JPH0120312Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0120312Y2 JPH0120312Y2 JP1982049520U JP4952082U JPH0120312Y2 JP H0120312 Y2 JPH0120312 Y2 JP H0120312Y2 JP 1982049520 U JP1982049520 U JP 1982049520U JP 4952082 U JP4952082 U JP 4952082U JP H0120312 Y2 JPH0120312 Y2 JP H0120312Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- valve
- container
- spool
- filling
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Filling Of Jars Or Cans And Processes For Cleaning And Sealing Jars (AREA)
- Lift Valve (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本考案はガス詰め充填装置に関する。
「従来の技術」
従来、ガス詰め充填装置として、密封した容器
内に充填液を注入した後に、その容器内の残存空
間に充填液タンク内の圧力より高い圧力のガス例
えば炭酸ガスを供給し、容器内に余剰に充填され
た充填液を、充填液の充填時に容器内のガスを充
填液タンクに逃がすガス排出管を介してその充填
液タンクに排出させ、容器内の液面高さを上記ガ
ス排出管の下端の高さに一致させるようにしたも
のが知られている。この種の充填装置では上述の
高圧ガスを供給し又は供給を停止するためにガス
供給弁を備えており、従来のガス供給弁は、通
常、ハウジングにスプールを摺動自在に嵌合し、
その一端に上記ガス通路の連通、遮断を行う弁体
を設け、他端をハウジング外部に突出させて、そ
の外部よりの開閉操作が行なえるようにしてい
る。
内に充填液を注入した後に、その容器内の残存空
間に充填液タンク内の圧力より高い圧力のガス例
えば炭酸ガスを供給し、容器内に余剰に充填され
た充填液を、充填液の充填時に容器内のガスを充
填液タンクに逃がすガス排出管を介してその充填
液タンクに排出させ、容器内の液面高さを上記ガ
ス排出管の下端の高さに一致させるようにしたも
のが知られている。この種の充填装置では上述の
高圧ガスを供給し又は供給を停止するためにガス
供給弁を備えており、従来のガス供給弁は、通
常、ハウジングにスプールを摺動自在に嵌合し、
その一端に上記ガス通路の連通、遮断を行う弁体
を設け、他端をハウジング外部に突出させて、そ
の外部よりの開閉操作が行なえるようにしてい
る。
「考案が解決しようとする課題」
しかるに、かかる構成のガス供給弁では、高圧
ガスがハウジングとスプールとの摺動部から外部
に逃げるのを防止するためにOリングの如きシー
ル部材を設けなければならず、高圧ガスの逃げを
完全に防止するためにそのシール部材のシール圧
を大きくするとスプールの摺動抵抗が大きくな
り、特に戻り作動に時間がかかつて結果的に充填
装置の小型化を阻害する要因となり、時には戻り
作動が不完全になつて、正常な充填を阻害するこ
とがあつた。また上記摺動部は直接ガス通路に臨
んでいることから、摺動によつて摩耗粉が生じる
とそのガス通路を介して充填液中に混入する虞れ
があつた。
ガスがハウジングとスプールとの摺動部から外部
に逃げるのを防止するためにOリングの如きシー
ル部材を設けなければならず、高圧ガスの逃げを
完全に防止するためにそのシール部材のシール圧
を大きくするとスプールの摺動抵抗が大きくな
り、特に戻り作動に時間がかかつて結果的に充填
装置の小型化を阻害する要因となり、時には戻り
作動が不完全になつて、正常な充填を阻害するこ
とがあつた。また上記摺動部は直接ガス通路に臨
んでいることから、摺動によつて摩耗粉が生じる
とそのガス通路を介して充填液中に混入する虞れ
があつた。
「課題を解決するための手段」
本考案はこのような事情に鑑み、充填液を貯溜
する充填液タンクと、容器の口部を密封するシー
ル部材と、このシール部材で密封した容器内に上
記充填液を充填する液通路と、上記容器内のガス
を排出するガス排出管と、高圧ガスの供給源と連
通して容器内に高圧ガスを供給するガス通路と、
このガス通路を開閉するガス供給弁とを備えたガ
ス詰め充填装置において、上記ガス供給弁を、上
記ガス通路の途中に設けたこれを囲む環状の弁座
と、一端部を上記弁座に遊嵌貫通させるととも
に、他端部をハウジングに摺動自在に嵌合したス
プールと、このスプールに設けられ、上記ガス通
路の下流側から上記弁座に着座してガス通路を閉
鎖する弁体と、上記弁座よりも上流側位置におい
て上記スプールとハウジングとの間に張設され、
上記スプールとハウジングとの摺動部をガス通路
から隔離するダイアフラムとから構成し、さら
に、上記ダイアフラムの受圧面積を弁体の受圧面
積よりも大きく設定し、それら受圧面積差により
上記スプールを弁体が弁座に着座する方向に付勢
したことを特徴とするガス詰め充填装置を提供す
るものである。
する充填液タンクと、容器の口部を密封するシー
ル部材と、このシール部材で密封した容器内に上
記充填液を充填する液通路と、上記容器内のガス
を排出するガス排出管と、高圧ガスの供給源と連
通して容器内に高圧ガスを供給するガス通路と、
このガス通路を開閉するガス供給弁とを備えたガ
ス詰め充填装置において、上記ガス供給弁を、上
記ガス通路の途中に設けたこれを囲む環状の弁座
と、一端部を上記弁座に遊嵌貫通させるととも
に、他端部をハウジングに摺動自在に嵌合したス
プールと、このスプールに設けられ、上記ガス通
路の下流側から上記弁座に着座してガス通路を閉
鎖する弁体と、上記弁座よりも上流側位置におい
て上記スプールとハウジングとの間に張設され、
上記スプールとハウジングとの摺動部をガス通路
から隔離するダイアフラムとから構成し、さら
に、上記ダイアフラムの受圧面積を弁体の受圧面
積よりも大きく設定し、それら受圧面積差により
上記スプールを弁体が弁座に着座する方向に付勢
したことを特徴とするガス詰め充填装置を提供す
るものである。
「作用」
このような構成によれば、上記ダイアフラムに
よつてスプールとハウジングの摺動部をガス通路
から確実に隔離することができるので、上記摺動
部で発生する摩耗粉がガス通路に混入することを
防止することができる。
よつてスプールとハウジングの摺動部をガス通路
から確実に隔離することができるので、上記摺動
部で発生する摩耗粉がガス通路に混入することを
防止することができる。
また、上記摺動部にOリングのようなシール部
材を設ける必要性をなくして、スプールの摺動抵
抗を低減させることができるとともに、上記ダイ
アフラムの受圧面積を弁体の受圧面積よりも大き
くしているので、上記スプールは常に弁体が弁座
に着座する作動復帰方向に付勢されるようにな
り、したがつて、従来に比較してスプールの戻り
時間を短縮化することができる。
材を設ける必要性をなくして、スプールの摺動抵
抗を低減させることができるとともに、上記ダイ
アフラムの受圧面積を弁体の受圧面積よりも大き
くしているので、上記スプールは常に弁体が弁座
に着座する作動復帰方向に付勢されるようにな
り、したがつて、従来に比較してスプールの戻り
時間を短縮化することができる。
「実施例」
以下図示実施例について本考案を説明すると、
図において、1は回転式ガス詰め充填装置の充填
液タンク、2はこの充填液タンク1の外周部分に
等間隔に設けた複数の充填ノズル、3は各充填ノ
ズル2毎に設けた容器案内部材で、各容器案内部
材3は図示しない昇降ロツドにより充填液タンク
1に昇降自在に設けている。また、4はガス通路
5を開閉するガス供給弁、6はスニフト弁であ
る。
図において、1は回転式ガス詰め充填装置の充填
液タンク、2はこの充填液タンク1の外周部分に
等間隔に設けた複数の充填ノズル、3は各充填ノ
ズル2毎に設けた容器案内部材で、各容器案内部
材3は図示しない昇降ロツドにより充填液タンク
1に昇降自在に設けている。また、4はガス通路
5を開閉するガス供給弁、6はスニフト弁であ
る。
上記充填ノズル2は充填液タンク1の底面に取
付けたハウジング7、このハウジング7の上部か
ら充填液タンク1の底部を貫通して充填液タンク
内上方に延びる筒状部材8、この筒状部材8の上
部に摺動自在に嵌合した摺動部材9、およびこの
摺動部材9に取付けたガス排出管10を備え、こ
のガス排出管10の途中に液バルブ11を設けて
これを上記ハウジング7に一体に形成した弁座1
2にその上方から対向させている。自由状態では
摺動部材9およびガス排出管10はばね13によ
り上方に移動されて上記液バルブ11を開いてお
り、またガス排出管10の上方に摺動自在に設け
たチヤージングバルブ14もこれとガス排出管1
0との間に弾装したばね15によつて上方に移動
され、ガス排出管10内と充填液タンク1内とを
ポート16を介して連通させている。他方、チヤ
ージングバルブ14の上部に設けた逆止弁17の
弁体18は自重により弁座19に着座し、充填液
タンク1内とガス排出管10内とを連通するポー
ト20を閉じている。
付けたハウジング7、このハウジング7の上部か
ら充填液タンク1の底部を貫通して充填液タンク
内上方に延びる筒状部材8、この筒状部材8の上
部に摺動自在に嵌合した摺動部材9、およびこの
摺動部材9に取付けたガス排出管10を備え、こ
のガス排出管10の途中に液バルブ11を設けて
これを上記ハウジング7に一体に形成した弁座1
2にその上方から対向させている。自由状態では
摺動部材9およびガス排出管10はばね13によ
り上方に移動されて上記液バルブ11を開いてお
り、またガス排出管10の上方に摺動自在に設け
たチヤージングバルブ14もこれとガス排出管1
0との間に弾装したばね15によつて上方に移動
され、ガス排出管10内と充填液タンク1内とを
ポート16を介して連通させている。他方、チヤ
ージングバルブ14の上部に設けた逆止弁17の
弁体18は自重により弁座19に着座し、充填液
タンク1内とガス排出管10内とを連通するポー
ト20を閉じている。
上記チヤージングバルブ14には図示しないシ
フタレバーが連動し、このシフタレバーは充填液
タンク外に突出して外部からチヤージングバルブ
14を作動させることができるようになつてい
る。シフタレバーによりチヤージングバルブ14
が降下されてその弁体21がガス排出管10の上
端に着座されると上記逆止弁17とともにガス排
出管10内と充填液タンク1内との連通を遮断
し、更にチヤージングバルブ14とガス排出管1
0がその状態のまま上記シフタレバーにより降下
されると、ガス排出管10に設けた液バルブ11
が弁座12に着座して液通路22を閉じる。
フタレバーが連動し、このシフタレバーは充填液
タンク外に突出して外部からチヤージングバルブ
14を作動させることができるようになつてい
る。シフタレバーによりチヤージングバルブ14
が降下されてその弁体21がガス排出管10の上
端に着座されると上記逆止弁17とともにガス排
出管10内と充填液タンク1内との連通を遮断
し、更にチヤージングバルブ14とガス排出管1
0がその状態のまま上記シフタレバーにより降下
されると、ガス排出管10に設けた液バルブ11
が弁座12に着座して液通路22を閉じる。
他方、上記ガス供給弁4はハウジング7に摺動
自在に設けたスプール25とこれに設けた弁体2
6、およびハウジング7と一体の弁座27とを備
え、通常はばね28により附勢されて弁体26を
弁座に着座させ、ガス通路5を閉じている。この
ガス通路5の上流は上記充填液タンク1内に供給
されるガス圧よりも高圧のガス供給源に連通し、
下流は上記液バルブ11よりも下流側の液通路2
2内に連通している。またスニフト弁6もスプー
ル29、弁体30、弁座31およびばね32を備
え、通常は上記液バルブ11よりも下流側の液通
路22と大気間の連通を遮断している。
自在に設けたスプール25とこれに設けた弁体2
6、およびハウジング7と一体の弁座27とを備
え、通常はばね28により附勢されて弁体26を
弁座に着座させ、ガス通路5を閉じている。この
ガス通路5の上流は上記充填液タンク1内に供給
されるガス圧よりも高圧のガス供給源に連通し、
下流は上記液バルブ11よりも下流側の液通路2
2内に連通している。またスニフト弁6もスプー
ル29、弁体30、弁座31およびばね32を備
え、通常は上記液バルブ11よりも下流側の液通
路22と大気間の連通を遮断している。
図示しない容器が図示しない壜台テーブルによ
つて上昇されてその口部が下方位置に位置してい
る容器案内部材3のガイドコーン35に挿入され
るとこのガイドコーン35によつて充填ノズル2
にセンタリングされる。そして容器の口部がシー
ル部材36に当接した状態で更にその容器案内部
材3とともに上昇されてシール部材36の上面が
ハウジング7の下面に当接すると容器の上昇が停
止される。この状態では、容器は上記シール部材
36によつて大気と遮断されている。
つて上昇されてその口部が下方位置に位置してい
る容器案内部材3のガイドコーン35に挿入され
るとこのガイドコーン35によつて充填ノズル2
にセンタリングされる。そして容器の口部がシー
ル部材36に当接した状態で更にその容器案内部
材3とともに上昇されてシール部材36の上面が
ハウジング7の下面に当接すると容器の上昇が停
止される。この状態では、容器は上記シール部材
36によつて大気と遮断されている。
この状態となると、充填液タンク1と一体的に
回転するガス供給弁4のスプール25がその移動
軌跡の途中に設けた固定カムに係合して第1図右
方向に移動され、ガス通路5を開く。すると、図
示しないガス供給源からのガスはガス通路5およ
び液通路22を介して容器内に流入し、更にガス
排出管10を流通し充填液タンク1内のガス圧に
抗して逆止弁17を押し開き、その充填液タンク
1内に流入する。次いで、ガス供給弁4が閉じら
れ、次に前記シフタレバーが作動して上記チヤー
ジングバルブ14の下方への押圧力を解放すると
ばね15によつてチヤージングバルブ14がガス
排出管10に対して上方に移動し、ポート16を
開放して容器内圧力と充填液タンク内の圧力とを
平衡させる。これと略同時に、ガス排出管10も
ばね13により上昇して液バルブ11を開かせ、
充填液タンク1内の充填液を液通路22を介して
容器内に充填する。
回転するガス供給弁4のスプール25がその移動
軌跡の途中に設けた固定カムに係合して第1図右
方向に移動され、ガス通路5を開く。すると、図
示しないガス供給源からのガスはガス通路5およ
び液通路22を介して容器内に流入し、更にガス
排出管10を流通し充填液タンク1内のガス圧に
抗して逆止弁17を押し開き、その充填液タンク
1内に流入する。次いで、ガス供給弁4が閉じら
れ、次に前記シフタレバーが作動して上記チヤー
ジングバルブ14の下方への押圧力を解放すると
ばね15によつてチヤージングバルブ14がガス
排出管10に対して上方に移動し、ポート16を
開放して容器内圧力と充填液タンク内の圧力とを
平衡させる。これと略同時に、ガス排出管10も
ばね13により上昇して液バルブ11を開かせ、
充填液タンク1内の充填液を液通路22を介して
容器内に充填する。
容器内に充填された充填液の液面がガス排出管
10の下端に至ると容器内のガスの排出が止ま
り、弁座12と阻止部材46との間で液の流入が
停止する。このとき、既に弁座12から下流側の
流通路22内に流入していた液は容器内に落下し
て充填が終了する。また、ガス排出管10内には
充填液タンク1内の充填液のヘツド圧分だけ充填
液が流入する。この状態となると、上記シフタレ
バーによりチヤージングバルブ14が降下され、
前述したようにポート16および液通路22を閉
じさせる。
10の下端に至ると容器内のガスの排出が止ま
り、弁座12と阻止部材46との間で液の流入が
停止する。このとき、既に弁座12から下流側の
流通路22内に流入していた液は容器内に落下し
て充填が終了する。また、ガス排出管10内には
充填液タンク1内の充填液のヘツド圧分だけ充填
液が流入する。この状態となると、上記シフタレ
バーによりチヤージングバルブ14が降下され、
前述したようにポート16および液通路22を閉
じさせる。
次に、再びガス供給弁4が開かれてガス通路5
および液通路22を介して高圧のガスが容器内に
供給されると、このガスはガス排出管10の下端
より上昇している容器内の充填液およびガス排出
管10内の充填液を逆止弁17を介して充填液タ
ンク1内に排出させ、容器内の液面高さをガス排
出管10の下端の高さに一致させる。そしてガス
供給弁4が閉じられるとスニフト弁6のスプール
29が右行されて弁体30を弁座31より離隔さ
せ、容器内のガスをその間隙およびスプール29
とハウジング7との間隙を介して徐々に大気中に
放出し、容器内の圧力を低下させる。この後、充
填の完了した容器は壜台テーブルの降下によつて
降下され、充填ノズル2の直下位置から外部に搬
出される。
および液通路22を介して高圧のガスが容器内に
供給されると、このガスはガス排出管10の下端
より上昇している容器内の充填液およびガス排出
管10内の充填液を逆止弁17を介して充填液タ
ンク1内に排出させ、容器内の液面高さをガス排
出管10の下端の高さに一致させる。そしてガス
供給弁4が閉じられるとスニフト弁6のスプール
29が右行されて弁体30を弁座31より離隔さ
せ、容器内のガスをその間隙およびスプール29
とハウジング7との間隙を介して徐々に大気中に
放出し、容器内の圧力を低下させる。この後、充
填の完了した容器は壜台テーブルの降下によつて
降下され、充填ノズル2の直下位置から外部に搬
出される。
然して、前述したように従来のガス供給弁4
は、想像線で示すように、ハウジング7とスプー
ル25との間にOリング40を設けていたために
摩耗粉や摺動抵抗等の問題が生じていたが、本考
案ではハウジング7とスプール25との間にダイ
アフラム41を設けてそのような問題を解決して
いる。図示実施例では、ハウジング7に穿設した
孔42内に筒状部材43を嵌合してその先方円錐
面を上記弁座27とし、スプール25はその筒状
部材43を遊嵌貫通させて上記弁座27に先方側
から着座する弁体26を設けている。そして上記
ガス通路5の一部を、筒状部材43に形成した半
径方向の孔44、筒状部材43の内面とスプール
25の外面との間隙、および上記弁体26と弁座
27との間隙から構成している。
は、想像線で示すように、ハウジング7とスプー
ル25との間にOリング40を設けていたために
摩耗粉や摺動抵抗等の問題が生じていたが、本考
案ではハウジング7とスプール25との間にダイ
アフラム41を設けてそのような問題を解決して
いる。図示実施例では、ハウジング7に穿設した
孔42内に筒状部材43を嵌合してその先方円錐
面を上記弁座27とし、スプール25はその筒状
部材43を遊嵌貫通させて上記弁座27に先方側
から着座する弁体26を設けている。そして上記
ガス通路5の一部を、筒状部材43に形成した半
径方向の孔44、筒状部材43の内面とスプール
25の外面との間隙、および上記弁体26と弁座
27との間隙から構成している。
上記ダイアフラム41の内周部はスプール25
に形成した円周方向の環状溝に嵌着してその部分
の気密を保持し、またダイアフラム41の外周部
は上記ハウジング7に螺着されてスプール25を
摺動自在に支持するブツシング45に挟着されて
その部分の気密を保持している。そして上記弁体
26とダイアフラム41とのそれぞれのガス供給
源側の受圧面積はダイアフラム41側を若干大き
く設定し、スプール25を常に弁体26が弁座2
7に着座する作動復帰方向に附勢している。
に形成した円周方向の環状溝に嵌着してその部分
の気密を保持し、またダイアフラム41の外周部
は上記ハウジング7に螺着されてスプール25を
摺動自在に支持するブツシング45に挟着されて
その部分の気密を保持している。そして上記弁体
26とダイアフラム41とのそれぞれのガス供給
源側の受圧面積はダイアフラム41側を若干大き
く設定し、スプール25を常に弁体26が弁座2
7に着座する作動復帰方向に附勢している。
このような構成においては、スプール25の摺
動部に従来のようにOリング40を設ける必要が
ないため摺動抵抗が小さく、加えてダイアフラム
41によりスプール25が常に作動復帰方向に附
勢されているためスプール25の戻り作動が迅速
かつ確実となり、したがつてその戻り作動に要す
る時間を小さくした分、充填装置の小型化を図る
ことができる。またスプール25とブツシング4
5との摺動部分が上記ダイアフラム41によつて
ガス通路5と完全に隔離されているので、万一そ
の摺動部分に摩耗粉が生じてもこれがガス通路5
内に浸入して充填液内に混入するという虞れは皆
無となる。
動部に従来のようにOリング40を設ける必要が
ないため摺動抵抗が小さく、加えてダイアフラム
41によりスプール25が常に作動復帰方向に附
勢されているためスプール25の戻り作動が迅速
かつ確実となり、したがつてその戻り作動に要す
る時間を小さくした分、充填装置の小型化を図る
ことができる。またスプール25とブツシング4
5との摺動部分が上記ダイアフラム41によつて
ガス通路5と完全に隔離されているので、万一そ
の摺動部分に摩耗粉が生じてもこれがガス通路5
内に浸入して充填液内に混入するという虞れは皆
無となる。
「考案の効果」
以上のように、本考案によればスプールの摺動
抵抗を小さくすることができるので、その作動が
高速、円滑となり、しかも摺動部分に摩耗粉が生
じても充填液の中に摩耗粉が混入することを防止
することできるという効果が得られる。
抵抗を小さくすることができるので、その作動が
高速、円滑となり、しかも摺動部分に摩耗粉が生
じても充填液の中に摩耗粉が混入することを防止
することできるという効果が得られる。
図は本考案の一実施例を示す縦断面図である。
1……充填液タンク、2……充填ノズル、4…
…ガス供給弁、5……ガス通路、7……ハウジン
グ、10……ガス排出管、22……液通路、25
……スプール、26……弁体、27……弁座、4
1……ダイアフラム。
…ガス供給弁、5……ガス通路、7……ハウジン
グ、10……ガス排出管、22……液通路、25
……スプール、26……弁体、27……弁座、4
1……ダイアフラム。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 充填液を貯溜する充填液タンクと、容器の口部
を密封するシール部材と、このシール部材で密封
した容器内に上記充填液を充填する液通路と、上
記容器内のガスを排出するガス排出管と、高圧ガ
スの供給源と連通して容器内に高圧ガスを供給す
るガス通路と、このガス通路を開閉するガス供給
弁とを備えたガス詰め充填装置において、 上記ガス供給弁を、上記ガス通路の途中に設け
たこれを囲む環状の弁座と、一端部を上記弁座に
遊嵌貫通させるとともに、他端部をハウジングに
摺動自在に嵌合したスプールと、このスプールに
設けられ、上記ガス通路の下流側から上記弁座に
着座してガス通路を閉鎖する弁体と、上記弁座よ
りも上流側位置において上記スプールとハウジン
グとの間に張設され、上記スプールとハウジング
との摺動部をガス通路から隔離するダイアフラム
とから構成し、さらに、上記ダイアフラムの受圧
面積を弁体の受圧面積よりも大きく設定し、それ
ら受圧面積差により上記スプールを弁体が弁座に
着座する方向に付勢したことを特徴とするガス詰
め充填装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4952082U JPS58151791U (ja) | 1982-04-06 | 1982-04-06 | ガス詰め充填装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4952082U JPS58151791U (ja) | 1982-04-06 | 1982-04-06 | ガス詰め充填装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58151791U JPS58151791U (ja) | 1983-10-11 |
| JPH0120312Y2 true JPH0120312Y2 (ja) | 1989-06-15 |
Family
ID=30060368
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4952082U Granted JPS58151791U (ja) | 1982-04-06 | 1982-04-06 | ガス詰め充填装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58151791U (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008105699A (ja) * | 2006-10-25 | 2008-05-08 | Shibuya Kogyo Co Ltd | 充填バルブ |
-
1982
- 1982-04-06 JP JP4952082U patent/JPS58151791U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58151791U (ja) | 1983-10-11 |
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