる。
第１図はこの発明の一実施例に適用するレーザ光学系の
概略構成図、第２図はこの発明の一実施例における光デ
ィスク用マスター原盤作成時のレジスト膜の露光状態を
示す斜視図、第３図（ａ）および第４図（ａ）は第２図
に示す一実施例の工程を示す断面図、第３図（ｂ）およ
び第４図（ｂ）はそれぞれ第３図＜ａ＞および第４図（
ａ）に対応する部分平面図、第５図（ａ）は第２図に示
す一実施例の他の工程を示す断面図、第５（ｂ）は第５
図（ａ）に対応する部分平面図、第６図は第３図（ａ）
〜第５図（ａ）に示す工程によって形成される露光帯の
配置を示す配置説明図、第７図はレーザビームの変調信
号と偏向信号の時間的変化を第６図に対応して示すタイ
ムチャートである。
概略構成図、第２図はこの発明の一実施例における光デ
ィスク用マスター原盤作成時のレジスト膜の露光状態を
示す斜視図、第３図（ａ）および第４図（ａ）は第２図
に示す一実施例の工程を示す断面図、第３図（ｂ）およ
び第４図（ｂ）はそれぞれ第３図＜ａ＞および第４図（
ａ）に対応する部分平面図、第５図（ａ）は第２図に示
す一実施例の他の工程を示す断面図、第５（ｂ）は第５
図（ａ）に対応する部分平面図、第６図は第３図（ａ）
〜第５図（ａ）に示す工程によって形成される露光帯の
配置を示す配置説明図、第７図はレーザビームの変調信
号と偏向信号の時間的変化を第６図に対応して示すタイ
ムチャートである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、光ディスク用マスター原盤の作成時におけるレジス
ト膜の露光工程において、 第１及び第２レーザビームを、基板上のレジスト膜に光
ディスクの半径方向に所定間隔を有して照射し、それぞ
れ第１及び第２露光帯を形成し、次に、第２露光帯の一
部に第１レーザビームの一部が重なり合うように前記２
本のレーザビームを前記所定間隔を保持して光ディスク
の半径方向に移動した後、第１及び第２レーザビームを
照射し、順次、この作業を繰り返して、前記所定間隔に
対応する幅の非露光帯を確保しつつ第１および第２露光
帯からなる幅広の露光帯を形成することを特徴とする光
ディスク用マスター原盤の作成方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63026237A JP2540582B2 (ja) | 1988-02-05 | 1988-02-05 | 光ディスク用マスタ―原盤の作成方法 |
| EP88307691A EP0304312B1 (en) | 1987-08-21 | 1988-08-19 | An optical disk for use in optical memory devices |
| DE8888307691T DE3875423T2 (de) | 1987-08-21 | 1988-08-19 | Optische platte zur verwendung in optischen speichergeraeten. |
| CA000575204A CA1303740C (en) | 1987-08-21 | 1988-08-19 | Optical disk for use in optical memory devices |
| US08/032,540 US5399461A (en) | 1987-08-21 | 1993-03-17 | Optical disk for use in optical memory devices |
| US08/346,173 US5500850A (en) | 1987-08-21 | 1994-11-22 | Optical disk with grooves and pits of different depths |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63026237A JP2540582B2 (ja) | 1988-02-05 | 1988-02-05 | 光ディスク用マスタ―原盤の作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01201844A true JPH01201844A (ja) | 1989-08-14 |
| JP2540582B2 JP2540582B2 (ja) | 1996-10-02 |
Family
ID=12187709
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63026237A Expired - Fee Related JP2540582B2 (ja) | 1987-08-21 | 1988-02-05 | 光ディスク用マスタ―原盤の作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2540582B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6054199A (en) * | 1996-04-10 | 2000-04-25 | Hitachi Maxell, Ltd. | Optical recording medium |
| US6874262B2 (en) * | 1999-06-01 | 2005-04-05 | Nikon Corporation | Method for manufacturing master substrate used for manufacturing grooved molding substrate, method for manufacturing stamper for manufacturing grooved molding substrate, method for manufacturing grooved molding substrate, grooved molding substrate, memory medium, memory device, and computer |
-
1988
- 1988-02-05 JP JP63026237A patent/JP2540582B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6054199A (en) * | 1996-04-10 | 2000-04-25 | Hitachi Maxell, Ltd. | Optical recording medium |
| US6874262B2 (en) * | 1999-06-01 | 2005-04-05 | Nikon Corporation | Method for manufacturing master substrate used for manufacturing grooved molding substrate, method for manufacturing stamper for manufacturing grooved molding substrate, method for manufacturing grooved molding substrate, grooved molding substrate, memory medium, memory device, and computer |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2540582B2 (ja) | 1996-10-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |