JPH01206644A - 基板吸着構造 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は基板を吸着保持する基板吸着構造に関する。

［従来の技術］ 例えば、半導体の製造に用いるテープポンダにおける基
板吸着構造は、ｘＹ（水平）方向、Ｚ（上下）方向及び
θ（回転）方向に駆動されるポンドステージ上に基板保
持板（真空チャック）を設け、この基板保持板に設けら
れた吸着穴によってペレット又はバンプが設けられた基
板を保持させている。またワイヤポンダ、ダイポンダに
おける基板吸着構造は、ヒートブロックに設けた吸着穴
によって基板を保持している。

ところで、基板はできるだけ外周に近い部分で吸着保持
させた方が保持の安定性が良い。そこで、従来は、基板
サイズ、形状毎に吸着穴の配置を有する数種類の基板保
持板又はヒートブロックを用意し、基板に応じて取換え
て用いている。

［発明が解決しようとする課題］ 上記従来技術は、複数個の基板保持板又はヒートブロッ
クを用意しなければならなく、設備コスト高になると共
に、基板の大きさが異なるたびに交換作業を必要とし作
業性に問題点があった。

本発明の目的は、１個の基板保持板で大きさの異なる複
数個の基板に対応できる基板吸着構造を提供することに
ある。

［課題を解決するための手段］ 上記目的は、第１の解決手段として、内部に平行に形成
された複数個の吸引穴及び上面より前記吸引穴に連通ず
る多数の吸着穴を有する基板保持板と、この基板保持板
の一端側より前記吸引穴を真空引きするように基板保持
板に接続された真空発生機と、前記各吸引穴に対応して
それぞれ設けられ、各吸引穴の真空引きを開閉させる複
数個の開閉手段とを備えた構成にすることにより解決さ
れる。またヒートブロックを必要とする場合には、基板
保持板を上記のように構成し、これをヒートブロックに
固定するようにすることが効果的である。

また他の第２の解決手段として、内部に形成された複数
個の吸引穴、上面より前記吸引穴に連通ずる多数の吸着
穴及びこの吸着穴の上部に形成されたねじ部を有する基
板保持板と、前記ねじ部に螺合させる栓と、前記吸引穴
を真空引きするように基板保持板に接続された真空発生
機とを備えた構成にしてもよい。

［作用コ 上記第１の解決手段によっては、基板の長さに応じて、
基板が対応する吸着穴以外の吸着穴に連通ずる吸引穴を
開閉手段で閉状態にする。これにより、基板の幅寸法は
同一で長さ寸法が異なるものに対応できる。

上記第２の解決手段によっては、基板が対応する吸着穴
以外の吸着穴を栓で閉じる。これにより、基板の幅寸法
及び長さ寸法が異なる場合にも対応できるようになる。

［実施例］ 以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。ヒー
トブロックホルダ１に固定されたヒートブロック２には
カートリッジヒータ３及び温度検出線４が取付けられて
いる。このヒートブロック２の上面の側方側には横長の
吸引溝２１が形成され、また吸引溝２１から垂直に吸引
穴２２が形成されている。そして、吸引穴２２には配管
５によって図示しない真空発生機に接続されている。

前記ヒートブロック２上には基板保持板６が取付ねじ等
によって固定されている。基板保持板６には、前記ヒー
トブロック２の吸引溝２１側の側面から吸引溝２１に直
角に複数個の吸引穴６１ａ〜６１ｆが平行に形成され、
この各吸引穴６１ａ〜６１ｆと前記吸引溝２１とはそれ
ぞれ連通穴６２ａ〜６２ｆによって連通されている。ま
た基板保持板６には、上面より前記吸引穴６１ａ〜６１
ｆに連通するように各吸引穴６．１ａ〜６１ｆに対して
それぞれ複数個の吸着穴６３ａ〜６３ｆが形成されてい
る。

また基板保持板６の連通穴６２ａ〜６２ｆ側の側面には
、前記吸引穴６１ａ〜６１ｆにそれぞれ対応して吸引穴
６１ａ〜６１ｆと連通穴６２ａ〜６２ｆとの連通なそれ
ぞれ開閉する栓７（７１〜７６）が螺合されている。即
ち、第２図（イ）に示すように、栓７（７１〜７６）を
締めると、締めた栓７に対応する吸引穴６１ａ〜６１ｆ
を閉状態にすることができる。また同図（ロ）に示すよ
うに、栓７（７１〜７６）を緩めると、緩めた栓７に対
応する吸引穴６１ａ〜６１ｆを開状態にすることができ
る。

そこで、例えば第１図（イ）（ロ）に２点鎖線で示す大
きさの基板８の場合には、栓７１〜７４を緩めて吸引穴
６１ａ〜６１ｄを開状態に、栓７５．７６を締めて吸引
穴６１ｅ、６１ｆを閉状態にして使用する。これにより
、吸引穴６１ａ〜６１ｄのみが連通穴６２ａ〜６２ｄを
通して吸引溝２１に連通ずるので、図示しない真空発生
機より配管５、吸引穴２２を通して吸引溝２１が真空引
きされると、吸引穴６１ａ〜６１ｄのみが真空引きされ
る。即ち、基板８に対応した吸着穴６３ａ〜６３ｄのみ
が真空引きされることになる。

このように、基板８の幅寸法は同一で、長さ寸法のみ変
える場合には、栓７（７１〜７６）を開閉させるのみで
対処できる。

第３図は本発明の他の実施例を示す。前記実施例は、栓
７を基板保持板６の側面に取付けたが、本実施例は吸引
穴６１ａ〜ｅｌｆの両端が閉塞された構造とし、栓７を
基板保持板６の上面から螺合させている。このように構
成しても前記実施例と同様の効果が得られる。

第４図は本発明の第３実施例を示す。前記各実施例は、
基板８の幅寸法は同一で、長さ寸法のみ変える場合だけ
しか適応できないが、本実施例は、基板８１の幅、長さ
とも変更になる場合にも適応できるようにしたものであ
る。即ち、基板８１の幅に対応した以外の各吸着孔６３
ａ〜６３ｆを閉状態にするように基板保持板６上にカバ
ー板９を設け、このカバー板９をねじ１０で基板保持板
６に固定されている。ここで、前記カバー板９にはねじ
１０が挿通される長穴部９１を設けることにより、基板
８１の幅寿法の変更に対応できる。

そこで、第４図に示すような大きさの基板８１の場合に
は、図示のようにカバー板９を固定し、栓７１〜７４を
緩めて吸引穴６１ａ〜６１ｄ（第１図参照）を開状態に
、栓７５．７６を締めて吸引穴６１ｅ、６１ｆ　（第１
図参照）を閉状態する。このように、カバー板９と吸引
穴開閉用枠７１〜７６との併用により、基板８１の幅及
び長さ寸法の変更に対応できる。

第５図は本発明の第４実施例を示す。本実施例は、前記
実施例に示す栓７（７１〜７６）を廃止して各吸引穴６
１ａ〜６１ｆを両端閉塞形とし、また吸着穴６３ａ〜６
３ｆの上端部には栓７７を螺合させるねじ部６４が形成
されている。そこで、図に示す大きさの基板８１の場合
には、基板８１に対応した以外の各吸着穴６３ａ〜６３
ｆには栓７７を螺合させて閉状態にして用いる。

このように、各吸着穴６３ａ〜６３ｆの１個１個を直接
枠７７で開閉するので、基板８１の幅、長さとも変更に
なる場合にも適応できる。しかし、この構造は、不必要
な各吸着穴６３ａ〜６３ｆの１個１側に栓７７を取付け
るので、作業は面倒である。そこで、この栓７７を取付
ける部所をより少なくするには、第１図に示す構造の基
板保持板６に第５図の構造を取入れればよい。即ち、第
４図に示す基板８１の場合には、長さ方向の寸法に対し
ては栓７５．７６によって吸着穴６３ｅ、６３ｆを閉状
態とし、基板８１の幅以外の吸着穴６３ａ〜６３ｄのみ
を栓７７で閉状態にすればよい。

なお、連通穴６２ａ〜６２ｆは吸引溝２１に対応して形
成された１個又は２個以上の連通溝でもよい。また本実
施例はヒートブロック２を有する基板吸着構造に適応し
た場合について説明したが、ヒートブロック２を有しな
いものにも適応できることはいうまでもない。

［発明の効果コ 以上の説明から明らかなように、特許請求の範囲第１．
項のように構成することにより、基板の幅寸法は同一で
、長さ寸法のみ変る場合には、開閉手段を開閉させるの
みで対処できる。また特許請求の範囲第２項のように構
成することにより、ヒートブロックを、有するものにも
容易に適応できる。特許請求の範囲第３項のように構成
することにより、各吸着穴の１個１　（！！ｉを直接枠
で開閉すれば、基板の幅、長さとも変更になる場合にも
適応できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示し、（イ）は平面図、（
ロ）は（イ）図のＡ−Ａ線断面図、（は）は正面図、第
２図は吸引穴の開閉状態を示し、（イ）は閉状態図、（
ロ）は開状態図、第３図は本発明の吸引穴の開閉の他の
実施例を示し、（イ）は閉状態図、（ロ）は開状態図、
第４図は本発明の第３実施例を示す斜視図、第５図は本
発明の第４実施例を示し、（イ）は平面図、（ロ）は（
イ）図のＢ−Ｂ線断面図である。 ２：ヒートブロック、　　　　２１：吸引溝、３：カー
トリッジヒータ、　　６：基板保持板、６１ａ　〜６１
ｆ：吸引穴、　６２ａ　〜６２ｆ：連通穴、　　６３ａ
〜６３ｆ：吸着穴、　　６４：ねじ部、　７．７１〜７
７：栓。 代理人　弁理士　１）辺　良　徳 第２ （イ） 第３ （イ） ｂｏｏ　”Ｍ　ｂ２Ｔ 図 （ロ） 第５図 （イ） ６二　； ６１　ｏ　〜６１　ｆ　：’ ６２ａ　−−６２ｆ　：　５ ６３０〜６３ｆ：Ｉ ７７：ノ （ロ） １板糀持板 １友引へ 東通−穴 吸瑞穴 詮 手続補正歯（自発） 昭和６３年４月１３日 特許庁長官　小　川　邦　夫　殿 ■　事件の表示 昭和６３年特許願第３１５９７号 ２　発明の名称 基板吸着構造 ３　補正をする者 事件との関係　特許出願人 住所　東京都武蔵村山市伊奈平２丁目５１番地の１名称
　　株式会社　　新　　川 代表取締役　　　安　　雲　　　毅 ４　代理人 住所　東京都渋谷区代々木２丁目２０番２号美和プラザ
新宿２０４号（電話３７０−０２４４番）６　補正の内
容 第４図を別紙のように訂正する。 手続補正歯（方式） ％式％ ｌ　事件の表示 昭和６３年特許願第３１５９７号 ２　発明の名称 基盤吸着構造 ３　補正をする者 事件との関係　特許出願人 住所　東京都武蔵村山市伊奈平２丁目５１番地の１名称
　　株式会社　　新　　川 代表取締役　　　安　　雲　　　毅 ４　代理人 住所　東京都渋谷区代々木２丁目２０番２号美和プラザ
新宿２０４号（電話３７０−０２４４番）昭和６３年５
月３１日（発進口） ６　補正の対象 明細書の図面の簡単な説明の欄 ７、補正の内容 明細書第１０頁第１９行目に「（は）」とあるを「（ハ
）」に訂正する。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）内部に平行に形成された複数個の吸引穴及び上面
   より前記吸引穴に連通する多数の吸着穴を有する基板保
   持板と、この基板保持板の一端側より前記吸引穴を真空
   引きするように基板保持板に接続された真空発生機と、
   前記各吸引穴に対応してそれぞれ設けられ、各吸引穴の
   真空引きを開閉させる複数個の開閉手段とを備えてなる
   基板吸着構造。
2. （２）ヒータが取付けられ、上面に横長の吸引溝が形成
   されたヒートブロックと、前記吸引溝を真空引きするよ
   うに前記ヒートブロックに接続された真空発生機と、前
   記ヒートブロック上に固定され、内部に平行に形成され
   た複数個の吸引穴、上面より前記吸引穴に連通する多数
   の吸着穴及び前記ヒートブロックの吸引溝と前記各吸引
   穴とを連通させる連通部を有する基板保持板と、前記各
   吸引穴に対応して前記基板保持板にそれぞれ設けられ、
   吸引穴と連通部との連通を開閉させる開閉手段とを備え
   てなる基板吸着構造。
3. （３）内部に形成された複数個の吸引穴、上面より前記
   吸引穴に連通する多数の吸着穴及びこの吸着穴の上部に
   形成されたねじ部を有する基板保持板と、前記ねじ部に
   螺合させる栓と、前記吸引穴を真空引きするように基板
   保持板に接続された真空発生機とを備えてなる基板吸着
   構造。