JPH01205441A - 半導体素子ウェハーの切削分割装置用ステージ - Google Patents

半導体素子ウェハーの切削分割装置用ステージ

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Publication number
JPH01205441A
JPH01205441A JP63029170A JP2917088A JPH01205441A JP H01205441 A JPH01205441 A JP H01205441A JP 63029170 A JP63029170 A JP 63029170A JP 2917088 A JP2917088 A JP 2917088A JP H01205441 A JPH01205441 A JP H01205441A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
vacuum
wafer
semiconductor element
cutting
Prior art date
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Pending
Application number
JP63029170A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshio Ito
伊藤 好雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Yamaguchi Ltd
Original Assignee
NEC Yamaguchi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Yamaguchi Ltd filed Critical NEC Yamaguchi Ltd
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Publication of JPH01205441A publication Critical patent/JPH01205441A/ja
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  • Dicing (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体ウェハーを切削分割する装置、特に半導
体素子ウェハー(以下ウエノ入−と呼、S:)を位置合
せし、切削分割(以下ダイシングと呼、3テ)する際に
ウェハーを真空吸着させるステージしこ関する。
〔従来の技術〕
第2図(a)、(b)は従来のウェハーをダイシングす
る装置用ステージの一例を示す断面図である。
第2図(a)に示すように、従来、半導体素子ウェハー
の切削分割装置7では、ウェハー1が粘着性シー1−2
に貼付られ、粘着固定リング治具9で固定されている。
このウェハー1はウェハー吸着用ステージ13上に載せ
、位置決めされた後、真空孔4より真空吸引14シてシ
ー1〜2の全面をステージ13上に真空吸着し、その後
回転する砥石にてシー1へ2上のウェハー1にダイシン
グ10が行われる。
ダイシング10が完了した粘着性シー1−2上のウェハ
ー1は、ウェハー吸着用ステージ13より真空吸引14
を解除し、粘着固定リング治具9に保持したまま、第2
図(b)に示すように離脱される。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし、粘着性シート2はダイシング装置より離脱後、
時間の経過と共にダイシング10が完了したウェハー1
の重さにより、たわみ、伸される状態12になる。その
ために、ウェハー」からダイシングされて個々に分割さ
れた半導体素子チップ11のエツジ15が周囲の半導体
素子チップ11のエツジ15とが衝撃し合い、半導体素
子チップ]1にキズ、カケが発生する。
また、半導体素子チップ11が半導体集積回路装置のパ
ッケージにダイボンディングされる製造過程までにさら
に半導体素子チップ11のエツジ15にキズ、カケが新
たに発生されるという欠点がある。
本発明の目的は前記課題を解決した切削分割装置のステ
ージを提供することにある。
〔発明の従来技術に対する相違点〕
]二述した従来のウェハーのダイシング・ステージに対
し、本発明は切削分割装置のウェハー吸着用ステージに
、シートに貼付したウェハーを真空吸着したまま次工程
のダイシング工程に搬送を可能としたという相違点を有
する。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するため、本発明の切削分割装置におい
ては、ウェハー吸着用ステージを装置本体から脱着可能
に二二ノ1〜化し、前記真空孔を真空源に接続する該ス
テージの接続部に、外部から操作される開閉弁を設けた
ものである。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を図により説明する。
第1図において、ウェハー吸着用ステージ3を切削分割
装置本体7と別体に構成し、該ステージ3の下面に凸状
の嵌合部3aを設ける。一方、装置本体7の上面に凹状
の嵌合部7aを設け、凸状嵌合部3aを凹状嵌合部7a
に嵌合させてステージ3を装置本体7に脱着可能に装着
する。またステージ3及び装置本体7には位置決め用の
ピン8aとピン孔8bとが設けられている。
また、ステージ3の」二面にはウェハー1を貼付したシ
ート2の全面を真空吸着する複数の真空孔4.4−を開
口し、各真空孔4を集束させて凸状の嵌合部3a内に設
けた真空路4aに接続する。一方、装置本体7の凹状嵌
合部7a内には図示しない真空源に連なる真空路7bが
ステージ3の真空路4aに接続可能な位置に設けである
さらに、ステージ3の真空路4aにはノブ6による外部
操作にて開閉する開閉弁5を設けである。
3一 実施例において、ステージ3の凸状嵌合部3aを装置本
体7の凹状嵌合部7aに装着し、ステージ3ど装置本体
7の真空路4a、7b同士を接続するとともに、ノブ6
により開閉弁5を開弁する。
次にウェハー1を貼付けた粘着シー1〜2をステージ3
上に載置し、図示しない真空源により真空路4a、 7
b及び真空孔4を介してシー1〜2の全面製真空吸着し
、ダイシング]0を行う。このウェハー吸着用ステージ
3はダイシンク終了後、ノブ6により開閉弁5を閉じて
装置本体7より離脱させる。
本発明によれば、開閉弁5を閉じるので、ステージ3の
真空孔4内は真空状態に保持され、シー1〜2の全面は
ステージ2に真空吸着されたままとなる。
第1図(b)に示すように、ダイシング10が行われた
ウェハー1を保持するシー1−2はウェハー吸着用ステ
ージ3上に真空吸着され平面状に展開されたまま保持さ
れるために、粘着性シー1〜2はたるみ、伸ばされるこ
とがなくなり、半導体素子チップ11のエツジ15が周
囲の半導体素子チップ11の工ッジ15と衝撃し合うこ
ともなくなり、半導体素子チップ11にキズ、カケが発
生することがなくなる。
また、半導体素子チップ11は真空吸引】4された状態
で、かつ位置決め用ピン8aを備えであるウェハー吸着
用ステージ3上に載せであるために、別過程の装置への
位置決め装着が簡単にできる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明はダイシングされた半導体素
子チップをステージ上に平面状に展開したまま次工程に
送られることとなり、半導体素子チップにキズ、クラッ
クが発生することはなく、半導体装置の品質を向上でき
る効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)、 (b)は本発明のウェハーをダイシン
クする装置の一実施例を示す断面図、第2図(a)、(
b)は従来のウェハーをダイシングする装置を示す断面
図である。 1 ウェハー        2 粘着性シー1〜3・
・ウェハー吸着用ステージ 4・・・真空孔5・開閉弁

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、半導体素子ウェハーを貼付たシートの全面を真空引
    きする複数の真空孔を開口したウェハー吸着用ステージ
    を有する半導体素子ウェハーの切削分割装置において、
    ウェハー吸着用ステージを装置本体から脱着可能にユニ
    ット化し、前記真空孔を真空源に接続する該ステージの
    接続部に、外部から操作される開閉弁を設けたことを特
    徴とする半導体素子ウェハーの切削分割装置用ステージ
JP63029170A 1988-02-10 1988-02-10 半導体素子ウェハーの切削分割装置用ステージ Pending JPH01205441A (ja)

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JP63029170A JPH01205441A (ja) 1988-02-10 1988-02-10 半導体素子ウェハーの切削分割装置用ステージ

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JP63029170A JPH01205441A (ja) 1988-02-10 1988-02-10 半導体素子ウェハーの切削分割装置用ステージ

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JPH01205441A true JPH01205441A (ja) 1989-08-17

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ID=12268766

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JP63029170A Pending JPH01205441A (ja) 1988-02-10 1988-02-10 半導体素子ウェハーの切削分割装置用ステージ

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0639338U (ja) * 1992-10-30 1994-05-24 ユーエイチティー株式会社 ワークホルダ
JPH0831772A (ja) * 1994-07-15 1996-02-02 Nec Corp ダイシング装置
US5738165A (en) * 1993-05-07 1998-04-14 Nikon Corporation Substrate holding apparatus
US6202292B1 (en) * 1998-08-26 2001-03-20 Micron Technology, Inc. Apparatus for removing carrier film from a semiconductor die

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0639338U (ja) * 1992-10-30 1994-05-24 ユーエイチティー株式会社 ワークホルダ
US5738165A (en) * 1993-05-07 1998-04-14 Nikon Corporation Substrate holding apparatus
JPH0831772A (ja) * 1994-07-15 1996-02-02 Nec Corp ダイシング装置
US6202292B1 (en) * 1998-08-26 2001-03-20 Micron Technology, Inc. Apparatus for removing carrier film from a semiconductor die
US6505395B1 (en) 1998-08-26 2003-01-14 Micron Technology, Inc. Apparatus and method for removing carrier tape from a singulated die
US6658718B2 (en) 1998-08-26 2003-12-09 Micron Technology, Inc. Method for removing carrier film from a singulated die
US6751853B2 (en) 1998-08-26 2004-06-22 Micron Technology, Inc. Apparatus and system for removing carrier film from a singulated die

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