JPH01221675A - 電子ビーム装置の軸合せ方法 - Google Patents

電子ビーム装置の軸合せ方法

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JPH01221675A
JPH01221675A JP63048124A JP4812488A JPH01221675A JP H01221675 A JPH01221675 A JP H01221675A JP 63048124 A JP63048124 A JP 63048124A JP 4812488 A JP4812488 A JP 4812488A JP H01221675 A JPH01221675 A JP H01221675A
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JP
Japan
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pulse
electron beam
offset voltage
main
sub
Prior art date
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Pending
Application number
JP63048124A
Other languages
English (en)
Inventor
Soichi Hama
壮一 濱
Akio Ito
昭夫 伊藤
Toshihiro Ishizuka
俊弘 石塚
Kazuo Okubo
大窪 和生
Kazuyuki Ozaki
一幸 尾崎
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔1既  要〕 LSIの動作解析試験を行うための電子ビーム装置にお
けるビームの軸合せ方法に関し、主、副偏向器の動作状
態においてビームの軸合せを正しく行い得るようにする
ことを目的とし、直交する主偏向器と副偏向器とにそれ
ぞれパルスを印加して電子ビームを矩形走査し、一の主
偏向によって絞り孔を通過させて得られたパルスビーム
を試料に照射することによって発生した二次電子を検出
して試料の電圧を測定する電子ビーム装置において、主
偏向パルスおよび副偏向パルスを印加した状態で二次電
子電流が最大になるように副偏向パルスのオフセット電
圧を補正し、次に該補正されたオフセット電圧から所定
値ずらした値を副偏向パルスのオフセット電圧として与
え、主偏向パルスのオフセット電圧をOまたは主偏向パ
ルス振幅とした状態で二次電子電流が最大になるように
主偏向パルスのオフセット電圧の補正値を決定したのち
、該補正値から所定値ずらした値を主偏向パルスのオフ
セット電圧として与えるようにすることによって構成す
る。
〔産業上の利用分野〕
本発明はLSIの動作解析試験を行うための電子ビーム
装置におけるビームの軸合せ方法に関するものである。
LSIの内部回路の動作解析試験を行うためには、試料
に電子ビームを照射し発生する二次電子のエネルギーを
分析することによって、試料各部の電圧測定を行う電子
ビーム装置が有効であり、特に高速なLSIの動作解析
試験のためには、試料繰り返し動作に同期して電子ビー
ムをパルス状に試料に照射して電圧測定を行う、電子ス
トロボ法による電子ビームが開発されている。
このような電子ビーム装置においては、パルスビームの
軸合せを正しく行い得る方法が必要である。
〔従来の技術〕
第2図は従来のおよび本発明が適用される電子ビーム装
置の全体を示す概略構成図である。
第2図において、1は電子ビーム鏡筒であって内部は真
空に保たれており、電子銃2から放出された電子流は電
磁レンズを形成するコイル群3によって収束されて、下
部の試料台4上にセットされたIC5上に細いビームと
なって照射されるように構成されている。電子ビーム通
路には主偏向器6、副偏向器7が直交して設けられてい
て、それぞれパルスドライバ8,9を経てパルスを印加
することによって電子ビームを走査して絞り板10に設
けられた絞り孔11を経て短いパルスビームを発生させ
る。
第3図は電子ビームの偏向に基づくパルスビームの発生
を説明するものであって、主偏向器6と副偏向器7を形
成する対向する平面電極6+、Lおよび71.7!間に
、第4図に示すようなパルスを印加することによって、
絞り板10上において矩形の走査線12を描いて、走査
する。この際絞り孔11は走査線12の矩形の一辺上に
位置するように設けられており、これによって電子ビー
ムの走査ごとに電子ストロボ用の短いパルスビームを生
じる。
このようなパルスビームがIC5に照射されると、照射
位置のIC導体からはその導体の有する電圧値に対応す
るエネルギー(初速度)を有する二次電子が放出される
。この二次電子流は二次電子検出器13によって検出さ
れるが、二次電子経路には金属メツシュからなるエネル
ギー分析器14が設けられていて、電圧測定回路15か
ら負の電圧を与えられるようになっている。二次電子は
、エネルギー分析器14の直流電圧を超えるエネルギー
を有するものだけがこれを通過して二次電子検出器13
に捕らえられるので、電圧測定回路15において二次電
子検出器13の検出信号とエネルギー分析器14に与え
る電圧との関係を判別することによって、IC5の内部
回路を構成する各部の電圧を測定することができる。
さらにこの際ICドライバ16からパルスを与えてIC
5をパルス的に動作させるとともに、このパルスによっ
て制御回路】7を経てパルスドライバ8.9を駆動して
主偏向器6.副偏向器7を同期して走査させて、第3図
に説明したようにして短いパルスビームを同期的に発生
させることによって、ICの動作波形を高い時間分解能
で分析して検出することができる。
しかしながら各偏向器に与えるパルスの振幅やオフセッ
トがずれている等の原因で、絞り孔11に対する走査線
12の相対的な位置関係が正常な位置からずれているよ
うな場合には、十分なパルスビーム強度を得ることがで
きなかったり、パルスビームの照射タイミングがずれた
りして、■cの動作波形の分析を正しく行うことができ
ない。
これに対して従来は、第2図に示すように電子銃1に近
接してアライメントコイル18を設け、主偏向器6およ
び副偏向器7を停止状態にしてこれに適当な補正用直流
電流を流すことによって電子ビームに対して主偏向方向
および副偏向方向に直流的な位置補正を行うことによっ
て、走査線12の軸合せを行うようにしている。
〔発明が解決しようとする課題〕
電子ビーム装置において、電子ビームの軸合せを直流的
に行う従来の方法は、パルスによって電子ビームも走査
する主偏向手段および副偏向手段に変化を生じた場合は
これを救済することができず、従って動作状態における
電子ビームの軸合せを正しく行うことができないという
問題があった。
本発明はこのような従来の技術の課題を解決しようとす
るものであって、電子ビーム装置において主、副偏向器
の動作状態におて電子ビームの軸合せを正しく行うこと
ができるようにすることを目的としている。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の方法は第1図の実施例に示すように、直交する
主偏向器と副偏向器とにそれぞれパルスを印加して電子
ビームを矩形走査し、一の主偏向によって絞り孔を通過
させて得られたパルスビームを試料に照射することによ
って発生した二次電子を検出して試料の電圧を測定する
電子ビーム装置において、次のように主偏向パルスと副
偏向パルスのオフセット電圧を定めるものである。
副偏向パルスに対しては、主偏向パルスおよび副偏向パ
ルスを印加した状態で二次電子電流が最大になるように
副偏向パルスのオフセット電圧を補正する。
主偏向パルスに対しては、この補正されたオフセット電
圧から所定値ずらした値を副偏向パルスのオフセット電
圧として与え、主偏向パルスのオフセット電圧を0また
は主偏向パルス振幅とした状態で二次電子電流が最大に
なるように主偏向パルスのオフセット電圧の補正値を決
定したのち、この補正値から所定値ずらした値を主偏向
パルスのオフセット電圧として与える。
〔作 用〕
電子ビーム装置においては、直交する主偏向器と副偏向
器とにそれぞれパルスを印加して電子ビームを矩形走査
し、矩形の一辺をなす主偏向によって絞り孔を通過させ
て得られた短いパルスビームを試料に照射する。これに
よって試料から発生した二次電子を検出して試料の電圧
を測定する。
このような装置において、主偏向器と副偏向器の動作状
態でパルスビームの軸合せを行うために、主偏向パルス
および副偏向パルスのオフセット電圧を調整する。
副偏向パルスのオフセット電圧の調整は、主偏向パルス
および副偏向パルスを印加した状態で副偏向パルスのオ
フセット電圧を補正して、二次電子電流が最大になるよ
うにすることによって行うことができる。
また主偏向パルスのオフセット電圧の調整は、次のよう
にして行われる。まず副偏向パルスに対し、上述の補正
されたオフセット電圧から所定値(例えば副偏向パルス
振幅の1/2)ずらした値をオフセット電圧として与え
、主偏向パルスのオフセット電圧をOまたは主偏向パル
ス振幅とした状態で、主偏向パルスのオフセット電圧を
調整して二次電子電流が最大になるように主偏向パルス
のオフセット電圧の補正値を決定する。その後、副偏向
パルスのオフセット電圧をもとの値に戻し、求められた
主偏向パルスの補正値から所定値(例えば主偏向パルス
振幅の1/2)ずらした値を主偏向パルスのオフセット
電圧として与える。
これによって主偏向と副偏向におけるオフセット電圧の
誤差が除かれて、電子ビームの軸合せが正しく行われる
〔実施例〕
第1図は本発明の一実施例を示したものであって、(a
)は副偏向器の電圧補正を説明し、(blは主偏向器の
オフセット電圧補正を説明している。
第2図に示された電子ビーム装置において副偏向器7に
対する印加パルスのオフセット電圧を設定する際には、
装置を動作状態にしパルスドライバ9を制御して、第4
図に示された副偏向器印加パルスにおけるオフセット電
圧VsubをVsub−ΔVsubからVsub+ΔV
sub  (ΔVsubは任意の微小電圧値)まで変化
させながら、二次電子検出器で検出される二次電子電流
が最大になるようにする。
第1図(a)に示すように、電子ビームの走査it2が
絞り孔ll上を正しく通過したとき二次電子電流が最大
となるので、その時のオフセット電圧値Vsub+ΔV
so(ΔVsubは補正値)をパルスドライバ9におい
て設定し、これを基準として副偏向器印加パルスを与え
るようにする。
次に主偏向器6に対する印加パルスのオフセット電圧を
設定する陣には、副偏向器7に対し所定は副偏向印加パ
ルスの振幅値)を固定的にオフセット電圧として与える
。次にパルスドライバ8を制御して主偏向器6に対する
オフセット電圧を所定値Vmain(例えばVmain
     ’會からV’ma i n (V’ma i
 nはOまたは主偏向パルスの振幅値に変更して例えば
第1図(b)に示すような電子ビーム走査線12と絞り
孔11の相対位置関係とする。
この状態において主偏向器印加パルスにおけるオフセッ
ト電圧をV’m a i n−ΔVmainからV’m
 a i n+ΔVmain(ΔVmainは任意の微
小電圧値)まで変化させながら、二次電子検出器13で
検出される二次電子電流が増大になるようにする。
この場合も電子ビームの走査vA12が絞り11上を正
しく通過したとき二次電子電流が最大となるので、その
ときのオフセット電圧VmaLn+Δv、4゜は(ΔV
NOは補正値)を求める。動作状態において主偏向器6
に対するオフセット電圧として、Vmain+Δv8゜
をパルスドライバ8において設定し、これを基準として
主偏向器印加パルスを与えるようにする。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば、電子ビーム装置に
おいて主、副偏向器の動作状態においてそれぞれ印加パ
ルスのオフセット電圧を補正するようにしたので、動作
状態における電子ビームの軸合せを正しく行うことがで
きる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す図、 第2図は従来のおよび本発明が適用される電子ビーム装
置の概略構成を示す図、 第3図はパルスビームの発生を説明する図、第4図は偏
向器印加パルスを示す図である。 5・・・IC 6・・・主偏向器 7・・・副偏向器 8.9・・・パルスドライバ 11・・・絞り孔 13・・・二次電子検出器 特許出願人   富士通 株式会社 代理人 弁理士 玉 蟲 久五部 (外1名) (G)              (b)本発明の一
実施例を示す図 箪1図 11・−絞り孔  14・−エネルギー分析器電子ビー
ム表置の概略構成図 第 2 図 パルスビームの発生き説明す2図 第3図 偏向器印加パルスを示す図 第4図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  直交する主偏向器(6)と副偏向器(7)とにそれぞ
    れパルスを印加して電子ビームを矩形走査し、一の主偏
    向によつて絞り孔(11)を通過させて得られたパルス
    ビームを試料に照射することによつて発生した二次電子
    を検出して試料の電圧を測定する電子ビーム装置におい
    て、 主偏向パルスおよび副偏向パルスを印加した状態で二次
    電子電流が最大になるように副偏向パルスのオフセット
    電圧を補正し、 次に該補正されたオフセット電圧から所定値ずらした値
    を副偏向パルスのオフセット電圧として与え、主偏向パ
    ルスのオフセット電圧を0または主偏向パルス振幅とし
    た状態で二次電子電流が最大になるように主偏向パルス
    のオフセット電圧の補正値を決定したのち、該補正値か
    ら所定値ずらした値を主偏向パルスのオフセット電圧と
    して与えるようにすることを特徴とする電子ビーム装置
    の軸合せ方法。
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