JPH01214863A - 現像装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明は、光ディスク等の情報記憶媒体の原盤製造時に
おける現像処理工程で使用する現像装置に関する。

（従来の技術） 近年、光ディスク等の情報記憶媒体が画像情報記憶検索
装置や、音楽あるいは映像再生装置等で広く用いられる
ようになっている。この情報記憶媒体は、通常原盤から
形成されるスタンパを成形型として大量に複製される。

以下、簡単に情報記憶媒体である光ディスクの！ＩＪ＊
工程を第３図、第４図および第５図を参照して簡単に説
明する。

第５図（１）に示される原盤１０１は、円盤状のガラス
基板１０３の表面を精密研磨及び、洗浄し、さらに露光
転写用のフォトレジスト１０５を均一な膜厚、例えば０
．１μｍ程度になるように塗布し、その後乾燥したもの
である。

この原盤１０１を第５図（２）に示される様に、スピン
ドルモータ等によって回転するターンテーブルに載ｌし
て、例えば１８００ｒｐｍで定速度回転させるとともに
、この原盤１０１の所定位置に対物レンズ１２２によっ
てスポット状に集束されたアルゴンレーザやＨｅ−Ｃｄ
レーザ等のレーザ光１２０を所定の時間、照射、露光す
る。この露光によって７オドレジスト１０５ｗＲ内に潜
像１０７を得る。

次に現像処理工程を説明する。第３図（Ａ）に示すよう
に、スピンドルモータ等を回転駆動源として回転するタ
ーンテーブル１に固定された原盤１０１に純水ノズル１
０５から純水を流出させて原５１８１０１の洗浄、すな
わちプレリンスを行なう（第４図ステップ４１）。次に
現像液ノズル１０５から現像液（エツチング液）を吹き
つけてフォトレジスト１０５の露光部分を除去すること
で、潜像１０７から第５図（３）に示すような連続溝あ
るいは不連続溝からなる案内溝であるプレグルーブや、
情報に従って形成されるビット（以下。

これらプレグルーブやビット等を総称して単にグループ
９という）を得る（ステップ４３）。さらにこの現像処
理の終了した原盤１０１の表面に純水ノズル１０５から
純水を流出させて、原盤１０１に付着した現像液を洗浄
、すなわちポストリンスを行ない（ステップ４５）、現
像を停止した後に乾燥して（ステップ４７）、現像処理
を終了する。

尚、このとき純水ノズル１０５は第３図（Ｂ）に示すよ
うに、アーム１０５Ａによって揺動自在に支持され、原
盤１０１の略半径方向に水平に移動して純水が原１１！
１０１の全面に渡って流れるように構成される。

次に、第５図（４）に示すように、この原盤１０１にニ
ッケルメッキを施して樹脂成形の型となるスタンパ１１
１を成形する。

さらに第５図（５）に示すようにこのスタンパ１１１を
もとにした射出成形等のプラスチック成形によってレプ
リカ１１３を成形する。

この後に第５図（６）に示すように、蒸着等によりアル
ミニウム反射膜や記録ｇ１１１５を形成し、さらに−こ
の上面を透明な保護層１１７で被覆等して、光ディスク
が完成する。

尚、上述した現像処理は通常、処理時間を目安にして行
なわれるが、通常例えば原盤１０１の回転速度、現像液
濃度および現像液濃度等によって現像速度が異なり、従
って現像処理時間が同じであっても、グループ１０９の
形成状況、例えばグループ１０９の幅、深さが異なるも
のである。

（発明が解決しようとする課題） 一方、上述した現像処理で使用される現像液は、通常粘
着性を有するアルカリ溶液であって、そのため純水で洗
浄した際にも、現像によって形成されるグループ１０９
内等に付着して残留し易く、この現像液の洗浄には多聞
の純水と時間を費やさなければならなかった。

本発明は上記に鑑みてなされたもので、その目的として
は、現像液を短時間で完全に除去し得る現像＠置を提供
することにある。

［発明の構成］ （課題を解決するための手段） 上記目的を達成するため、本発明は原盤のフォトレジス
ト層に形成される潜像に現像液を液液して現像処理を施
した後、洗浄液を流して現像液を洗浄する現像手段と、
前記洗浄液の水圧を高める加圧手段とを具備した。

（作用） 本発明の現像装置においては、原像手段によって、原盤
のフォトレジストに形成された潜像に対する現像処理を
施した後に、原盤に付着した現像液を洗浄する際に、加
圧手段を用いて洗浄液に圧力を加えることによって、洗
浄液を原盤に向けて所定の圧力で噴出するようにしたの
で、通常粘着性を有して原盤に強く付着している現像液
を短時間にかつ完璧に洗浄するものである。

（実施例） 以下、図面を用いて本発明の一実施例を詳細に説明する
。

第１図の概略構成図に示されるように、本実施例の現像
装置は、ターンテーブル１に固定され、一定速度で回転
する原５１１ｉ１０１に向けて、現像液を吐出する現像
液ノズル３と、純水を流出する純水ノズル５と、高水圧
の純水を噴出する高圧水用ノズル７を備えている。これ
ら３種類のノズル３．５．７は、それぞれ原盤の概半径
方向に、水平に、移動自在であるように構成される。

この高圧水用ノズル７は、高圧水圧力レギュレータ９を
介して高圧ポンプ１１に接続される。

高圧水圧力レギュレータ９は、高圧水用ノズル７から噴
出する純水の圧力を調整する水圧調整弁を備え、フォト
レジスト１０５を損傷しない範囲で効率的に現像液を洗
浄しつる最適な水圧の純水が原盤に到達するように調整
する。

高圧ポンプ１１は、純水−次側口１７がら供給される純
水を所定の圧力まで加圧するためのポンプであって、空
気圧カー次側口１３がら得られる空気圧を口径の大であ
る一次側ピストンシリンダに導入して、この−次側ピス
トンシリンダより口径が小である二次側ピストンシリン
ダ側に高圧を発生させて、この二次側ピストンシリンダ
に導入される純水を加圧するようにするものである。

次に第２図のフローチャートに従って、本実施例の現像
処理工程を説明する。

露光処理によって潜像が形成された原盤１０１を、ター
ンテーブル１上に載置、固定した後、定速度で回転駆動
する。次に純水ノズル５の先端を原盤の半径方向に移動
させながらこの定速度回転する原盤１０１に純水ノズル
５から純水を流出させてプレリンスを行なう（ステップ
２１）。

このプレリンスが終了した後に、現像液を現像液ノズル
３から吐出、あるいはスプレー状に噴出して（ステップ
２３）、！光によって形成された潜像部分の７オトレジ
スト１０５の除去を行なう。

この現像処理の進行状況は、例えば原盤１０１に照射ユ
たレーザ光による回折光強度をモニタすることによって
監視され、あるいは所定時間の経過によって確認されて
、現像が適正量に達したときに現像液の吐出を終了する
。

次に、この原盤１０１に付着した現像液を洗浄するため
に、まず純水ノズル５から純水を流出させてポストリン
スを実流しくステップ２５）、さらに高圧水用ノズル７
から高水圧の純水を原盤１０１に向けて噴出して高圧水
リンスを行なう（ステップ２７）。

このとき、高圧で原盤に当った純水は、例えばグループ
１０９等の微細な窪み内に付着した現像液溜をも、撥ね
飛ばすようにして、洗浄を行なうので、短時間で、かつ
完全に現像液を洗浄することができる。

最後に、この洗浄の終了した原盤１０１に残留する純水
を乾燥させて（ステップ２９）、現像工程を終了させる
。

上述したように、本実施例においては、原盤１０１に付
着した現像液が短時間で全面に渡って完全に除去される
ので、現像ムラ等の防止とともに、現像処理工程におけ
る時間の短縮を計ることができる。

［発明の効果］ 以上説明したように、本発明によれば現像処理における
現像液の洗浄を、加圧された洗浄液によって行なうよう
にしたので、洗浄処理を短時間で、かつ完全に行なうこ
とができる等の効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の要部を示す概略構成図で、
第２図は第１図に係るフローチャート、第３図は従来例
の概略構成図、第４図は第３図に係るフローチャート、
第５図は光ディスクの製造工程を説明するための説明図
である。 ７・・・高圧水用ノズル １１・・・高圧ポンプ １３・・・空気圧カー次側口

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 　原盤のフォトレジスト層に形成される潜像に現像液を
   被液して現像処理を施した後、洗浄液を流して現像液を
   洗浄する現像手段と、 前記洗浄液の水圧を高める加圧手段とを具備したことを
   特徴とする現像装置。