JPH10308033A - 光ディスク原盤の露光方法 - Google Patents
光ディスク原盤の露光方法Info
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- JPH10308033A JPH10308033A JP9117072A JP11707297A JPH10308033A JP H10308033 A JPH10308033 A JP H10308033A JP 9117072 A JP9117072 A JP 9117072A JP 11707297 A JP11707297 A JP 11707297A JP H10308033 A JPH10308033 A JP H10308033A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ピットの狭小化を図ることができることによ
り記録密度が高くすることができ、かつピットの形状を
整形することができることにより再生信号の変化が少な
く安定して再生信号が得られる光ディスクを製造できる
光ディスク原盤の露光方法を提供する。 【解決手段】 光ディスクの原盤作製工程中の露光工程
において、２つの露光ビームを進行方向に重ね合わせて
露光し、これら２つの露光ビームの各照射スポットＳＰ
1 ，ＳＰ2 が重複する部分Ｓを感光させて露光パターン
を形成する。
り記録密度が高くすることができ、かつピットの形状を
整形することができることにより再生信号の変化が少な
く安定して再生信号が得られる光ディスクを製造できる
光ディスク原盤の露光方法を提供する。 【解決手段】 光ディスクの原盤作製工程中の露光工程
において、２つの露光ビームを進行方向に重ね合わせて
露光し、これら２つの露光ビームの各照射スポットＳＰ
1 ，ＳＰ2 が重複する部分Ｓを感光させて露光パターン
を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばコンパクト
ディスク等の光ディスクの原盤の露光方法に係わる。
ディスク等の光ディスクの原盤の露光方法に係わる。
【０００２】
【従来の技術】例えばコンパクトディスク等の光ディス
クにおいては、いわゆるスタンパーと称される原盤を形
成して、これを用いて光ディスクの製造を行っている。
クにおいては、いわゆるスタンパーと称される原盤を形
成して、これを用いて光ディスクの製造を行っている。
【０００３】この光ディスクの原盤の製造工程を、図５
に示す。まず、図５Ａに示すように、ガラス基板５１上
にフォトレジスト５２を塗布し、レジスト盤５３を形成
する。次に、図５Ｂに示すように、所定の露光パターン
となるようにフォトレジスト５２を露光する。５２ａは
フォトレジスト５２の露光された部分を示す。
に示す。まず、図５Ａに示すように、ガラス基板５１上
にフォトレジスト５２を塗布し、レジスト盤５３を形成
する。次に、図５Ｂに示すように、所定の露光パターン
となるようにフォトレジスト５２を露光する。５２ａは
フォトレジスト５２の露光された部分を示す。
【０００４】次に、図５Ｃに示すように、露光させたフ
ォトレジスト５２（５２ａ）を現像し、露光されていな
い部分を残して除去することにより、フォトレジスト５
２が所定のパターンとされたガラス・マスター５４を形
成する。
ォトレジスト５２（５２ａ）を現像し、露光されていな
い部分を残して除去することにより、フォトレジスト５
２が所定のパターンとされたガラス・マスター５４を形
成する。
【０００５】次に、図５Ｄに示すように、ガラス・マス
ター５４に対して、フォトレジスト５２の表面を覆っ
て、全面的にニッケルメッキ５５を形成する。
ター５４に対して、フォトレジスト５２の表面を覆っ
て、全面的にニッケルメッキ５５を形成する。
【０００６】次に、図５Ｅに示すように、ニッケルメッ
キ５５の上面を研磨する。続いて、図５Ｆに示すよう
に、フォトレジスト５２及びガラス基板５１を剥離し、
洗浄する。このようにして、ニッケルによる光ディスク
原盤（スタンパー）５６が形成される。
キ５５の上面を研磨する。続いて、図５Ｆに示すよう
に、フォトレジスト５２及びガラス基板５１を剥離し、
洗浄する。このようにして、ニッケルによる光ディスク
原盤（スタンパー）５６が形成される。
【０００７】そして、図５Ｂに示した、フォトレジスト
５２への露光工程によって、フォトレジスト５２へ光デ
ィスクのピットや溝に対応する形状を形成し、これを原
盤５６へ転写していた。
５２への露光工程によって、フォトレジスト５２へ光デ
ィスクのピットや溝に対応する形状を形成し、これを原
盤５６へ転写していた。
【０００８】従来の露光方法においては、例えばピット
の幅は、露光ビームの直径Ｄに比例して形成されてい
た。この露光ビームの直径Ｄは、次の数１の関係を満た
している。
の幅は、露光ビームの直径Ｄに比例して形成されてい
た。この露光ビームの直径Ｄは、次の数１の関係を満た
している。
【０００９】
【数１】Ｄ∝λ／Ｎ．Ａ． λ：露光ビームの波長 Ｎ．Ａ．：対物レンズの開口数
【００１０】数１より、露光ビームの直径Ｄが露光ビー
ムの波長λに比例するので、ピットの幅、即ち露光パタ
ーンの幅を小さくするには、露光ビームに波長λの短い
光を用いる必要がある。
ムの波長λに比例するので、ピットの幅、即ち露光パタ
ーンの幅を小さくするには、露光ビームに波長λの短い
光を用いる必要がある。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、露光装
置で通常用いられる光学部品の材質から、Ｋｒレーザの
３５１ｎｍ程度までの短波長化が限界であり、それに対
応するピットの幅は約０．２５μｍである。このピット
の幅の限界により、光ディスクへの情報の記録密度をさ
らに高密度化することが困難であった。
置で通常用いられる光学部品の材質から、Ｋｒレーザの
３５１ｎｍ程度までの短波長化が限界であり、それに対
応するピットの幅は約０．２５μｍである。このピット
の幅の限界により、光ディスクへの情報の記録密度をさ
らに高密度化することが困難であった。
【００１２】また、従来は、光ディスクのピットは、端
部が丸い形状であり、しかもその曲率半径が小さいため
に、再生信号の立ち上がりが悪く、読みとりのためのス
ライスレベルが変動すると時間軸の変化が生じることが
あった。
部が丸い形状であり、しかもその曲率半径が小さいため
に、再生信号の立ち上がりが悪く、読みとりのためのス
ライスレベルが変動すると時間軸の変化が生じることが
あった。
【００１３】上述した問題の解決のために、本発明にお
いては、ピットの狭小化を図ることができることにより
記録密度が高くすることができ、かつピットの形状を整
形することができることにより再生信号の変化が少なく
安定して再生信号が得られる光ディスクを製造できる光
ディスク原盤の露光方法を提供するものである。
いては、ピットの狭小化を図ることができることにより
記録密度が高くすることができ、かつピットの形状を整
形することができることにより再生信号の変化が少なく
安定して再生信号が得られる光ディスクを製造できる光
ディスク原盤の露光方法を提供するものである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明の光ディスク原盤
の露光方法は、光ディスクの原盤作製工程中の露光工程
において、２つの露光ビームを進行方向に重ね合わせて
露光し、これら２つの露光ビームの各照射スポットが重
複する部分を感光させて露光パターンを形成するもので
ある。
の露光方法は、光ディスクの原盤作製工程中の露光工程
において、２つの露光ビームを進行方向に重ね合わせて
露光し、これら２つの露光ビームの各照射スポットが重
複する部分を感光させて露光パターンを形成するもので
ある。
【００１５】上述の本発明の構成によれば、進行方向に
重ね合わされた２つの露光ビームの照射スポットの重複
部により露光がなされるので、ピット等の露光パターン
を、照射スポットよりも小さい幅に形成できる。また、
従来と同じ曲率半径の露光ビームの照射スポットに対し
て、形成される露光パターンの幅が小さくなるので、例
えばピットを形成したときに、より矩形に近い形状にな
る。
重ね合わされた２つの露光ビームの照射スポットの重複
部により露光がなされるので、ピット等の露光パターン
を、照射スポットよりも小さい幅に形成できる。また、
従来と同じ曲率半径の露光ビームの照射スポットに対し
て、形成される露光パターンの幅が小さくなるので、例
えばピットを形成したときに、より矩形に近い形状にな
る。
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明は、光ディスクの原盤作製
工程中の露光工程において、２つの露光ビームを進行方
向に重ね合わせて露光し、２つの露光ビームの各照射ス
ポットが重複する部分を感光させて露光パターンを形成
する光ディスク原盤の露光方法である。
工程中の露光工程において、２つの露光ビームを進行方
向に重ね合わせて露光し、２つの露光ビームの各照射ス
ポットが重複する部分を感光させて露光パターンを形成
する光ディスク原盤の露光方法である。
【００１７】以下、図面を参照して本発明の光ディスク
原盤の露光方法を説明する。図１は、本発明方法に用い
る露光機の一例の構成図を示す。
原盤の露光方法を説明する。図１は、本発明方法に用い
る露光機の一例の構成図を示す。
【００１８】この露光機３１は、光源としてのレーザ３
２、レーザ光を変調するＥＯＭ（電気光学変調器）、ビ
ームスプリッタＢＳ１，ＢＳ２，ＢＳ３，ＢＳ４、音響
光学変調器ＡＯＭ１，ＡＯＭ２、レンズＬ１，Ｌ２，Ｌ
３，Ｌ４，Ｌ５、ミラーＭ１，Ｍ２、ビームを合成する
際の位置調整を行うビームステアリングＢＳＴ、対物レ
ンズ３３を有して成り、さらに所定の露光パターンが形
成されるように音響光学変調器ＡＯＭ１，ＡＯＭ２に信
号を与えるエンコーダ（フォーマッタ）３４を有して成
る。
２、レーザ光を変調するＥＯＭ（電気光学変調器）、ビ
ームスプリッタＢＳ１，ＢＳ２，ＢＳ３，ＢＳ４、音響
光学変調器ＡＯＭ１，ＡＯＭ２、レンズＬ１，Ｌ２，Ｌ
３，Ｌ４，Ｌ５、ミラーＭ１，Ｍ２、ビームを合成する
際の位置調整を行うビームステアリングＢＳＴ、対物レ
ンズ３３を有して成り、さらに所定の露光パターンが形
成されるように音響光学変調器ＡＯＭ１，ＡＯＭ２に信
号を与えるエンコーダ（フォーマッタ）３４を有して成
る。
【００１９】光源であるレーザ３２から発生した光（レ
ーザビーム）は、ＥＯＭ（電気光学変調器）により変調
された後、ビームスプリッタＢＳ１で２つの光ａ，ｂに
分割される（２ビーム法）。
ーザビーム）は、ＥＯＭ（電気光学変調器）により変調
された後、ビームスプリッタＢＳ１で２つの光ａ，ｂに
分割される（２ビーム法）。
【００２０】分割された２つの光の一方の光ａは、レン
ズＬ１を通過して音響光学変調器ＡＯＭ１において、エ
ンコーダ（フォーマッタ）３４によって与えられる所定
の信号パターンに変調された後、レンズＬ３、ビームス
プリッタＢＳ３、ミラーＭ２を経由する。他方の光ｂも
同様に、ビームスプリッタＢＳ１及びレンズＬ２を通過
して、音響光学変調器ＡＯＭ２においてエンコーダ（フ
ォーマッタ）３４によって所定の信号パターンに変調さ
れた後、レンズＬ４、ビームスプリッタＢＳ４を経由す
る。
ズＬ１を通過して音響光学変調器ＡＯＭ１において、エ
ンコーダ（フォーマッタ）３４によって与えられる所定
の信号パターンに変調された後、レンズＬ３、ビームス
プリッタＢＳ３、ミラーＭ２を経由する。他方の光ｂも
同様に、ビームスプリッタＢＳ１及びレンズＬ２を通過
して、音響光学変調器ＡＯＭ２においてエンコーダ（フ
ォーマッタ）３４によって所定の信号パターンに変調さ
れた後、レンズＬ４、ビームスプリッタＢＳ４を経由す
る。
【００２１】そして、ビームステアリングＢＳＴにおい
て、後述するように、２つの光ａ，ｂを進行方向にずら
して重ね合わせる。
て、後述するように、２つの光ａ，ｂを進行方向にずら
して重ね合わせる。
【００２２】その後は、重ね合わせた光ｃが、レンズＬ
５、ミラーＭ１、対物レンズ３３を経由して、ガラス基
板４１上に形成されたフォトレジスト４２に所定のパタ
ーンを形成するように照射される。
５、ミラーＭ１、対物レンズ３３を経由して、ガラス基
板４１上に形成されたフォトレジスト４２に所定のパタ
ーンを形成するように照射される。
【００２３】これにより、ガラス基板４１上に所定のパ
ターンのフォトレジスト４２が形成されたガラス・マス
ター４３が形成される。その後は、このガラス・マスタ
ー４３を用いて、前述の図５に示した工程を経て光ディ
スクの原盤を製造することができる。
ターンのフォトレジスト４２が形成されたガラス・マス
ター４３が形成される。その後は、このガラス・マスタ
ー４３を用いて、前述の図５に示した工程を経て光ディ
スクの原盤を製造することができる。
【００２４】尚、図１で光路を反射させる位置に用いら
れているビームスプリッタＢＳ２，ＢＳ３，ＢＳ４は、
通常用いられるミラーの場合と比較して、Ｓ波とＰ波と
の分離ができることから後にビームを整形するのが容易
になる利点を有する。
れているビームスプリッタＢＳ２，ＢＳ３，ＢＳ４は、
通常用いられるミラーの場合と比較して、Ｓ波とＰ波と
の分離ができることから後にビームを整形するのが容易
になる利点を有する。
【００２５】次に重ね合わせる２つのビームの関係と、
これらのビームによるピットの形成について説明する。
これらのビームによるピットの形成について説明する。
【００２６】１．ピットの幅のコントロール 本発明においては、上述の図１で示した、分割された２
つのビームａ，ｂを用いて、ビームステアリングＢＳＴ
等で位置調整を行って、進行方向に並び（先行ビーム及
び後行ビーム）、一部が重複した２つの露光ビームを構
成する。そして、この２つの露光ビームの各照射スポッ
ト（露光スポット）が重複する部分を感光させて露光パ
ターンを形成する。尚、露光ビームの照射スポット（露
光スポット）は、通常円又は楕円となるため、以下これ
を円又は楕円として説明する。
つのビームａ，ｂを用いて、ビームステアリングＢＳＴ
等で位置調整を行って、進行方向に並び（先行ビーム及
び後行ビーム）、一部が重複した２つの露光ビームを構
成する。そして、この２つの露光ビームの各照射スポッ
ト（露光スポット）が重複する部分を感光させて露光パ
ターンを形成する。尚、露光ビームの照射スポット（露
光スポット）は、通常円又は楕円となるため、以下これ
を円又は楕円として説明する。
【００２７】従来のように、１つのビームにより露光を
行うと、図６に示すように、ピットＰの幅は、露光スポ
ットＳＰの径（直径、長径又は短径）とほぼ同じであ
り、ピットの前端部及び後端部の曲率半径が露光スポッ
トＳＰの曲率半径とほぼ等しくなる。
行うと、図６に示すように、ピットＰの幅は、露光スポ
ットＳＰの径（直径、長径又は短径）とほぼ同じであ
り、ピットの前端部及び後端部の曲率半径が露光スポッ
トＳＰの曲率半径とほぼ等しくなる。
【００２８】これに対して、２つのビームの重複部で露
光を行うようにすると、図２Ａ及び図２Ｂに示すよう
に、ピットの幅Ｄｐが、２つのビーム、即ち先行ビーム
及び後行ビームの各露光スポットＳＰ1 ，ＳＰ2 の重複
部Ｓの幅に形成される。このとき、２つのビームの重複
部のエネルギー（強度）のみが、フォトレジスト４２を
露光できるように、フォトレジスト４２の感度を設定す
ることにより、図２Ａ及び２Ｂに示すように、２つのビ
ームの各露光スポットＳＰ1 ，ＳＰ2 の重複部Ｓの幅を
ピットの幅Ｄｐとして形成することができる。
光を行うようにすると、図２Ａ及び図２Ｂに示すよう
に、ピットの幅Ｄｐが、２つのビーム、即ち先行ビーム
及び後行ビームの各露光スポットＳＰ1 ，ＳＰ2 の重複
部Ｓの幅に形成される。このとき、２つのビームの重複
部のエネルギー（強度）のみが、フォトレジスト４２を
露光できるように、フォトレジスト４２の感度を設定す
ることにより、図２Ａ及び２Ｂに示すように、２つのビ
ームの各露光スポットＳＰ1 ，ＳＰ2 の重複部Ｓの幅を
ピットの幅Ｄｐとして形成することができる。
【００２９】また、図２Ｂに示すように、２つのビーム
の光軸の間隔を拡げて、露光スポットＳＰ1 ，ＳＰ2 の
重複部Ｓの割合を少なくしたときには、重複部Ｓの幅が
小さくなるので、ピットの幅Ｄｐを小さくすることがで
きる。従って、従来と同じ大きさの露光スポットで、ピ
ットの幅Ｄｐをより狭くすることができる。
の光軸の間隔を拡げて、露光スポットＳＰ1 ，ＳＰ2 の
重複部Ｓの割合を少なくしたときには、重複部Ｓの幅が
小さくなるので、ピットの幅Ｄｐを小さくすることがで
きる。従って、従来と同じ大きさの露光スポットで、ピ
ットの幅Ｄｐをより狭くすることができる。
【００３０】２．矩形ピットの形成 上述の方法によりピットを形成する際にも、従来と同様
にピットの前端部及び後端部の曲率半径は、露光スポッ
トの曲率半径とほぼ等しくなる。図３Ａに示すように、
比較的曲率半径の小さい露光スポットＳＰ1 ，ＳＰ2 に
よりピットＰを形成すると、ピットＰの前端部及び後端
部の曲率半径が小さく丸い形状に形成される。この図３
Ａの場合でも、図６に示す従来の露光方法の場合より
は、ピットＰの幅Ｄｐに対する前端部及び後端部の曲率
半径の比が大きくなるため、従来よりやや矩形に近づ
く。
にピットの前端部及び後端部の曲率半径は、露光スポッ
トの曲率半径とほぼ等しくなる。図３Ａに示すように、
比較的曲率半径の小さい露光スポットＳＰ1 ，ＳＰ2 に
よりピットＰを形成すると、ピットＰの前端部及び後端
部の曲率半径が小さく丸い形状に形成される。この図３
Ａの場合でも、図６に示す従来の露光方法の場合より
は、ピットＰの幅Ｄｐに対する前端部及び後端部の曲率
半径の比が大きくなるため、従来よりやや矩形に近づ
く。
【００３１】ここで、図３Ｂに示すように、露光に用い
るビームの曲率半径を大きく、即ち形成されるべきピッ
トＰの幅Ｄｐに比して露光スポットＳＰ1 ，ＳＰ2 の径
を充分大きくする。このようにすることにより、ピット
Ｐの前端部及び後端部の曲率半径もさらに大きくなり、
図３Ａの場合よりさらに矩形に近い形のピットＰを形成
することができる。
るビームの曲率半径を大きく、即ち形成されるべきピッ
トＰの幅Ｄｐに比して露光スポットＳＰ1 ，ＳＰ2 の径
を充分大きくする。このようにすることにより、ピット
Ｐの前端部及び後端部の曲率半径もさらに大きくなり、
図３Ａの場合よりさらに矩形に近い形のピットＰを形成
することができる。
【００３２】また、露光スポットＳＰ1 ，ＳＰ2 の重複
部Ｓの幅（ピットの幅Ｄｐに相当）を大きく変えない
で、ピットＰの前端部及び後端部の曲率半径を小さくす
るには、露光スポットＳＰ1 ，ＳＰ2 の径をより大きく
してやればよい。
部Ｓの幅（ピットの幅Ｄｐに相当）を大きく変えない
で、ピットＰの前端部及び後端部の曲率半径を小さくす
るには、露光スポットＳＰ1 ，ＳＰ2 の径をより大きく
してやればよい。
【００３３】尚、良好なピットＰの形状を得るために、
先行ビームと後行ビームの露光スポットＳＰ1 ，ＳＰ2
は、大きさ及び曲率半径が同じであることが好ましい。
先行ビームと後行ビームの露光スポットＳＰ1 ，ＳＰ2
は、大きさ及び曲率半径が同じであることが好ましい。
【００３４】３．ピットの形状と再生信号との関係 従来の前端部及び後端部の曲率半径が小さい形状のピッ
トＰの場合には、図４Ａに示すように、再生信号は正弦
波に近い形状となる。
トＰの場合には、図４Ａに示すように、再生信号は正弦
波に近い形状となる。
【００３５】ここで、スライスレベルの変動があると
き、最小のスライスレベルをＳＬ１、最大のスライスレ
ベルをＳＬ２とし、スライスレベルがＳＬ１の場合の再
生信号が読みとられる時間をｔ1 、スライスレベルがＳ
Ｌ２の場合の再生信号が読みとられる時間をｔ2 とす
る。そして、Δｔ＝ｔ1 −ｔ2 とするとき、この場合に
はΔｔが大きく、スライスレベルの変動による時間軸の
変化が大きい。従って、再生信号のゆらぎが生じやす
く、所望の正しい再生信号がとれないことがある。
き、最小のスライスレベルをＳＬ１、最大のスライスレ
ベルをＳＬ２とし、スライスレベルがＳＬ１の場合の再
生信号が読みとられる時間をｔ1 、スライスレベルがＳ
Ｌ２の場合の再生信号が読みとられる時間をｔ2 とす
る。そして、Δｔ＝ｔ1 −ｔ2 とするとき、この場合に
はΔｔが大きく、スライスレベルの変動による時間軸の
変化が大きい。従って、再生信号のゆらぎが生じやす
く、所望の正しい再生信号がとれないことがある。
【００３６】一方、図３Ｂに示したように、矩形に近い
形状のピットＰとしたときには、図４Ｂに示すように、
再生信号の立ち上がりが速く高いレベルを長く維持する
ため、ｔ1 とｔ2 との差が小さく、Δｔが小さくなる。
従って、スライスレベルの変動による時間軸の変化が小
さくなる。
形状のピットＰとしたときには、図４Ｂに示すように、
再生信号の立ち上がりが速く高いレベルを長く維持する
ため、ｔ1 とｔ2 との差が小さく、Δｔが小さくなる。
従って、スライスレベルの変動による時間軸の変化が小
さくなる。
【００３７】このように、２つの露光ビームを進行方向
に重ね合わせて露光し、露光スポットの重複部を感光さ
せる露光方法を採って、露光スポットの曲率半径を大き
くすることにより、矩形に近い形状のピットＰが形成さ
れ、再生信号の立ち上がりが速くなると共に、再生信号
の変化が少なくなり、いわゆるジッタ特性が良好とな
る。
に重ね合わせて露光し、露光スポットの重複部を感光さ
せる露光方法を採って、露光スポットの曲率半径を大き
くすることにより、矩形に近い形状のピットＰが形成さ
れ、再生信号の立ち上がりが速くなると共に、再生信号
の変化が少なくなり、いわゆるジッタ特性が良好とな
る。
【００３８】また、上述の露光方法によれば、図１に示
した露光機３１のように、現在使用しているレーザ及び
光学部品をそのまま用いても、従来の限界よりパターン
の狭小化を図って高密度なパターンを形成することがで
きる。
した露光機３１のように、現在使用しているレーザ及び
光学部品をそのまま用いても、従来の限界よりパターン
の狭小化を図って高密度なパターンを形成することがで
きる。
【００３９】本発明の光ディスク原盤の露光方法は、上
述の例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱
しない範囲でその他様々な構成が取り得る。
述の例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱
しない範囲でその他様々な構成が取り得る。
【００４０】
【発明の効果】上述の本発明の露光方法によれば、現在
使用しているレーザ及び光学部品をそのまま用いて、従
来の限界と比較してパターンの狭小化を図り、より高密
度な露光パターンを形成することができる。従って、こ
の露光方法によりピットを形成すると、ピットの端部の
曲率半径は同じ状態でピットの幅が小さくなるため、ピ
ットの形状が矩形に近づき、光ディスクの再生信号の立
ち上がりが速くなる。
使用しているレーザ及び光学部品をそのまま用いて、従
来の限界と比較してパターンの狭小化を図り、より高密
度な露光パターンを形成することができる。従って、こ
の露光方法によりピットを形成すると、ピットの端部の
曲率半径は同じ状態でピットの幅が小さくなるため、ピ
ットの形状が矩形に近づき、光ディスクの再生信号の立
ち上がりが速くなる。
【００４１】また、２つの露光ビームの径を、形成すべ
きピットの幅より充分大としたときには、さらに矩形に
近い形状のピットを形成することができるため、原盤か
ら作製した光ディスクにおいて、立ち上がりの速い再生
信号を得ることができる。
きピットの幅より充分大としたときには、さらに矩形に
近い形状のピットを形成することができるため、原盤か
ら作製した光ディスクにおいて、立ち上がりの速い再生
信号を得ることができる。
【００４２】従って本発明により、光ディスクドライブ
の信号読みとりのためのスライスレベルが変動しても、
時間軸の変化が少ない、ジッタ特性の良好な光ディスク
を製造することができる。
の信号読みとりのためのスライスレベルが変動しても、
時間軸の変化が少ない、ジッタ特性の良好な光ディスク
を製造することができる。
【図１】本発明の光ディスク原盤の露光方法に用いる露
光装置の一例の構成図である。
光装置の一例の構成図である。
【図２】２つの露光ビームの露光スポットと形成される
ピットの幅との関係を説明する図である。 Ａ 露光スポットの重複部の割合が大きい場合である。 Ｂ 露光スポットの重複部の割合が小さい場合である。
ピットの幅との関係を説明する図である。 Ａ 露光スポットの重複部の割合が大きい場合である。 Ｂ 露光スポットの重複部の割合が小さい場合である。
【図３】２つの露光ビームの露光スポットと形成される
ピットの形状との関係を説明する図である。 Ａ 露光スポットの曲率半径が小さい場合である。 Ｂ 露光スポットの曲率半径が大きい場合である。
ピットの形状との関係を説明する図である。 Ａ 露光スポットの曲率半径が小さい場合である。 Ｂ 露光スポットの曲率半径が大きい場合である。
【図４】ピットの形状による再生信号の違いを示す図で
ある。 Ａ 従来のピット形状の場合である。 Ｂ 本発明の露光方法により形成されるピット形状の場
合である。
ある。 Ａ 従来のピット形状の場合である。 Ｂ 本発明の露光方法により形成されるピット形状の場
合である。
【図５】Ａ〜Ｆ 光ディスクの原盤の製造工程図であ
る。
る。
【図６】従来の単一露光ビームの場合の露光スポットと
形成されるピットとの関係を説明する図である。
形成されるピットとの関係を説明する図である。
３１ 露光機、３２ レーザ、３３ 対物レンズ、３４
エンコーダ（フォーマッタ）、４１，５１ ガラス基
板、４２，５２ フォトレジスト、４３，５４ガラス・
マスター、５３ レジスト盤、５５ ニッケルメッキ、
５６ 光ディスク原盤（スタンパー）、Ｌ１，Ｌ２，Ｌ
３，Ｌ４，Ｌ５ レンズ、ＢＳ１，ＢＳ２，ＢＳ３，Ｂ
Ｓ４ ビームスプリッタ、ＡＯＭ１，ＡＯＭ２ 音響光
学変調器、ＥＯＭ 電気光学変調器、Ｍ１，Ｍ２ ミラ
ー、ＢＳＴ ビームステアリング、ＳＰ，ＳＰ1 ，ＳＰ
2 露光スポット、Ｐ ピット
エンコーダ（フォーマッタ）、４１，５１ ガラス基
板、４２，５２ フォトレジスト、４３，５４ガラス・
マスター、５３ レジスト盤、５５ ニッケルメッキ、
５６ 光ディスク原盤（スタンパー）、Ｌ１，Ｌ２，Ｌ
３，Ｌ４，Ｌ５ レンズ、ＢＳ１，ＢＳ２，ＢＳ３，Ｂ
Ｓ４ ビームスプリッタ、ＡＯＭ１，ＡＯＭ２ 音響光
学変調器、ＥＯＭ 電気光学変調器、Ｍ１，Ｍ２ ミラ
ー、ＢＳＴ ビームステアリング、ＳＰ，ＳＰ1 ，ＳＰ
2 露光スポット、Ｐ ピット
Claims (1)
- 【請求項１】 光ディスクの原盤作製工程中の露光工程
において、 ２つの露光ビームを進行方向に重ね合わせて露光し、２
つの該露光ビームの各照射スポットが重複する部分を感
光させて露光パターンを形成することを特徴とする光デ
ィスク原盤の露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9117072A JPH10308033A (ja) | 1997-05-07 | 1997-05-07 | 光ディスク原盤の露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9117072A JPH10308033A (ja) | 1997-05-07 | 1997-05-07 | 光ディスク原盤の露光方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10308033A true JPH10308033A (ja) | 1998-11-17 |
Family
ID=14702725
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9117072A Pending JPH10308033A (ja) | 1997-05-07 | 1997-05-07 | 光ディスク原盤の露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10308033A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010049757A (ja) * | 2008-08-22 | 2010-03-04 | Sony Corp | 光情報記録媒体、光情報記録装置及び光情報記録方法 |
| JP2011170969A (ja) * | 2011-06-06 | 2011-09-01 | Sony Corp | 光情報記録媒体 |
| US8107331B2 (en) | 2007-12-28 | 2012-01-31 | Sony Corporation | Optical disk apparatus, position control method, and optical pickup |
| US8274875B2 (en) | 2008-05-26 | 2012-09-25 | Sony Corporation | Optical disc device and focus control method |
| US8345521B2 (en) | 2008-07-31 | 2013-01-01 | Sony Corporation | Optical disc apparatus and signal generation method |
-
1997
- 1997-05-07 JP JP9117072A patent/JPH10308033A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8107331B2 (en) | 2007-12-28 | 2012-01-31 | Sony Corporation | Optical disk apparatus, position control method, and optical pickup |
| US8274875B2 (en) | 2008-05-26 | 2012-09-25 | Sony Corporation | Optical disc device and focus control method |
| US8345521B2 (en) | 2008-07-31 | 2013-01-01 | Sony Corporation | Optical disc apparatus and signal generation method |
| JP2010049757A (ja) * | 2008-08-22 | 2010-03-04 | Sony Corp | 光情報記録媒体、光情報記録装置及び光情報記録方法 |
| US8102742B2 (en) | 2008-08-22 | 2012-01-24 | Sony Corporation | Optical information recording medium, optical information recordng apparatus, and optical information recording method |
| US8576681B2 (en) | 2008-08-22 | 2013-11-05 | Sony Corporation | Optical information recording medium, optical information recording apparatus and optical information recording method |
| JP2011170969A (ja) * | 2011-06-06 | 2011-09-01 | Sony Corp | 光情報記録媒体 |
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