JPH0120759Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0120759Y2 JPH0120759Y2 JP4581682U JP4581682U JPH0120759Y2 JP H0120759 Y2 JPH0120759 Y2 JP H0120759Y2 JP 4581682 U JP4581682 U JP 4581682U JP 4581682 U JP4581682 U JP 4581682U JP H0120759 Y2 JPH0120759 Y2 JP H0120759Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stem
- mount device
- neck
- stem mount
- cullet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 7
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 3
- 239000006063 cullet Substances 0.000 description 16
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
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- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
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Landscapes
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、陰極線管のネツク部をステムで封止
するためのステムマウント装置に関する。
するためのステムマウント装置に関する。
テレビジヨン受像機などに用いる陰極線管のネ
ツク部を封止する際、従来第1図及び第2図に示
すようなステムマウント装置とよばれる特殊な治
具が使用されている。ステムマウント装置1の中
心には、ステム2のチツプ管3を挿入する中空部
4が形成されている。そして、ステムマウント装
置1の上面にはステムピン5の数に応じた複数の
ステムピン孔6が設けられている。このステムピ
ン孔6に挿入されたステムピン5によつてステム
2がステムマウント装置1に支持されているので
ある。
ツク部を封止する際、従来第1図及び第2図に示
すようなステムマウント装置とよばれる特殊な治
具が使用されている。ステムマウント装置1の中
心には、ステム2のチツプ管3を挿入する中空部
4が形成されている。そして、ステムマウント装
置1の上面にはステムピン5の数に応じた複数の
ステムピン孔6が設けられている。このステムピ
ン孔6に挿入されたステムピン5によつてステム
2がステムマウント装置1に支持されているので
ある。
この装置を用いたステムの封止工程は次の通り
である。第1図に示すように、ステム2のチツプ
管3をステムマウント装置1の中空部4に挿入
し、ステムピン5によつてステム2をステムマウ
ント装置1に支持させた後、陰極線管のネツク部
7がステムマウント装置1の所定の位置まで入る
ように装備し、陰極線管を回転させながらネツク
部7のステム2と対向する部分をバーナ8で焼
く。このようにすると、第1図に示すようにネツ
ク部7のステム2と接合する部分が溶融されて内
側にへこみ、ネツク部7がステム2に融着する。
この際、ステムマウント装置1の外径は一定であ
り、ネツク部7の内径より僅かに小さいだけであ
るため、ネツク部7のステム2との融着部分の下
側は図のようにステムマウント装置1の外周面9
にくつついてしまう。この状態で、作業員がネツ
ク部7のカレツト10とよばれるステム下方の不
要なガラスを例えばピンセツトを用いて除去して
いる。しかし、この従来のステムマウント装置に
は融着時のカレツト10の落下を速める何らの手
段も無いために落下時のガラス肉厚がかなり厚く
なつており、ピンセツトで除去する方法でも十分
に取りきれない場合が生じていた。
である。第1図に示すように、ステム2のチツプ
管3をステムマウント装置1の中空部4に挿入
し、ステムピン5によつてステム2をステムマウ
ント装置1に支持させた後、陰極線管のネツク部
7がステムマウント装置1の所定の位置まで入る
ように装備し、陰極線管を回転させながらネツク
部7のステム2と対向する部分をバーナ8で焼
く。このようにすると、第1図に示すようにネツ
ク部7のステム2と接合する部分が溶融されて内
側にへこみ、ネツク部7がステム2に融着する。
この際、ステムマウント装置1の外径は一定であ
り、ネツク部7の内径より僅かに小さいだけであ
るため、ネツク部7のステム2との融着部分の下
側は図のようにステムマウント装置1の外周面9
にくつついてしまう。この状態で、作業員がネツ
ク部7のカレツト10とよばれるステム下方の不
要なガラスを例えばピンセツトを用いて除去して
いる。しかし、この従来のステムマウント装置に
は融着時のカレツト10の落下を速める何らの手
段も無いために落下時のガラス肉厚がかなり厚く
なつており、ピンセツトで除去する方法でも十分
に取りきれない場合が生じていた。
一方、ステムマウント装置の中空部4から窒素
ガスを送り込み、ステム2とステムマウント装置
1の上部とネツク部7との間に形成された空間に
窒素ガスを吹き付け、ネツク部7のステム下側に
対応する部分に穴をあけてバーナで焼き切る方法
も提案されているが、この場合でもネツク部7の
ステム下方の部分がステムマウント装置1の外周
面9にくつついてしまい落ちにくく、またネツク
部7のステム下側に対応する部分のガラスの肉厚
が比較的厚いので、窒素ガスの吹き付けを行つた
だけではバーナの炎で焼き切ることが難かしい。
ガスを送り込み、ステム2とステムマウント装置
1の上部とネツク部7との間に形成された空間に
窒素ガスを吹き付け、ネツク部7のステム下側に
対応する部分に穴をあけてバーナで焼き切る方法
も提案されているが、この場合でもネツク部7の
ステム下方の部分がステムマウント装置1の外周
面9にくつついてしまい落ちにくく、またネツク
部7のステム下側に対応する部分のガラスの肉厚
が比較的厚いので、窒素ガスの吹き付けを行つた
だけではバーナの炎で焼き切ることが難かしい。
このように、従来のステムマウント装置による
ときは、融着時においてカレツト自体がステムマ
ウント装置の外周面にくつついて容易には落下せ
ず、従つてその切断すべき部分のガラスの肉厚が
厚くネツク部からのカレツトの分離除去が容易に
行えないという問題点があつた。
ときは、融着時においてカレツト自体がステムマ
ウント装置の外周面にくつついて容易には落下せ
ず、従つてその切断すべき部分のガラスの肉厚が
厚くネツク部からのカレツトの分離除去が容易に
行えないという問題点があつた。
本考案は上述のような欠点を改良したステムマ
ウント装置を提供するものである。
ウント装置を提供するものである。
以下図面を参照しながら、本考案によるステム
マウント装置の実施例を説明する。
マウント装置の実施例を説明する。
本考案においては、第3図及び第4図に示すよ
うに中心にステム2のチツプ管3を挿入する中空
部12が設けられたステムマウント装置11の外
周面13をステムマウント装置11の基部側に向
つて径が小さくなるテーパ状に形成する。テーパ
の角度は任意でよいが、例えば30′〜120′を選定
することができる。この外周面10には複数の縦
溝14を出来れば等間隔に設ける。縦溝14の数
は任意でよく、例えば6〜12本位が適当である。
また、縦溝14の形状はV型、U型、型等任意
に選択できる。ステムマウント装置11のステム
2と対向する上面にはステムピン5が挿入される
複数のステムピン孔15を形成し、またこのステ
ムピン孔15と連通し且つ中空部12から外周面
13に貫通する輻方向の孔16を形成する。この
孔16の底面はステムピン5を受ける面となるも
のである。一方中空部12においては、その内径
をチツプ管3の外径より大に選定し、中空部12
内にチツプ管3を挿入した状態で中空部12の側
壁とチツプ管3との間に後述の窒素ガスのような
不燃性ガスを導入するためのガス流路が形成され
るようになす。また、中空部12内にはチツプ管
3の位置を規制するための、即ちチツプ管3を中
空部12の中央に位置せしめるための複数個の突
起17を設ける。
うに中心にステム2のチツプ管3を挿入する中空
部12が設けられたステムマウント装置11の外
周面13をステムマウント装置11の基部側に向
つて径が小さくなるテーパ状に形成する。テーパ
の角度は任意でよいが、例えば30′〜120′を選定
することができる。この外周面10には複数の縦
溝14を出来れば等間隔に設ける。縦溝14の数
は任意でよく、例えば6〜12本位が適当である。
また、縦溝14の形状はV型、U型、型等任意
に選択できる。ステムマウント装置11のステム
2と対向する上面にはステムピン5が挿入される
複数のステムピン孔15を形成し、またこのステ
ムピン孔15と連通し且つ中空部12から外周面
13に貫通する輻方向の孔16を形成する。この
孔16の底面はステムピン5を受ける面となるも
のである。一方中空部12においては、その内径
をチツプ管3の外径より大に選定し、中空部12
内にチツプ管3を挿入した状態で中空部12の側
壁とチツプ管3との間に後述の窒素ガスのような
不燃性ガスを導入するためのガス流路が形成され
るようになす。また、中空部12内にはチツプ管
3の位置を規制するための、即ちチツプ管3を中
空部12の中央に位置せしめるための複数個の突
起17を設ける。
かかる構成のステムマウント装置11を用いて
封止を行うにあたつては、第3図に示すように、
ステム2のチツプ管3をステムマウント装置11
の中空部12内に挿入し、ステムピン5をステム
ピン孔15に挿入した状態で、ステム2及びステ
ムマウント装置11がネツク部7内の所定位置ま
で入るように陰極線管に装備し、陰極線管を回転
させながらネツク部7のステム2と対向する部分
をバーナ8で焼く。このとき中空部12の側壁と
チツプ管3との間に形成されたガス流路を通じて
例えば窒素ガス18を導入しこれをステム2と装
置11の上面との間を通じてネツク部7のステム
2と接合する部分より下側の部分10aに内部よ
り吹き付ける。バーナ8によつてネツク部7のス
テム2と接合する部分が溶融され、ネツク部7が
ステム2に融着される。そして窒素ガス18が内
部より吹き付けられることによつてネツク部7の
切断部即ちステム下側の部分10aに穴が形成さ
れる。この穴に別のバーナ(図示せず)を当てれ
ば、陰極線管の回転に伴つてこの穴から切り込み
が入りネツク部の全周にわたつて切り裂れる。
封止を行うにあたつては、第3図に示すように、
ステム2のチツプ管3をステムマウント装置11
の中空部12内に挿入し、ステムピン5をステム
ピン孔15に挿入した状態で、ステム2及びステ
ムマウント装置11がネツク部7内の所定位置ま
で入るように陰極線管に装備し、陰極線管を回転
させながらネツク部7のステム2と対向する部分
をバーナ8で焼く。このとき中空部12の側壁と
チツプ管3との間に形成されたガス流路を通じて
例えば窒素ガス18を導入しこれをステム2と装
置11の上面との間を通じてネツク部7のステム
2と接合する部分より下側の部分10aに内部よ
り吹き付ける。バーナ8によつてネツク部7のス
テム2と接合する部分が溶融され、ネツク部7が
ステム2に融着される。そして窒素ガス18が内
部より吹き付けられることによつてネツク部7の
切断部即ちステム下側の部分10aに穴が形成さ
れる。この穴に別のバーナ(図示せず)を当てれ
ば、陰極線管の回転に伴つてこの穴から切り込み
が入りネツク部の全周にわたつて切り裂れる。
このステムマウント装置11によれば、外周面
13がテーパになつているために融着時にネツク
部7のステム2との融着部分の下側が外周面13
にすぐにはくつきにくくく、カレツト10の落下
速度を速める効果が生じ、同時に外周面13に縦
溝14を有することにより外周面13とカレツト
10の接触面積が減少してカレツト落下時の摩擦
抵抗が小さくなるために、両者の相乗効果によつ
てカレツト10の垂れ下がりが大きくなりネツク
部7のステム2の下側に対応する部分10aのガ
ラスの肉厚を可成り薄くすることができる。従つ
て、窒素ガス18を吹き付けたとき、容易にこの
ステム下側の部分10aがふくらみ大きな穴があ
けられる。この時点でほとんどのガラスを切除す
ることが出来、外周面13上に残つたガラスもバ
ーナによつて焼き切ることが出来る。これにより
カレツト10は自動的に落下する。
13がテーパになつているために融着時にネツク
部7のステム2との融着部分の下側が外周面13
にすぐにはくつきにくくく、カレツト10の落下
速度を速める効果が生じ、同時に外周面13に縦
溝14を有することにより外周面13とカレツト
10の接触面積が減少してカレツト落下時の摩擦
抵抗が小さくなるために、両者の相乗効果によつ
てカレツト10の垂れ下がりが大きくなりネツク
部7のステム2の下側に対応する部分10aのガ
ラスの肉厚を可成り薄くすることができる。従つ
て、窒素ガス18を吹き付けたとき、容易にこの
ステム下側の部分10aがふくらみ大きな穴があ
けられる。この時点でほとんどのガラスを切除す
ることが出来、外周面13上に残つたガラスもバ
ーナによつて焼き切ることが出来る。これにより
カレツト10は自動的に落下する。
また、ステムピン孔15と連通する輻方向の孔
16が中空部12から外周面13に至るように貫
通していることにより、ステムピン5の受け面
(孔15の底面)のごみの除去が容易になると共
に、特に窒素ガス18の導入時に、この孔16を
通じて窒素ガスの一部が吹き出してカレツト10
の外周面13への接触を阻むことができ、融着時
のカレツトの落下速度をより速めることが出来
る。また、中空部12の側壁に複数の突起17が
設けられるので、チツプ管3を中央に正しく位置
決めすることができ、且つこれに伴つて窒素ガス
の流量を中空部12の内周に亘つて均一にさせる
ことできる。
16が中空部12から外周面13に至るように貫
通していることにより、ステムピン5の受け面
(孔15の底面)のごみの除去が容易になると共
に、特に窒素ガス18の導入時に、この孔16を
通じて窒素ガスの一部が吹き出してカレツト10
の外周面13への接触を阻むことができ、融着時
のカレツトの落下速度をより速めることが出来
る。また、中空部12の側壁に複数の突起17が
設けられるので、チツプ管3を中央に正しく位置
決めすることができ、且つこれに伴つて窒素ガス
の流量を中空部12の内周に亘つて均一にさせる
ことできる。
尚、第5図に示すように上述のテーパ、縦溝1
1の構成に加えてステムマウント装置11の上部
に段部19を設けることもできる。このような段
部19を形成したことにより、カレツト10のス
テムマウント装置1の外周面9への接触面積を減
少させることができるため、カレツト10の落下
がより容易になる。
1の構成に加えてステムマウント装置11の上部
に段部19を設けることもできる。このような段
部19を形成したことにより、カレツト10のス
テムマウント装置1の外周面9への接触面積を減
少させることができるため、カレツト10の落下
がより容易になる。
上述した通り、本考案によるステムマウント装
置は、外周面をテーパにし、且つ縦溝を設けたこ
とにより、従来のステムマウント装置を用いた場
合と比べて遥かに容易にカレツトを落下させるこ
とができる。従つて、陰極線管のステム封止後の
ステムマウント装置からカレツトを除去する作業
が容易になるので、ステム封止工程の生産能率を
高めることができるものである。
置は、外周面をテーパにし、且つ縦溝を設けたこ
とにより、従来のステムマウント装置を用いた場
合と比べて遥かに容易にカレツトを落下させるこ
とができる。従つて、陰極線管のステム封止後の
ステムマウント装置からカレツトを除去する作業
が容易になるので、ステム封止工程の生産能率を
高めることができるものである。
第1図は従来のステムマウント装置を示す断面
図、第2図はその斜視図、第3図は本考案に係る
ステムマウント装置の一実施例を示す断面図、第
4図はその斜視図、第5図は本考案の他の実施例
を示す断面図である。 1,11はステムマウント装置、2はステム、
3はチツプ管、4,12は中空部、7はネツク
部、9,13は外周面、14は縦溝である。
図、第2図はその斜視図、第3図は本考案に係る
ステムマウント装置の一実施例を示す断面図、第
4図はその斜視図、第5図は本考案の他の実施例
を示す断面図である。 1,11はステムマウント装置、2はステム、
3はチツプ管、4,12は中空部、7はネツク
部、9,13は外周面、14は縦溝である。
Claims (1)
- 陰極線管のネツク部とステムを封止するための
ステムマウント装置において、外周面をステムマ
ウント装置の基部側に向つて径が小さくなるテー
パにすると共に外周面に複数の縦溝を設け、且つ
該ステムマウント装置内部に設けた中空部におけ
るチツプ管と該中空部側壁との間を上記ネツク部
の切断部にガスを吹きつけるためのガス流路とし
たことを特徴とするステムマウント装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4581682U JPS58148863U (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | ステムマウント装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4581682U JPS58148863U (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | ステムマウント装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58148863U JPS58148863U (ja) | 1983-10-06 |
| JPH0120759Y2 true JPH0120759Y2 (ja) | 1989-06-22 |
Family
ID=30056825
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4581682U Granted JPS58148863U (ja) | 1982-03-31 | 1982-03-31 | ステムマウント装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58148863U (ja) |
-
1982
- 1982-03-31 JP JP4581682U patent/JPS58148863U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58148863U (ja) | 1983-10-06 |
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