JPH01205441A - 半導体素子ウェハーの切削分割装置用ステージ - Google Patents
半導体素子ウェハーの切削分割装置用ステージInfo
- Publication number
- JPH01205441A JPH01205441A JP63029170A JP2917088A JPH01205441A JP H01205441 A JPH01205441 A JP H01205441A JP 63029170 A JP63029170 A JP 63029170A JP 2917088 A JP2917088 A JP 2917088A JP H01205441 A JPH01205441 A JP H01205441A
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- JP
- Japan
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- stage
- vacuum
- wafer
- semiconductor element
- cutting
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- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 23
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 34
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 10
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 4
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
- Dicing (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Jigs For Machine Tools (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体ウェハーを切削分割する装置、特に半導
体素子ウェハー(以下ウエノ入−と呼、S:)を位置合
せし、切削分割(以下ダイシングと呼、3テ)する際に
ウェハーを真空吸着させるステージしこ関する。
体素子ウェハー(以下ウエノ入−と呼、S:)を位置合
せし、切削分割(以下ダイシングと呼、3テ)する際に
ウェハーを真空吸着させるステージしこ関する。
第2図(a)、(b)は従来のウェハーをダイシングす
る装置用ステージの一例を示す断面図である。
る装置用ステージの一例を示す断面図である。
第2図(a)に示すように、従来、半導体素子ウェハー
の切削分割装置7では、ウェハー1が粘着性シー1−2
に貼付られ、粘着固定リング治具9で固定されている。
の切削分割装置7では、ウェハー1が粘着性シー1−2
に貼付られ、粘着固定リング治具9で固定されている。
このウェハー1はウェハー吸着用ステージ13上に載せ
、位置決めされた後、真空孔4より真空吸引14シてシ
ー1〜2の全面をステージ13上に真空吸着し、その後
回転する砥石にてシー1へ2上のウェハー1にダイシン
グ10が行われる。
、位置決めされた後、真空孔4より真空吸引14シてシ
ー1〜2の全面をステージ13上に真空吸着し、その後
回転する砥石にてシー1へ2上のウェハー1にダイシン
グ10が行われる。
ダイシング10が完了した粘着性シー1−2上のウェハ
ー1は、ウェハー吸着用ステージ13より真空吸引14
を解除し、粘着固定リング治具9に保持したまま、第2
図(b)に示すように離脱される。
ー1は、ウェハー吸着用ステージ13より真空吸引14
を解除し、粘着固定リング治具9に保持したまま、第2
図(b)に示すように離脱される。
しかし、粘着性シート2はダイシング装置より離脱後、
時間の経過と共にダイシング10が完了したウェハー1
の重さにより、たわみ、伸される状態12になる。その
ために、ウェハー」からダイシングされて個々に分割さ
れた半導体素子チップ11のエツジ15が周囲の半導体
素子チップ11のエツジ15とが衝撃し合い、半導体素
子チップ]1にキズ、カケが発生する。
時間の経過と共にダイシング10が完了したウェハー1
の重さにより、たわみ、伸される状態12になる。その
ために、ウェハー」からダイシングされて個々に分割さ
れた半導体素子チップ11のエツジ15が周囲の半導体
素子チップ11のエツジ15とが衝撃し合い、半導体素
子チップ]1にキズ、カケが発生する。
また、半導体素子チップ11が半導体集積回路装置のパ
ッケージにダイボンディングされる製造過程までにさら
に半導体素子チップ11のエツジ15にキズ、カケが新
たに発生されるという欠点がある。
ッケージにダイボンディングされる製造過程までにさら
に半導体素子チップ11のエツジ15にキズ、カケが新
たに発生されるという欠点がある。
本発明の目的は前記課題を解決した切削分割装置のステ
ージを提供することにある。
ージを提供することにある。
]二述した従来のウェハーのダイシング・ステージに対
し、本発明は切削分割装置のウェハー吸着用ステージに
、シートに貼付したウェハーを真空吸着したまま次工程
のダイシング工程に搬送を可能としたという相違点を有
する。
し、本発明は切削分割装置のウェハー吸着用ステージに
、シートに貼付したウェハーを真空吸着したまま次工程
のダイシング工程に搬送を可能としたという相違点を有
する。
上記目的を達成するため、本発明の切削分割装置におい
ては、ウェハー吸着用ステージを装置本体から脱着可能
に二二ノ1〜化し、前記真空孔を真空源に接続する該ス
テージの接続部に、外部から操作される開閉弁を設けた
ものである。
ては、ウェハー吸着用ステージを装置本体から脱着可能
に二二ノ1〜化し、前記真空孔を真空源に接続する該ス
テージの接続部に、外部から操作される開閉弁を設けた
ものである。
以下、本発明の一実施例を図により説明する。
第1図において、ウェハー吸着用ステージ3を切削分割
装置本体7と別体に構成し、該ステージ3の下面に凸状
の嵌合部3aを設ける。一方、装置本体7の上面に凹状
の嵌合部7aを設け、凸状嵌合部3aを凹状嵌合部7a
に嵌合させてステージ3を装置本体7に脱着可能に装着
する。またステージ3及び装置本体7には位置決め用の
ピン8aとピン孔8bとが設けられている。
装置本体7と別体に構成し、該ステージ3の下面に凸状
の嵌合部3aを設ける。一方、装置本体7の上面に凹状
の嵌合部7aを設け、凸状嵌合部3aを凹状嵌合部7a
に嵌合させてステージ3を装置本体7に脱着可能に装着
する。またステージ3及び装置本体7には位置決め用の
ピン8aとピン孔8bとが設けられている。
また、ステージ3の」二面にはウェハー1を貼付したシ
ート2の全面を真空吸着する複数の真空孔4.4−を開
口し、各真空孔4を集束させて凸状の嵌合部3a内に設
けた真空路4aに接続する。一方、装置本体7の凹状嵌
合部7a内には図示しない真空源に連なる真空路7bが
ステージ3の真空路4aに接続可能な位置に設けである
。
ート2の全面を真空吸着する複数の真空孔4.4−を開
口し、各真空孔4を集束させて凸状の嵌合部3a内に設
けた真空路4aに接続する。一方、装置本体7の凹状嵌
合部7a内には図示しない真空源に連なる真空路7bが
ステージ3の真空路4aに接続可能な位置に設けである
。
さらに、ステージ3の真空路4aにはノブ6による外部
操作にて開閉する開閉弁5を設けである。
操作にて開閉する開閉弁5を設けである。
3一
実施例において、ステージ3の凸状嵌合部3aを装置本
体7の凹状嵌合部7aに装着し、ステージ3ど装置本体
7の真空路4a、7b同士を接続するとともに、ノブ6
により開閉弁5を開弁する。
体7の凹状嵌合部7aに装着し、ステージ3ど装置本体
7の真空路4a、7b同士を接続するとともに、ノブ6
により開閉弁5を開弁する。
次にウェハー1を貼付けた粘着シー1〜2をステージ3
上に載置し、図示しない真空源により真空路4a、 7
b及び真空孔4を介してシー1〜2の全面製真空吸着し
、ダイシング]0を行う。このウェハー吸着用ステージ
3はダイシンク終了後、ノブ6により開閉弁5を閉じて
装置本体7より離脱させる。
上に載置し、図示しない真空源により真空路4a、 7
b及び真空孔4を介してシー1〜2の全面製真空吸着し
、ダイシング]0を行う。このウェハー吸着用ステージ
3はダイシンク終了後、ノブ6により開閉弁5を閉じて
装置本体7より離脱させる。
本発明によれば、開閉弁5を閉じるので、ステージ3の
真空孔4内は真空状態に保持され、シー1〜2の全面は
ステージ2に真空吸着されたままとなる。
真空孔4内は真空状態に保持され、シー1〜2の全面は
ステージ2に真空吸着されたままとなる。
第1図(b)に示すように、ダイシング10が行われた
ウェハー1を保持するシー1−2はウェハー吸着用ステ
ージ3上に真空吸着され平面状に展開されたまま保持さ
れるために、粘着性シー1〜2はたるみ、伸ばされるこ
とがなくなり、半導体素子チップ11のエツジ15が周
囲の半導体素子チップ11の工ッジ15と衝撃し合うこ
ともなくなり、半導体素子チップ11にキズ、カケが発
生することがなくなる。
ウェハー1を保持するシー1−2はウェハー吸着用ステ
ージ3上に真空吸着され平面状に展開されたまま保持さ
れるために、粘着性シー1〜2はたるみ、伸ばされるこ
とがなくなり、半導体素子チップ11のエツジ15が周
囲の半導体素子チップ11の工ッジ15と衝撃し合うこ
ともなくなり、半導体素子チップ11にキズ、カケが発
生することがなくなる。
また、半導体素子チップ11は真空吸引】4された状態
で、かつ位置決め用ピン8aを備えであるウェハー吸着
用ステージ3上に載せであるために、別過程の装置への
位置決め装着が簡単にできる。
で、かつ位置決め用ピン8aを備えであるウェハー吸着
用ステージ3上に載せであるために、別過程の装置への
位置決め装着が簡単にできる。
以上説明したように本発明はダイシングされた半導体素
子チップをステージ上に平面状に展開したまま次工程に
送られることとなり、半導体素子チップにキズ、クラッ
クが発生することはなく、半導体装置の品質を向上でき
る効果がある。
子チップをステージ上に平面状に展開したまま次工程に
送られることとなり、半導体素子チップにキズ、クラッ
クが発生することはなく、半導体装置の品質を向上でき
る効果がある。
第1図(a)、 (b)は本発明のウェハーをダイシン
クする装置の一実施例を示す断面図、第2図(a)、(
b)は従来のウェハーをダイシングする装置を示す断面
図である。 1 ウェハー 2 粘着性シー1〜3・
・ウェハー吸着用ステージ 4・・・真空孔5・開閉弁
クする装置の一実施例を示す断面図、第2図(a)、(
b)は従来のウェハーをダイシングする装置を示す断面
図である。 1 ウェハー 2 粘着性シー1〜3・
・ウェハー吸着用ステージ 4・・・真空孔5・開閉弁
Claims (1)
- 1、半導体素子ウェハーを貼付たシートの全面を真空引
きする複数の真空孔を開口したウェハー吸着用ステージ
を有する半導体素子ウェハーの切削分割装置において、
ウェハー吸着用ステージを装置本体から脱着可能にユニ
ット化し、前記真空孔を真空源に接続する該ステージの
接続部に、外部から操作される開閉弁を設けたことを特
徴とする半導体素子ウェハーの切削分割装置用ステージ
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63029170A JPH01205441A (ja) | 1988-02-10 | 1988-02-10 | 半導体素子ウェハーの切削分割装置用ステージ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63029170A JPH01205441A (ja) | 1988-02-10 | 1988-02-10 | 半導体素子ウェハーの切削分割装置用ステージ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01205441A true JPH01205441A (ja) | 1989-08-17 |
Family
ID=12268766
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63029170A Pending JPH01205441A (ja) | 1988-02-10 | 1988-02-10 | 半導体素子ウェハーの切削分割装置用ステージ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01205441A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0639338U (ja) * | 1992-10-30 | 1994-05-24 | ユーエイチティー株式会社 | ワークホルダ |
| JPH0831772A (ja) * | 1994-07-15 | 1996-02-02 | Nec Corp | ダイシング装置 |
| US5738165A (en) * | 1993-05-07 | 1998-04-14 | Nikon Corporation | Substrate holding apparatus |
| US6202292B1 (en) * | 1998-08-26 | 2001-03-20 | Micron Technology, Inc. | Apparatus for removing carrier film from a semiconductor die |
-
1988
- 1988-02-10 JP JP63029170A patent/JPH01205441A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0639338U (ja) * | 1992-10-30 | 1994-05-24 | ユーエイチティー株式会社 | ワークホルダ |
| US5738165A (en) * | 1993-05-07 | 1998-04-14 | Nikon Corporation | Substrate holding apparatus |
| JPH0831772A (ja) * | 1994-07-15 | 1996-02-02 | Nec Corp | ダイシング装置 |
| US6202292B1 (en) * | 1998-08-26 | 2001-03-20 | Micron Technology, Inc. | Apparatus for removing carrier film from a semiconductor die |
| US6505395B1 (en) | 1998-08-26 | 2003-01-14 | Micron Technology, Inc. | Apparatus and method for removing carrier tape from a singulated die |
| US6658718B2 (en) | 1998-08-26 | 2003-12-09 | Micron Technology, Inc. | Method for removing carrier film from a singulated die |
| US6751853B2 (en) | 1998-08-26 | 2004-06-22 | Micron Technology, Inc. | Apparatus and system for removing carrier film from a singulated die |
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