JPH01205718A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH01205718A JPH01205718A JP63031248A JP3124888A JPH01205718A JP H01205718 A JPH01205718 A JP H01205718A JP 63031248 A JP63031248 A JP 63031248A JP 3124888 A JP3124888 A JP 3124888A JP H01205718 A JPH01205718 A JP H01205718A
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- JP
- Japan
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- recording medium
- magnetic recording
- hard carbon
- film
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- Granted
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- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、高密度の磁気記録媒体の製造方法に関するも
のである。
のである。
従来の技術
一般に、強磁性金属もしくは合金を真空蒸着。
スパッタリング等によって高分子フィルム上に被着する
か又は、磁性粉末を結合剤成分とともに基体上に結着し
てつくられる磁気記録媒体は、記録再生時に磁気ヘッド
と激しく摺接するため、磁性層が摩耗しやすく、特に真
空蒸着等によって形成される強磁性金属薄膜層は高密度
記録に適する特性を有する反面、磁気ヘッドとの高速摺
接で摩耗や損傷を受は易く、耐久性に劣るという欠点が
あった。このため従来から磁性層上に種々の保護膜層を
設けるなどして耐摩耗性を改善する努力が払われており
、炭化水素系化合物を用いて炭素を主成分とする皮膜を
設けたり（特開昭５３−１４３２０６号公報）、ダイア
モンド状硬質炭素膜を設ける（特開昭５９−１２７２３
２号公報）等の方法が提案されている。
か又は、磁性粉末を結合剤成分とともに基体上に結着し
てつくられる磁気記録媒体は、記録再生時に磁気ヘッド
と激しく摺接するため、磁性層が摩耗しやすく、特に真
空蒸着等によって形成される強磁性金属薄膜層は高密度
記録に適する特性を有する反面、磁気ヘッドとの高速摺
接で摩耗や損傷を受は易く、耐久性に劣るという欠点が
あった。このため従来から磁性層上に種々の保護膜層を
設けるなどして耐摩耗性を改善する努力が払われており
、炭化水素系化合物を用いて炭素を主成分とする皮膜を
設けたり（特開昭５３−１４３２０６号公報）、ダイア
モンド状硬質炭素膜を設ける（特開昭５９−１２７２３
２号公報）等の方法が提案されている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記した構成の磁気記録媒体でより短波長
域で十分なＣ／Ｎを確保するためには、ダイアモンド状
硬質炭素膜を薄くする必要がある。
域で十分なＣ／Ｎを確保するためには、ダイアモンド状
硬質炭素膜を薄くする必要がある。
一方、余り炭素膜を薄くすると耐久性が十分でなくなる
。
。
本発明はこれらの問題点に鑑み、従来の製造方法で得ら
れない膜厚で、十分な耐久性を与えることの出来る磁気
記録媒体の製造方法を提供することを目的とするもので
ある。
れない膜厚で、十分な耐久性を与えることの出来る磁気
記録媒体の製造方法を提供することを目的とするもので
ある。
課題を解決するだめの手段
上記した問題点を解決するため本発明の磁気記録媒体の
製造方法は、強磁性金属薄膜上にダイアモンド状硬質炭
素薄膜を形成後、この炭素薄膜をスパッタエツチングし
、その上層に潤滑剤層を形成するようにしたものである
。
製造方法は、強磁性金属薄膜上にダイアモンド状硬質炭
素薄膜を形成後、この炭素薄膜をスパッタエツチングし
、その上層に潤滑剤層を形成するようにしたものである
。
作 用
上記製造方法によシダイアモラド状硬質炭素膜を一度形
成してからスパッタエツチングで所定の膜厚に加工する
ので、薄くても欠陥のない膜ができるので、十分な耐久
性をＣ／Ｎとバランスよく得ることができる。
成してからスパッタエツチングで所定の膜厚に加工する
ので、薄くても欠陥のない膜ができるので、十分な耐久
性をＣ／Ｎとバランスよく得ることができる。
実施例
以下、図面を参照しながら本発明の一実施例について詳
しく説明する。図は、本発明の一実施例による製造方法
により得られる磁気記録媒体の拡大断面図である。図で
、１はポリエチレンテレフタレート、ポリフェニレンサ
ルファイド、ポリエーテルサμフォン、ポリアミドイミ
ド等の高分子フィルムで、必要に応じて、微粒子や水溶
性高分子突起などの微細突起を配した下塗り層のあるフ
ィルムを用いてもよい。２はＣｏ −Ｎ ｉ 、 Ｃｏ
−Ｃｒ 。
しく説明する。図は、本発明の一実施例による製造方法
により得られる磁気記録媒体の拡大断面図である。図で
、１はポリエチレンテレフタレート、ポリフェニレンサ
ルファイド、ポリエーテルサμフォン、ポリアミドイミ
ド等の高分子フィルムで、必要に応じて、微粒子や水溶
性高分子突起などの微細突起を配した下塗り層のあるフ
ィルムを用いてもよい。２はＣｏ −Ｎ ｉ 、 Ｃｏ
−Ｃｒ 。
Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｍｏ、Ｃｏ−０，Ｃｏ−Ｎｉ−０等
の強磁性金属薄膜で、電子ビーム蒸着法、イオンブレー
ティング法、スパッタリング法等で形成することができ
る。次に炭化水素系気体のプラズマを用いるか、あるい
はグラフ１イトをターゲットにしたスパッタリングを行
うかの方法でダイアモンド状硬質炭素膜３を３００人か
らＳＯＯ人の厚みになるまで形成してから、Ａ ｒ 、
Ａ ｒ 十０２等の放電ガスによシスバッタエツチン
グを行い、高密度記録においてスペーシング損失を極力
小さくして高出力を確保するのに好ましい厚みである５
ｏ八から１６０人の範囲にまでダイアモンド状硬質炭素
膜３を薄く加工し直す。その後、真空蒸着法、溶液塗布
法等で脂肪酸、脂肪酸アミド、パーフルオロカルボン酸
、パーフルオロポリエーテル等の潤滑剤層４を配し、テ
ープ又はディスク状は加工し磁気記録媒体とする。
の強磁性金属薄膜で、電子ビーム蒸着法、イオンブレー
ティング法、スパッタリング法等で形成することができ
る。次に炭化水素系気体のプラズマを用いるか、あるい
はグラフ１イトをターゲットにしたスパッタリングを行
うかの方法でダイアモンド状硬質炭素膜３を３００人か
らＳＯＯ人の厚みになるまで形成してから、Ａ ｒ 、
Ａ ｒ 十０２等の放電ガスによシスバッタエツチン
グを行い、高密度記録においてスペーシング損失を極力
小さくして高出力を確保するのに好ましい厚みである５
ｏ八から１６０人の範囲にまでダイアモンド状硬質炭素
膜３を薄く加工し直す。その後、真空蒸着法、溶液塗布
法等で脂肪酸、脂肪酸アミド、パーフルオロカルボン酸
、パーフルオロポリエーテル等の潤滑剤層４を配し、テ
ープ又はディスク状は加工し磁気記録媒体とする。
以下、更に具体的に実施例について、比較例との対比で
説明する。厚み１０μｍのポリエチレンテレフタレート
フィルムを直径１ｍの円筒キャンに沿わせて、このフィ
ルム上にｅｘｌｏ （Ｔｏｒｒ）の酸素中、最小入射
角４２度で、Ｃｏ−Ｎ１（Ｎｉ：２０ ｗ ｔ％）を０
．１１μｍ電子ビーム蒸着してから、別の真空装置に移
して、グラファイトを４枚ターゲットとして直列に配置
し％１枚のターゲットに１３．５６（ＭＨｚ）、１ （
ＫＷ）の高周波電力を投入し、Ａｒ＋Ｈ２＝０．０４（
Ｔｏｒｒ）、Ａｒ：Ｈ２＝１：３の放電ガスを用い、高
周波スパッタリングにより、ａａ。
説明する。厚み１０μｍのポリエチレンテレフタレート
フィルムを直径１ｍの円筒キャンに沿わせて、このフィ
ルム上にｅｘｌｏ （Ｔｏｒｒ）の酸素中、最小入射
角４２度で、Ｃｏ−Ｎ１（Ｎｉ：２０ ｗ ｔ％）を０
．１１μｍ電子ビーム蒸着してから、別の真空装置に移
して、グラファイトを４枚ターゲットとして直列に配置
し％１枚のターゲットに１３．５６（ＭＨｚ）、１ （
ＫＷ）の高周波電力を投入し、Ａｒ＋Ｈ２＝０．０４（
Ｔｏｒｒ）、Ａｒ：Ｈ２＝１：３の放電ガスを用い、高
周波スパッタリングにより、ａａ。
入のダイアモンド状硬質炭素膜を形成する。次に、グラ
ファイト電極を６投置列に配置し、このグラファイト電
極に＋４ ｔｓ ｏ （Ｖ）の電圧を印加して、Ａ ｒ
＋０２＝０．０２ （Ｔｏ ｒ ｒ ） 、 Ａｒ
二０２−１＋、 ２の条件下で硬質炭素膜をスパッタエ
ツチングし、一部は反応性スパッタエツチングでＣｏ２
として高速エツチングを図るようにした。スパッタエツ
チングによシ硬質炭素系膜は１１０人となるようにした
。こうして得られた硬質炭素膜は一部ドーム状の微細凹
凸を形成した。この上層に、真空蒸着法でカプリン酸メ
チルを４０人蒸着してから８ミリ幅の磁気テープに加工
した。一方比較例は、高周波スパッタリング部分のみ動
作させて、１枚のグラファイトターゲットに１３．５６
（ＭＨｚ）、ｅｏｏ（ｗ）を投入して、ダイアモンド状
硬質炭素膜を１２０人形成した以外は実施例と同じ条件
で製造した。両者のテープを８ミリビデオによシ比較評
価した。
ファイト電極を６投置列に配置し、このグラファイト電
極に＋４ ｔｓ ｏ （Ｖ）の電圧を印加して、Ａ ｒ
＋０２＝０．０２ （Ｔｏ ｒ ｒ ） 、 Ａｒ
二０２−１＋、 ２の条件下で硬質炭素膜をスパッタエ
ツチングし、一部は反応性スパッタエツチングでＣｏ２
として高速エツチングを図るようにした。スパッタエツ
チングによシ硬質炭素系膜は１１０人となるようにした
。こうして得られた硬質炭素膜は一部ドーム状の微細凹
凸を形成した。この上層に、真空蒸着法でカプリン酸メ
チルを４０人蒸着してから８ミリ幅の磁気テープに加工
した。一方比較例は、高周波スパッタリング部分のみ動
作させて、１枚のグラファイトターゲットに１３．５６
（ＭＨｚ）、ｅｏｏ（ｗ）を投入して、ダイアモンド状
硬質炭素膜を１２０人形成した以外は実施例と同じ条件
で製造した。両者のテープを８ミリビデオによシ比較評
価した。
４０℃８０％ＲＨで実施例は、１００回走行後、輝度信
号出力は−０，３〜−ｏ、＋（ｄＢ）であったのに比し
、比較例は２８回の走行によシ、走行性が低下し、その
時点で出力は−１，３〜−１，５（ｄＢ）であった。４
０℃と２０℃の結露サイクルを４時間毎にくシ返し、３
週間放置したテープは、実施例が初期と出力変化がみら
れなかったのに比し、比較例は出力が−０，６〜−＋、
９（ｄＢ）と不安定であった。
号出力は−０，３〜−ｏ、＋（ｄＢ）であったのに比し
、比較例は２８回の走行によシ、走行性が低下し、その
時点で出力は−１，３〜−１，５（ｄＢ）であった。４
０℃と２０℃の結露サイクルを４時間毎にくシ返し、３
週間放置したテープは、実施例が初期と出力変化がみら
れなかったのに比し、比較例は出力が−０，６〜−＋、
９（ｄＢ）と不安定であった。
発明の効果
以上のように本発明の製造方法によれば、保存特性耐久
性共に優れた高密度磁気記録媒体を製造できるといった
すぐれた効果がある。
性共に優れた高密度磁気記録媒体を製造できるといった
すぐれた効果がある。
図は本発明の方法により得た磁気記録媒体の拡大断面図
である。 ３・・・・・・ダイアモンド状硬質炭素膜、４・・・・
・・潤滑剤層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名／−
−−高分子フィルム ？−独忌姓小属薄項 、？−−−ダイアそンだン仄 Ｒ頁末素膜 ４Ｌ −−一 多へ珂；ｔノＰ」
である。 ３・・・・・・ダイアモンド状硬質炭素膜、４・・・・
・・潤滑剤層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名／−
−−高分子フィルム ？−独忌姓小属薄項 、？−−−ダイアそンだン仄 Ｒ頁末素膜 ４Ｌ −−一 多へ珂；ｔノＰ」
Claims (1)
- 強磁性金属薄膜上にダイアモンド状硬質炭素薄膜を形成
後、この硬質炭素薄膜を所定膜厚にスパッタエッチング
し、前記硬質炭素薄膜上に潤滑剤層を形成することを特
徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63031248A JP2543123B2 (ja) | 1988-02-12 | 1988-02-12 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63031248A JP2543123B2 (ja) | 1988-02-12 | 1988-02-12 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01205718A true JPH01205718A (ja) | 1989-08-18 |
| JP2543123B2 JP2543123B2 (ja) | 1996-10-16 |
Family
ID=12326070
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63031248A Expired - Fee Related JP2543123B2 (ja) | 1988-02-12 | 1988-02-12 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2543123B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996037886A1 (en) * | 1995-05-24 | 1996-11-28 | Sony Corporation | Magnetic recording medium |
| JP2006028273A (ja) * | 2004-07-13 | 2006-02-02 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 炭化水素系有機薄膜からなる潤滑剤及び潤滑方法 |
-
1988
- 1988-02-12 JP JP63031248A patent/JP2543123B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996037886A1 (en) * | 1995-05-24 | 1996-11-28 | Sony Corporation | Magnetic recording medium |
| US5858520A (en) * | 1995-05-24 | 1999-01-12 | Sony Corporation | Magnetic recording medium |
| JP2006028273A (ja) * | 2004-07-13 | 2006-02-02 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 炭化水素系有機薄膜からなる潤滑剤及び潤滑方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2543123B2 (ja) | 1996-10-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |