JPH0122607B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0122607B2 JPH0122607B2 JP12780680A JP12780680A JPH0122607B2 JP H0122607 B2 JPH0122607 B2 JP H0122607B2 JP 12780680 A JP12780680 A JP 12780680A JP 12780680 A JP12780680 A JP 12780680A JP H0122607 B2 JPH0122607 B2 JP H0122607B2
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- JP
- Japan
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- transparent electrode
- transparent
- electrode layer
- insulating film
- transparent insulating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/13439—Electrodes characterised by their electrical, optical, physical properties; materials therefor; method of making
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/06—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
- H05K3/061—Etching masks
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/24—Reinforcing of the conductive pattern
- H05K3/245—Reinforcing conductive patterns made by printing techniques or by other techniques for applying conductive pastes, inks or powders; Reinforcing other conductive patterns by such techniques
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- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
- Structure Of Printed Boards (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、液晶表示装置に使用される所定の形
状をした透明電極を表面に有する透明電極基板の
製造方法に関する。
状をした透明電極を表面に有する透明電極基板の
製造方法に関する。
第１図は、一般的な液晶表示装置に使用される
透明電極基板の側断面図であり、透明ガラス基板
などの透明絶縁基板１上に、所定形状の透明電極
層２を形成し、該透明電極層２上に、液晶の配向
処理用に透明絶縁膜４を被覆した構造になつてい
る。
透明電極基板の側断面図であり、透明ガラス基板
などの透明絶縁基板１上に、所定形状の透明電極
層２を形成し、該透明電極層２上に、液晶の配向
処理用に透明絶縁膜４を被覆した構造になつてい
る。
従来の透明電極基板製造方法は、まず透明絶縁
基板１の一面全面に、酸化インジウム系の透明電
極層を真空蒸着法、スパツタリング法等により形
成し、その上面にフオトレジストをスクリーン印
刷法により、所定のパターンに形成した後、透明
電極層をエツチングし、しかる後、フオトレジス
トを除去して、所定形状の透明電極層２を形成し
ていた。次に、該透明電極層２上に、液晶の配向
材であるSiO2膜、TiO2膜等の透明絶縁膜３をコ
ートして配向処理を行い透明電極基板を製作して
いた。しかし、叙上の方法では、清浄であるべき
透明電極層２の表面が、フオトレジストをコート
するため汚れ、洗浄を慎重に行つても、よごれを
完全に除外することは困難で、その為に配向材
（絶縁材）を、均一にコートできなかつたり、又
液晶表示装置として完成しても、長期間後には、
液晶の配向乱れが生じ、信頼性に欠けるという欠
点があつた。
基板１の一面全面に、酸化インジウム系の透明電
極層を真空蒸着法、スパツタリング法等により形
成し、その上面にフオトレジストをスクリーン印
刷法により、所定のパターンに形成した後、透明
電極層をエツチングし、しかる後、フオトレジス
トを除去して、所定形状の透明電極層２を形成し
ていた。次に、該透明電極層２上に、液晶の配向
材であるSiO2膜、TiO2膜等の透明絶縁膜３をコ
ートして配向処理を行い透明電極基板を製作して
いた。しかし、叙上の方法では、清浄であるべき
透明電極層２の表面が、フオトレジストをコート
するため汚れ、洗浄を慎重に行つても、よごれを
完全に除外することは困難で、その為に配向材
（絶縁材）を、均一にコートできなかつたり、又
液晶表示装置として完成しても、長期間後には、
液晶の配向乱れが生じ、信頼性に欠けるという欠
点があつた。
本発明は、叙上の欠点を解消し、信頼性の高い
液晶表示装置を提供するためになされたものであ
る。
液晶表示装置を提供するためになされたものであ
る。
本発明の特徴は、作来のフオトレジストの代り
に、熱分解によりSiO2、TiO2などの金属酸化物
となる有機ケイ素化合物、有機チタン化合物など
の有機金属化合物を含む有機物膜をエツチングレ
ジストとして使用したことである。
に、熱分解によりSiO2、TiO2などの金属酸化物
となる有機ケイ素化合物、有機チタン化合物など
の有機金属化合物を含む有機物膜をエツチングレ
ジストとして使用したことである。
第２図は、本発明による透明電極基板の製造工
程を示す図で、透明電極基板製造にあたつては、
まず、ａ図に示すように、透明ガラス基板１の一
面全面に、酸化インジウム系透明電極層２ａを真
空蒸着法又はスパツタリング法等により形成す
る。次に、有機ケイ素化合物、有機チタン化合物
等の有機化合物と、ニトロセルローズ、エチルセ
ルローズ等のセルローズ系有機バインダーと、適
当な有機溶媒を均一分散混合して、粘度が30000
〜50000cpsになるように作成したスクリーン印刷
可能なペーストを用い、ｂ図に示すごとく、前記
透明電極層２ａ上に、スクリーン印刷により所定
の形状に塗布し、150〜180℃で乾燥固着させ、有
機金属化合物を含む有機物膜３ａを形成する。な
お、有機金属化合物としては、有機ケイ素化合物
として、テトラエチルシリケート、テトラメチル
シリケート等があり、有機チタン化合物として、
テトラプロピルチタネート、テトラブチルチタネ
ート等がある。又、有機溶媒としては、ベンジル
アルコール、酢酸ベンジル等の有機溶媒が適当で
きる。次いで、希塩酸、希硝酸などの溶液を用い
て、前記透明電極層２ａの表面に前記有機物膜３
ａを設けた部分以外をエツチングにより除去し、
ｃ図に示すように、所定形状の透明電極層２を形
成した後、ガラス基板１の融点（ソーダガラスで
は約500℃）以下の温度で焼成し、前記有機物膜
３ａを熱分解させ、ｄ図に示すようにSiO2、
TiO2などの金属酸化物を組成とする透明絶縁膜
３を形成する。なお、有機物膜３ａ中に含まれる
有機バインダー及有機溶媒は、焼成によりガス化
して解離し、透明絶縁膜３中には含まれない。最
後に、透明ガラス基板の前記透明電極層２及前記
透明絶縁膜３を形成した面全面に、SiO2、TiO2
などの金属酸化物からなる透明絶縁被膜４をコー
トして、透明電極基板を完全する。
程を示す図で、透明電極基板製造にあたつては、
まず、ａ図に示すように、透明ガラス基板１の一
面全面に、酸化インジウム系透明電極層２ａを真
空蒸着法又はスパツタリング法等により形成す
る。次に、有機ケイ素化合物、有機チタン化合物
等の有機化合物と、ニトロセルローズ、エチルセ
ルローズ等のセルローズ系有機バインダーと、適
当な有機溶媒を均一分散混合して、粘度が30000
〜50000cpsになるように作成したスクリーン印刷
可能なペーストを用い、ｂ図に示すごとく、前記
透明電極層２ａ上に、スクリーン印刷により所定
の形状に塗布し、150〜180℃で乾燥固着させ、有
機金属化合物を含む有機物膜３ａを形成する。な
お、有機金属化合物としては、有機ケイ素化合物
として、テトラエチルシリケート、テトラメチル
シリケート等があり、有機チタン化合物として、
テトラプロピルチタネート、テトラブチルチタネ
ート等がある。又、有機溶媒としては、ベンジル
アルコール、酢酸ベンジル等の有機溶媒が適当で
きる。次いで、希塩酸、希硝酸などの溶液を用い
て、前記透明電極層２ａの表面に前記有機物膜３
ａを設けた部分以外をエツチングにより除去し、
ｃ図に示すように、所定形状の透明電極層２を形
成した後、ガラス基板１の融点（ソーダガラスで
は約500℃）以下の温度で焼成し、前記有機物膜
３ａを熱分解させ、ｄ図に示すようにSiO2、
TiO2などの金属酸化物を組成とする透明絶縁膜
３を形成する。なお、有機物膜３ａ中に含まれる
有機バインダー及有機溶媒は、焼成によりガス化
して解離し、透明絶縁膜３中には含まれない。最
後に、透明ガラス基板の前記透明電極層２及前記
透明絶縁膜３を形成した面全面に、SiO2、TiO2
などの金属酸化物からなる透明絶縁被膜４をコー
トして、透明電極基板を完全する。
即ち、透明絶縁膜３と透明絶縁被膜４とは全く
同一の組成物にて形成されている。
同一の組成物にて形成されている。
叙上の通り、本発明によれば透明電極層表面の
フオトレジストによる汚れは、完全になく、透明
絶縁被膜に安定な配向処理が行なわれ、従つて液
晶の配向乱れのない信頼性の高い液晶表示装置を
提供できるという大きなメリツトがある。又、フ
オトレジスト除去等の複雑な工程をなくすること
ができる利点もある。
フオトレジストによる汚れは、完全になく、透明
絶縁被膜に安定な配向処理が行なわれ、従つて液
晶の配向乱れのない信頼性の高い液晶表示装置を
提供できるという大きなメリツトがある。又、フ
オトレジスト除去等の複雑な工程をなくすること
ができる利点もある。
第１図は、一般的な透明電極基板の構造を示す
部分側断面図、第２図は、本発明による透明電極
基板製造の工程図である。 １：透明絶縁基板（透明ガラス基板）、２：所
定形状の透明電極層、２ａ：透明電極層、３：透
明絶縁膜、３ａ：有機物膜、４：透明絶縁被膜。
部分側断面図、第２図は、本発明による透明電極
基板製造の工程図である。 １：透明絶縁基板（透明ガラス基板）、２：所
定形状の透明電極層、２ａ：透明電極層、３：透
明絶縁膜、３ａ：有機物膜、４：透明絶縁被膜。
Claims (1)
- １ 透明絶縁基板上に、所定形状の透明電極層を
形成し、該透明電極層上に、透明絶縁膜を被覆し
てなる透明電極基板の製造方法において、透明絶
縁基板の一面全面に、透明電極層を形成する工程
と、熱分解により透明絶縁膜組成物である金属酸
化物となる有機金属化合物と、有機溶媒と、有機
バインダーとを混練して得られるペーストを、ス
クリーン印刷法により、透明電極層上に、所定の
形状に、塗布し、乾燥、固着させる工程と、透明
電極層を前記所定の形状にエツチングする工程
と、所定の温度で熱処理し、金属酸化物を組成物
とした透明絶縁膜を、透明電極層上に形成させる
工程と、さらに該透明絶縁膜上に、金属酸化物か
らなる透明絶縁被膜をコートする工程とからなる
ことを特徴とする透明電極基板製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12780680A JPS5752024A (en) | 1980-09-13 | 1980-09-13 | Manufacture of transparent electrode substrate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12780680A JPS5752024A (en) | 1980-09-13 | 1980-09-13 | Manufacture of transparent electrode substrate |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5752024A JPS5752024A (en) | 1982-03-27 |
| JPH0122607B2 true JPH0122607B2 (ja) | 1989-04-27 |
Family
ID=14969132
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12780680A Granted JPS5752024A (en) | 1980-09-13 | 1980-09-13 | Manufacture of transparent electrode substrate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5752024A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS606943A (ja) * | 1983-06-25 | 1985-01-14 | Futaba Corp | 感光性組成物および感光性組成物による微細パタ−ン形成方法 |
| JPS61184532A (ja) * | 1985-02-13 | 1986-08-18 | Tokyo Denshi Kagaku Kk | 感光性組成物 |
| JP2548314B2 (ja) * | 1988-07-22 | 1996-10-30 | 松下電器産業株式会社 | サーマルヘッドの製造法 |
| JP4781776B2 (ja) * | 2005-10-24 | 2011-09-28 | 三菱電機株式会社 | 配線基板、表示装置及び配線基板の製造方法 |
-
1980
- 1980-09-13 JP JP12780680A patent/JPS5752024A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5752024A (en) | 1982-03-27 |
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