JPH01205541A - 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
樹脂封止型半導体装置及びその製造方法Info
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- JPH01205541A JPH01205541A JP63030111A JP3011188A JPH01205541A JP H01205541 A JPH01205541 A JP H01205541A JP 63030111 A JP63030111 A JP 63030111A JP 3011188 A JP3011188 A JP 3011188A JP H01205541 A JPH01205541 A JP H01205541A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、樹脂封止型半導体装置に関し、特に大型の半
導体チップを収納する技術に適用して有効な技術に関す
るものである。
導体チップを収納する技術に適用して有効な技術に関す
るものである。
樹脂封止型半導体装置においては、半導体チップの大型
に伴い、パッケージ側幅と半導体チップ取付部であるタ
ブとの間の寸法が一段と狭くなる傾向にある。これは、
半導体チップ(ペレット)が大きくなっているのに、こ
れを収納するパッケージのサイズが規格されているため
大きくすることができないことが起因している。
に伴い、パッケージ側幅と半導体チップ取付部であるタ
ブとの間の寸法が一段と狭くなる傾向にある。これは、
半導体チップ(ペレット)が大きくなっているのに、こ
れを収納するパッケージのサイズが規格されているため
大きくすることができないことが起因している。
そこで、半導体チップの回路形成面もしくはその近傍又
は非回路形成主面もしくはその近傍にリードを延在させ
た樹脂封止型半導体装置が提案さ゛れている(特公昭6
1−218139号公報参照)。
は非回路形成主面もしくはその近傍にリードを延在させ
た樹脂封止型半導体装置が提案さ゛れている(特公昭6
1−218139号公報参照)。
しかしなから、本発明者の横割によれば、前記樹脂封止
型半導体装置では、異なるパッケージで半導体チップを
共用しようとするとパン1〜配置が異なるため、ワイヤ
が交差してショー1〜するという問題があり、半導体チ
ップを別に作る必要があった・ 本発明のl」的は、半導体チップの主面上でタブレスリ
ードフレームのインナーリードと当該半導体チップ上の
バンドをボンディングワイヤで電気的に接続することが
できる技術を提供することにある。
型半導体装置では、異なるパッケージで半導体チップを
共用しようとするとパン1〜配置が異なるため、ワイヤ
が交差してショー1〜するという問題があり、半導体チ
ップを別に作る必要があった・ 本発明のl」的は、半導体チップの主面上でタブレスリ
ードフレームのインナーリードと当該半導体チップ上の
バンドをボンディングワイヤで電気的に接続することが
できる技術を提供することにある。
本発明の他の目的は、異なるパッケージで半導体チップ
髪共用することができる技術を提供することにある。
髪共用することができる技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。
明細書の記述及び添付図面によって明らかになるであろ
う。
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、樹脂封止型半導体装置において、半導体チッ
プの主面上に絶縁フィル11を設け、該絶縁フィルムの
上にタブレスリードフレームのインナーリードを配置し
、該インナーリードと当該半導体チップ−にのパッドを
ボンディングワイヤで電気的に接続したものであり、前
記ボンディングワイヤのループ高さを調整してボンディ
ングワイヤお交差させたものを含んだものである。
プの主面上に絶縁フィル11を設け、該絶縁フィルムの
上にタブレスリードフレームのインナーリードを配置し
、該インナーリードと当該半導体チップ−にのパッドを
ボンディングワイヤで電気的に接続したものであり、前
記ボンディングワイヤのループ高さを調整してボンディ
ングワイヤお交差させたものを含んだものである。
前述の手段によれば、タブレスリードフレームのインナ
ーリードを半導体チップの主面上に配置することにより
、リ−1へを配線層として利用することができるので、
半導体チップの所望の位置からインナーリートへのワイ
ヤボンディングができる。例えば、絶縁フィルムを層間
絶縁膜とし、リードを配線層と考え、スルーホール(コ
ンタク1−)をとれば、どこからでも配線を配設するこ
とがでj− きる。
ーリードを半導体チップの主面上に配置することにより
、リ−1へを配線層として利用することができるので、
半導体チップの所望の位置からインナーリートへのワイ
ヤボンディングができる。例えば、絶縁フィルムを層間
絶縁膜とし、リードを配線層と考え、スルーホール(コ
ンタク1−)をとれば、どこからでも配線を配設するこ
とがでj− きる。
また、半導体チップの主面上でワイヤボンディングする
ことにより、半導体チップの主面上には接続しても問題
のない絶縁フィルムとインナーリートがあるだけである
から、ボンディングワイヤ同志のショー1−のみに注意
すればよいので、半導体チップの端部とワイヤとのショ
ー1−(エリアショーI〜)は根本的になくすることが
できる。従って、ワイヤのループ高さのみを調整するこ
とで交差ワイヤボンディング(クロスワイヤボンディン
グ)も可能となり、異なる半導体チップを用いるしかな
かったスモール・アウトライン・ジエイベンド(以下、
SOJという)、ジグザグ・インライン・パッケージ(
Z I P)等のような異なるパッケージにおいても、
共通の半導体チップで交差ワイヤボンディングすること
により製作することができる。
ことにより、半導体チップの主面上には接続しても問題
のない絶縁フィルムとインナーリートがあるだけである
から、ボンディングワイヤ同志のショー1−のみに注意
すればよいので、半導体チップの端部とワイヤとのショ
ー1−(エリアショーI〜)は根本的になくすることが
できる。従って、ワイヤのループ高さのみを調整するこ
とで交差ワイヤボンディング(クロスワイヤボンディン
グ)も可能となり、異なる半導体チップを用いるしかな
かったスモール・アウトライン・ジエイベンド(以下、
SOJという)、ジグザグ・インライン・パッケージ(
Z I P)等のような異なるパッケージにおいても、
共通の半導体チップで交差ワイヤボンディングすること
により製作することができる。
また、ボンディングワイヤを低くかつ短くすることがで
き、封止樹脂の封止時の流れ方に対して平行にボンディ
ングすることも容易にすることができるので、ボンディ
ングワイヤの変形を低減することができる。
き、封止樹脂の封止時の流れ方に対して平行にボンディ
ングすることも容易にすることができるので、ボンディ
ングワイヤの変形を低減することができる。
以下、本発明の一実施例を図面を用いて具体的に説明す
る。
る。
なお、実施例を説明するための企図において、同一機能
を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は
省略する。
を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は
省略する。
第1図は、本発明をS OJ型パッケージの4メガビツ
ト・ダイナミック・ランダム・アクセス・メモリ(4M
DRAM)に適用した実施例の樹脂封止型半導体装置の
パッケージ内部の構造を説明するための平面図、 第2図は、第1図に示す4− M D RA MのII
−II線で切断した断面図、 第3図は、第1図に示す4− M D RA Mのm−
m線で切断した断面図である。
ト・ダイナミック・ランダム・アクセス・メモリ(4M
DRAM)に適用した実施例の樹脂封止型半導体装置の
パッケージ内部の構造を説明するための平面図、 第2図は、第1図に示す4− M D RA MのII
−II線で切断した断面図、 第3図は、第1図に示す4− M D RA Mのm−
m線で切断した断面図である。
本実施例の4− M D RA Mの半導体チップを搭
載した樹脂封止型半導体装置は、第]−図乃至第3図に
示すように、タブレスリードフレーム1の裏返した状態
のインナーリード部15の上に絶縁フィルAx 2を接
着剤3で接着し、この絶縁フィルム2の−1−に4 M
D RAMの半導体チップ4をその主面側を接着面と
してペレット付用熱硬化性接着剤4Aでペレット付けし
て、それを裏返し、インナーリード部15と半導体チッ
プ4とをボンディングワイヤ5で電気的に接続する。す
なわち、4− M D RAMの半導体チップ4の主面
の−にに絶縁フィルム2を介してタフレスリ−1くフレ
ーム1のインナーリード部15が配置されている。この
状態でレジン等の樹脂封止材6で封止した後、タブレス
リードフレーム1のアウターリード部14を所定形状に
加工したものである。そのパッケージの大きさは、短辺
の寸法は、7.62mm (300mj、])であり、
長辺の寸法は、] 66.9mm(675mj]、)で
ある。
載した樹脂封止型半導体装置は、第]−図乃至第3図に
示すように、タブレスリードフレーム1の裏返した状態
のインナーリード部15の上に絶縁フィルAx 2を接
着剤3で接着し、この絶縁フィルム2の−1−に4 M
D RAMの半導体チップ4をその主面側を接着面と
してペレット付用熱硬化性接着剤4Aでペレット付けし
て、それを裏返し、インナーリード部15と半導体チッ
プ4とをボンディングワイヤ5で電気的に接続する。す
なわち、4− M D RAMの半導体チップ4の主面
の−にに絶縁フィルム2を介してタフレスリ−1くフレ
ーム1のインナーリード部15が配置されている。この
状態でレジン等の樹脂封止材6で封止した後、タブレス
リードフレーム1のアウターリード部14を所定形状に
加工したものである。そのパッケージの大きさは、短辺
の寸法は、7.62mm (300mj、])であり、
長辺の寸法は、] 66.9mm(675mj]、)で
ある。
前記タブレスリードフレーム1は、第1図に示すように
、1枚の薄い(例えば0.25M1の厚さ)銅合金ある
いは鉄ニツケル合金(例えば50%Nj−Fe)からな
っている。
、1枚の薄い(例えば0.25M1の厚さ)銅合金ある
いは鉄ニツケル合金(例えば50%Nj−Fe)からな
っている。
前記半導体チップ4は、4MDRAMからなっており、
第4図に示すように、その中央部にはメモリマツI〜2
0が設けられ、そのX方向の中央部にはY軸に並行にY
デコーダ21がメモリマツ1〜20に沿って設けられ、
そのX方向の中央部にはX軸に並行にワードドライバ2
2及びXデコーダ23がメモリマット20に沿って設け
られている。
第4図に示すように、その中央部にはメモリマツI〜2
0が設けられ、そのX方向の中央部にはY軸に並行にY
デコーダ21がメモリマツ1〜20に沿って設けられ、
そのX方向の中央部にはX軸に並行にワードドライバ2
2及びXデコーダ23がメモリマット20に沿って設け
られている。
また、長手方向の一端部には、それぞれRAS系回路2
4、CAS系・WE系回路25及びX、Yアドレスバッ
ファ26が設けられ、その内側にメインアンプ27が設
けられ、隅部にはD outバッファ28が設けられて
いる。他端にはRAS系回路24、Xアドレスバッファ
29、Xジェネレータ30、X、Yジェネレータ31、
Yアドレスバッファ32及び5HR−PCジェネレータ
33が設番づられている。また、短手方向の右側端部に
はセンスアンプ・コモン入出力・コモンソース34が設
けられ、左側端部の上端部にはメモリマット20の上端
子20Aが設けられ、下端部にはメモリマット20の下
端子20Bが設けられている。
4、CAS系・WE系回路25及びX、Yアドレスバッ
ファ26が設けられ、その内側にメインアンプ27が設
けられ、隅部にはD outバッファ28が設けられて
いる。他端にはRAS系回路24、Xアドレスバッファ
29、Xジェネレータ30、X、Yジェネレータ31、
Yアドレスバッファ32及び5HR−PCジェネレータ
33が設番づられている。また、短手方向の右側端部に
はセンスアンプ・コモン入出力・コモンソース34が設
けられ、左側端部の上端部にはメモリマット20の上端
子20Aが設けられ、下端部にはメモリマット20の下
端子20Bが設けられている。
そして、第5図に示すように、前記半導体チッ7一
ブ4に設けられている各素子の電極(パッド)A1−A
IO1電極(パッド)Din、WE、RAS、 NC,
Vs S 、 Q (Dout)、 CA、S及び電極
(パラl−’)Pi〜P3は、半導体チップ4の長手方
向の両端部に設けられている。AO−AIOは信号線ボ
ンディング用パッド、Dinはデータ入力信号用バット
、WEはCAS系・WE系回路25のWE回路のバット
、RASはRAS系回路24のパラ1−1VssはVs
s電源用パッド、l101−l104はD outバッ
ファ28の用パッド、CASはCAS系・WE系回路2
5のCAS系回路の、パッドであり、P1〜P3はプロ
ーブテスト用パッドである。
IO1電極(パッド)Din、WE、RAS、 NC,
Vs S 、 Q (Dout)、 CA、S及び電極
(パラl−’)Pi〜P3は、半導体チップ4の長手方
向の両端部に設けられている。AO−AIOは信号線ボ
ンディング用パッド、Dinはデータ入力信号用バット
、WEはCAS系・WE系回路25のWE回路のバット
、RASはRAS系回路24のパラ1−1VssはVs
s電源用パッド、l101−l104はD outバッ
ファ28の用パッド、CASはCAS系・WE系回路2
5のCAS系回路の、パッドであり、P1〜P3はプロ
ーブテスト用パッドである。
そして、前記各パッドに対応するインナーリードをボン
ディングワイヤ5で電気的に接続するが、例えば、第1
図に示すように、パッドRASとインナーリードRAS
とを電気的に接続するボンディングワイヤ5Aは、パッ
トA9とインナーリード八〇を電気的に接続するボンデ
ィングワイヤ5Bと交差して設けられている。すなわち
、第6図に示すように、ボンディングワイヤ5Bのルー
プの高さをボンディングワイヤ5Aよりも低くしてショ
ートしないようにしている。
ディングワイヤ5で電気的に接続するが、例えば、第1
図に示すように、パッドRASとインナーリードRAS
とを電気的に接続するボンディングワイヤ5Aは、パッ
トA9とインナーリード八〇を電気的に接続するボンデ
ィングワイヤ5Bと交差して設けられている。すなわち
、第6図に示すように、ボンディングワイヤ5Bのルー
プの高さをボンディングワイヤ5Aよりも低くしてショ
ートしないようにしている。
次に、本実施例の樹脂封止型半導体装置の組立工程につ
いて説明する。
いて説明する。
第1図乃至第3図に示すように、まず、タブレスリー1
くフレーム1のインナーリード部15を裏返した状態の
上に、絶縁フィルム2を接着剤3で接着する。絶縁フィ
ルム2としては、125μmの厚さのポリイミド系樹脂
フィルムを用いる。接着剤3としては、例えば、第7図
に示すように、インナーリード部15側から順にポリエ
ーテルアミドイミド等の熱可塑性の接着剤3A、ポリピ
ロメリット酸イミド、ポリケトンイミ1〜等の熱硬化性
ポリイミド系樹脂接着剤3Bを積層した多層接着剤を用
いる。前記絶縁フィルム2の上にベレンI−付用熱硬化
性接着剤4Aにより半導体チップ4の主面側をペレット
付けする。ベレンI−付用熱硬化性接着剤4Aとしては
、例えば、ポリピロメリット酸イミド、ポリケI・ンイ
ミド等の熱硬化性ポリイミド系樹脂接着剤の上に非導電
性のペースト材、例えばシリコーンゴム、エポキシゴム
、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂等を積層した多層
接着剤を用いる。
くフレーム1のインナーリード部15を裏返した状態の
上に、絶縁フィルム2を接着剤3で接着する。絶縁フィ
ルム2としては、125μmの厚さのポリイミド系樹脂
フィルムを用いる。接着剤3としては、例えば、第7図
に示すように、インナーリード部15側から順にポリエ
ーテルアミドイミド等の熱可塑性の接着剤3A、ポリピ
ロメリット酸イミド、ポリケトンイミ1〜等の熱硬化性
ポリイミド系樹脂接着剤3Bを積層した多層接着剤を用
いる。前記絶縁フィルム2の上にベレンI−付用熱硬化
性接着剤4Aにより半導体チップ4の主面側をペレット
付けする。ベレンI−付用熱硬化性接着剤4Aとしては
、例えば、ポリピロメリット酸イミド、ポリケI・ンイ
ミド等の熱硬化性ポリイミド系樹脂接着剤の上に非導電
性のペースト材、例えばシリコーンゴム、エポキシゴム
、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂等を積層した多層
接着剤を用いる。
次に、前記ペレット付けした各インナーリード部15の
ボンディング用端子部15Aと半導体チップ4の主面上
の各パラI〜とをボンディングワイヤ5で電気的に接続
する。このボンディングワイヤ5は、例えば、直径30
μmの金(A u )ワイヤを用いる。ワイヤボンディ
ングは、例えば、半導体チップ4」二の各パッドAO−
AIOとボンディングワイヤ5とはウェッジ・ポールボ
ンデング法で接続される。同様に、インナーリード部1
5のボンディング用端子部15Aとボンディングワイヤ
5とは、超音波振動を併用した熱圧着で接続される。
ボンディング用端子部15Aと半導体チップ4の主面上
の各パラI〜とをボンディングワイヤ5で電気的に接続
する。このボンディングワイヤ5は、例えば、直径30
μmの金(A u )ワイヤを用いる。ワイヤボンディ
ングは、例えば、半導体チップ4」二の各パッドAO−
AIOとボンディングワイヤ5とはウェッジ・ポールボ
ンデング法で接続される。同様に、インナーリード部1
5のボンディング用端子部15Aとボンディングワイヤ
5とは、超音波振動を併用した熱圧着で接続される。
インナーリード部15のボンディングされるボンディン
グ用端子部15Aの部分は銀(Ag)メツキされている
。そして、半導体チップ4とインナーリー1一部15を
ボンディングワイヤ5によって電気的に接続する際に、
半導体チップ4側のパッドのボンディング位置(2点)
を認識して座標を決定し、自動的にワイヤボンディング
を行う。
グ用端子部15Aの部分は銀(Ag)メツキされている
。そして、半導体チップ4とインナーリー1一部15を
ボンディングワイヤ5によって電気的に接続する際に、
半導体チップ4側のパッドのボンディング位置(2点)
を認識して座標を決定し、自動的にワイヤボンディング
を行う。
このワイヤボンディングが終ると、樹脂封止材注入装置
のキャビティの注入口とタブレスリードフレーム1のゲ
ート位置16との位置合せを行った後、キャビティにレ
ジン(エポキシ系の樹脂)等の樹脂封止材6を注入して
モールドされる。その後アウターリート部14を所定の
形状に加工して樹脂封止型半導体装置が完成する。
のキャビティの注入口とタブレスリードフレーム1のゲ
ート位置16との位置合せを行った後、キャビティにレ
ジン(エポキシ系の樹脂)等の樹脂封止材6を注入して
モールドされる。その後アウターリート部14を所定の
形状に加工して樹脂封止型半導体装置が完成する。
以上の説明かられかるように、本実施例によれば、タブ
レスリードフレーム1のインナーリード部15を絶縁フ
ィルム2を介在して半導体チップ4の主面上に配置する
ことにより、従来のように半導体チップ4の周辺にイン
ナーリード部15を配置するスペースが不用となり、そ
の分だけ太きな半導体チップ4の搭載が可能となる。
レスリードフレーム1のインナーリード部15を絶縁フ
ィルム2を介在して半導体チップ4の主面上に配置する
ことにより、従来のように半導体チップ4の周辺にイン
ナーリード部15を配置するスペースが不用となり、そ
の分だけ太きな半導体チップ4の搭載が可能となる。
また、タブレスリードフレーム1のインナーリード部1
5を半導体チップ4の主面上に配置することにより、イ
ンナーリート部15を配線層として利用することができ
る。すなわち、半導体チップ4の所望の位置からインナ
ーリード部15へのワイヤボンディングができる。これ
は、絶縁フィルム2を層間絶縁膜としインナーリード部
15を配線層と考え、スルーホール(コンタクト)をと
れば、どこからでも配線を配設することができることに
なる。
5を半導体チップ4の主面上に配置することにより、イ
ンナーリート部15を配線層として利用することができ
る。すなわち、半導体チップ4の所望の位置からインナ
ーリード部15へのワイヤボンディングができる。これ
は、絶縁フィルム2を層間絶縁膜としインナーリード部
15を配線層と考え、スルーホール(コンタクト)をと
れば、どこからでも配線を配設することができることに
なる。
また、半導体チップ4の主面上でワイヤボンディングす
ることにより、半導体チップ4の端部とボンディングワ
イヤ5とのショート(エリアショー1へ)は根本的にな
くなり、ワイヤリングが楽になる。すなわち、半導体チ
ップ4上には接続しても問題のない絶縁フィルム2とイ
ンナーリート15があるだけであるから、ボンディング
ワイヤ5同志のショー1−のみに注意すればよいことに
なる。
ることにより、半導体チップ4の端部とボンディングワ
イヤ5とのショート(エリアショー1へ)は根本的にな
くなり、ワイヤリングが楽になる。すなわち、半導体チ
ップ4上には接続しても問題のない絶縁フィルム2とイ
ンナーリート15があるだけであるから、ボンディング
ワイヤ5同志のショー1−のみに注意すればよいことに
なる。
従って、ボンディングワイヤ5のループ高さのみを調整
することで交差ワイヤボンディング(クロスワイヤボン
ディング)も可能となる。これにより、異なる半導体チ
ップ4を用いるしかなかったSOJ型パッケージのよう
な翼なるパッケージにおいても、共通の半導体チップ4
で交差ワイヤボンディング(クロスワイヤボンディング
)することにより製作することができる。
することで交差ワイヤボンディング(クロスワイヤボン
ディング)も可能となる。これにより、異なる半導体チ
ップ4を用いるしかなかったSOJ型パッケージのよう
な翼なるパッケージにおいても、共通の半導体チップ4
で交差ワイヤボンディング(クロスワイヤボンディング
)することにより製作することができる。
また、ボンディングワイヤ5を低くかつ短くすることが
でき、封止樹脂材6の封止時の流れ方に対して平行にボ
ンディングすることも容易にすることができるので、ボ
ンディングワイヤ5の変形を低減することができる。
でき、封止樹脂材6の封止時の流れ方に対して平行にボ
ンディングすることも容易にすることができるので、ボ
ンディングワイヤ5の変形を低減することができる。
また、半導体チップ4のパッドの配置も従来より大幅に
自由度を増すことができる。
自由度を増すことができる。
以上、本発明を実施例にもとづき具体的に説明したが、
本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その
要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であること
は言うまでもない。
本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、その
要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であること
は言うまでもない。
例えば、前記実施例ではSOJ型パッケージに本発明を
適用した例で説明したが、本発明は、ZIP型パッケー
ジ、デュアル・インライン・パッケージ(DIP)型パ
ッケージにも適用できることは勿論である。
適用した例で説明したが、本発明は、ZIP型パッケー
ジ、デュアル・インライン・パッケージ(DIP)型パ
ッケージにも適用できることは勿論である。
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれは、下記の通りである
。
て得られる効果を簡単に説明すれは、下記の通りである
。
半導体チップの主面−4−でワイヤボンディングするの
で、半導体チップの端部とボンディングワイヤとのショ
ート(エリアシg−1iは根本的になくすることができ
る。また、ボンディングワイヤのループ高さのみを調整
することにより、交差ワイヤボンディング(クロスワイ
ヤボンディング)が可能となるので、S○、J型パッケ
ージのような異なるパッケージでも共通の半導体チップ
で交差ワイヤボンディング(クロスワイヤボンディング
)することにより製作することができる。
で、半導体チップの端部とボンディングワイヤとのショ
ート(エリアシg−1iは根本的になくすることができ
る。また、ボンディングワイヤのループ高さのみを調整
することにより、交差ワイヤボンディング(クロスワイ
ヤボンディング)が可能となるので、S○、J型パッケ
ージのような異なるパッケージでも共通の半導体チップ
で交差ワイヤボンディング(クロスワイヤボンディング
)することにより製作することができる。
第1図は、本発明をSOJ型パッケージの4MD RA
、 Mに適用した実施例の樹脂封止型半導体装置のパッ
ケージ内部の構造を説明するための平面図、 第2図は、第1図に示す4 M D RA MのTI
−IT線で切断した断面図、 第3図は、第1−図に示す4. M D RA Mのm
−m線で切断した断面図、 第4図は、第1図に示す半導体チップのレイアラ1−を
説明するための平面図、 第5図は、第1図に示す半導体チップ上のパッドの配置
を示す平面図、 第6図は、第1図に示す交差ワイヤボンディング部分の
拡大図、 第7図は、第1図に示す半導体チップの主面」−にイン
ナーリードを配置する際の接着剤を説明するための図で
ある。 図中、1 ・タブレスリードフレーム、2・・・絶縁フ
ィルム、3,4A・・・接着剤、4・・・半導体チップ
、5 ボンディングワイヤ、6・樹脂封止材、14・・
アウターリード部、15・・インナーリード部、15A
・ボンディング用端子部である。
、 Mに適用した実施例の樹脂封止型半導体装置のパッ
ケージ内部の構造を説明するための平面図、 第2図は、第1図に示す4 M D RA MのTI
−IT線で切断した断面図、 第3図は、第1−図に示す4. M D RA Mのm
−m線で切断した断面図、 第4図は、第1図に示す半導体チップのレイアラ1−を
説明するための平面図、 第5図は、第1図に示す半導体チップ上のパッドの配置
を示す平面図、 第6図は、第1図に示す交差ワイヤボンディング部分の
拡大図、 第7図は、第1図に示す半導体チップの主面」−にイン
ナーリードを配置する際の接着剤を説明するための図で
ある。 図中、1 ・タブレスリードフレーム、2・・・絶縁フ
ィルム、3,4A・・・接着剤、4・・・半導体チップ
、5 ボンディングワイヤ、6・樹脂封止材、14・・
アウターリード部、15・・インナーリード部、15A
・ボンディング用端子部である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、樹脂封止型半導体装置において、半導体チップの主
面上に絶縁フィルムを設け、該絶縁フィルムの上にタブ
レスリードのインナーリードを配置し、該インナーリー
ドと半導体チップ上のパッドをボンディングワイヤで電
気的に接続した樹脂封止型半導体装置。 2、前記ボンディングワイヤのループ高さを調整してボ
ンディングワイヤを交差させたことを特徴とする特許請
求の範囲第1項に記載の樹脂封止型半導体装置。 3、前記インナーリードを配線層として用い、チップの
所定の位置でワイヤボンディングすることを特徴とする
特許請求の範囲第1項又は第2項に記載の樹脂封止型半
導体装置。 4、タブレスリードフレームに前記絶縁フィルムを接着
し、その上に半導体チップの主面側を接着面としてペレ
ット付けし、この状態で裏返えしてワイヤボンディング
を行うことを特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第3
項のいずれか一項に記載の樹脂封止型半導体装置の製造
方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63030111A JP2706077B2 (ja) | 1988-02-12 | 1988-02-12 | 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 |
| KR1019890001014A KR890013748A (ko) | 1988-02-12 | 1989-01-30 | 반도체 장치 |
| US07/306,398 US4989068A (en) | 1988-02-12 | 1989-02-06 | Semiconductor device and method of manufacturing the same |
| EP19890301124 EP0329317A3 (en) | 1988-02-12 | 1989-02-06 | Semiconductor device having an insulating sheet |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63030111A JP2706077B2 (ja) | 1988-02-12 | 1988-02-12 | 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01205541A true JPH01205541A (ja) | 1989-08-17 |
| JP2706077B2 JP2706077B2 (ja) | 1998-01-28 |
Family
ID=12294667
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63030111A Expired - Lifetime JP2706077B2 (ja) | 1988-02-12 | 1988-02-12 | 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4989068A (ja) |
| EP (1) | EP0329317A3 (ja) |
| JP (1) | JP2706077B2 (ja) |
| KR (1) | KR890013748A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US5250840A (en) * | 1992-02-24 | 1993-10-05 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Semiconductor lead frame with a chip having bonding pads in a cross arrangement |
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| JP2708191B2 (ja) | 1988-09-20 | 1998-02-04 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置 |
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| KR100234824B1 (ko) * | 1991-03-20 | 1999-12-15 | 윌리엄 비. 켐플러 | 반도체 장치 |
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| KR100552353B1 (ko) | 1992-03-27 | 2006-06-20 | 가부시키가이샤 히타치초엘에스아이시스템즈 | 리이드프레임및그것을사용한반도체집적회로장치와그제조방법 |
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- 1988-02-12 JP JP63030111A patent/JP2706077B2/ja not_active Expired - Lifetime
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1989
- 1989-01-30 KR KR1019890001014A patent/KR890013748A/ko not_active Ceased
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- 1989-02-06 EP EP19890301124 patent/EP0329317A3/en not_active Withdrawn
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| JP2706077B2 (ja) | 1998-01-28 |
| EP0329317A3 (en) | 1991-06-12 |
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| EP0329317A2 (en) | 1989-08-23 |
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