JPH01220460A - 半導体装置のバンプ形成用ハンダ - Google Patents
半導体装置のバンプ形成用ハンダInfo
- Publication number
- JPH01220460A JPH01220460A JP4443088A JP4443088A JPH01220460A JP H01220460 A JPH01220460 A JP H01220460A JP 4443088 A JP4443088 A JP 4443088A JP 4443088 A JP4443088 A JP 4443088A JP H01220460 A JPH01220460 A JP H01220460A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solder
- bump forming
- semiconductor device
- main components
- aluminum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の要約
ICチップのバンプ材料をZ n / A j!系とし
たため、従来のS n / P b系よりも、耐熱性向
上。
たため、従来のS n / P b系よりも、耐熱性向
上。
電気伝導度向上、バンプ形成工程の簡略化等が可能とな
る。
る。
発明の背景
この発明は、半導体装置、とくにICチップを、半導体
基板、プリント配線基板等に実装するときに用いられる
バンプ形成材料、すなわちバンプ形成用ハンダに関する
。
基板、プリント配線基板等に実装するときに用いられる
バンプ形成材料、すなわちバンプ形成用ハンダに関する
。
従来のバンプ材料としては、金、またはスズ鉛系がよく
用いられ、kk近では特に、フリップチップ・ボンディ
ング法においてスズ鉛系が多く用いられるようになって
きた。しかしこのような従来のスズ鉛系のハンダでは融
点が低く、高集積化された近年のICチップは発熱量も
多く高温になるので熱に対する信頼性に問題がある。一
方、金を用いた場合には上記した耐熱性の問題は無いが
高価であり、またハンダ付で接着する場合ハンダ食われ
と呼ばれる現象が発生し、つけ直しができないという問
題がある。
用いられ、kk近では特に、フリップチップ・ボンディ
ング法においてスズ鉛系が多く用いられるようになって
きた。しかしこのような従来のスズ鉛系のハンダでは融
点が低く、高集積化された近年のICチップは発熱量も
多く高温になるので熱に対する信頼性に問題がある。一
方、金を用いた場合には上記した耐熱性の問題は無いが
高価であり、またハンダ付で接着する場合ハンダ食われ
と呼ばれる現象が発生し、つけ直しができないという問
題がある。
発明の概要
この発明は耐熱性があり、しかも比較的安価なバンプ形
成用ハンダを提供することを目的とする。
成用ハンダを提供することを目的とする。
この発明による半導体装置のバンプ形成用ハンダは、ア
ルミニウム(A()および亜鉛(Zn)を主成分とする
ことを特徴とする。
ルミニウム(A()および亜鉛(Zn)を主成分とする
ことを特徴とする。
この発明によればその構成をアルミニウムと亜鉛を主成
分とするバンプ形成材料としたので。
分とするバンプ形成材料としたので。
■ 融点を380℃程度まで上げることができ。
ICチップの発熱に対しても問題がない。
■ ICチップ等の半導体装置のアルミニウム電極に対
しても密着が強い。
しても密着が強い。
■ アルミニウム電極に特別な表面処理を必要としない
。
。
■ 材料が安価である。
■ ハンダ付をしてもハンダ食われが無い。
笠の効果が得られる。
実施例の説明
バンプ形成用ハンダの成分比2口/Aj!を約9/1と
した。固#[1線は379℃、液相線は390℃1作業
温度は380℃である。
した。固#[1線は379℃、液相線は390℃1作業
温度は380℃である。
このハンダを溶融した超音波式ハンダ槽(超音波周波数
21H1z、設定温度380〜400℃)を用いて、最
小ICパッドピッチ 180μ−のIC(80パツド)
を、1〜3 secデイツプ後引きあげ、基板」二にボ
ンディングした。雰囲気は非酸化雰囲気(N2を流した
)で行った。その結果80ピン(A、i7製)全てにつ
いて、ハンダの「ブリッジ現象」なくハンダをつけるこ
とができた。
21H1z、設定温度380〜400℃)を用いて、最
小ICパッドピッチ 180μ−のIC(80パツド)
を、1〜3 secデイツプ後引きあげ、基板」二にボ
ンディングした。雰囲気は非酸化雰囲気(N2を流した
)で行った。その結果80ピン(A、i7製)全てにつ
いて、ハンダの「ブリッジ現象」なくハンダをつけるこ
とができた。
以 上
Claims (1)
- アルミニウムおよび亜鉛を主成分とする半導体装置の
バンプ形成用ハンダ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4443088A JPH01220460A (ja) | 1988-02-29 | 1988-02-29 | 半導体装置のバンプ形成用ハンダ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4443088A JPH01220460A (ja) | 1988-02-29 | 1988-02-29 | 半導体装置のバンプ形成用ハンダ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01220460A true JPH01220460A (ja) | 1989-09-04 |
Family
ID=12691275
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4443088A Pending JPH01220460A (ja) | 1988-02-29 | 1988-02-29 | 半導体装置のバンプ形成用ハンダ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01220460A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5143865A (en) * | 1988-09-02 | 1992-09-01 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Metal bump type semiconductor device and method for manufacturing the same |
-
1988
- 1988-02-29 JP JP4443088A patent/JPH01220460A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5143865A (en) * | 1988-09-02 | 1992-09-01 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Metal bump type semiconductor device and method for manufacturing the same |
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