JPH01232518A - 磁気記録媒体表面の炭素質膜形成方法 - Google Patents
磁気記録媒体表面の炭素質膜形成方法Info
- Publication number
- JPH01232518A JPH01232518A JP5704488A JP5704488A JPH01232518A JP H01232518 A JPH01232518 A JP H01232518A JP 5704488 A JP5704488 A JP 5704488A JP 5704488 A JP5704488 A JP 5704488A JP H01232518 A JPH01232518 A JP H01232518A
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- Japan
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- film
- magnetic
- carbon particles
- magnetic film
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気記録媒体の磁性膜面を被覆する炭素質膜の
形成方法に関する。
形成方法に関する。
〔従来の技術］
非磁性基体に金属系薄膜を磁性膜として形成した金属薄
膜型磁気記録媒体において、その記録メディアとしての
機能および耐用寿命を安定化するには、磁性膜面とこれ
に近接対向する記録・再生用磁気ヘッドとの接触を滑ら
かにし、かつ磁気ヘッドと磁性膜の摩耗・損傷を防止す
ることが必要なことは言うまでもない。近時、そのため
の潤滑膜として、ダイヤモンド状またはグラファイト状
等の炭素質膜を、真空蒸着法やスパッタリング法等によ
り磁性膜面に形成することが提案され、実用されつつあ
る。
膜型磁気記録媒体において、その記録メディアとしての
機能および耐用寿命を安定化するには、磁性膜面とこれ
に近接対向する記録・再生用磁気ヘッドとの接触を滑ら
かにし、かつ磁気ヘッドと磁性膜の摩耗・損傷を防止す
ることが必要なことは言うまでもない。近時、そのため
の潤滑膜として、ダイヤモンド状またはグラファイト状
等の炭素質膜を、真空蒸着法やスパッタリング法等によ
り磁性膜面に形成することが提案され、実用されつつあ
る。
前記炭素質膜は、それ自身耐摩耗性が高（、かつ良好な
潤滑特性を有する膜体であるが、従来の成膜法により形
成される炭素質膜は、磁性膜との密着性、緻密性等の点
で必ずしも十分ではなく、また所望の潤滑機能を得るに
は膜厚を厚くすることが必要である。潤滑膜の膜厚を厚
くすると、それだけ磁性膜と磁気ヘッドとの間の実効距
離が大きくなり、記録性能の低下（記録密度低下、再生
出力の低下、ノイズの増大等）を招くことになる。
潤滑特性を有する膜体であるが、従来の成膜法により形
成される炭素質膜は、磁性膜との密着性、緻密性等の点
で必ずしも十分ではなく、また所望の潤滑機能を得るに
は膜厚を厚くすることが必要である。潤滑膜の膜厚を厚
くすると、それだけ磁性膜と磁気ヘッドとの間の実効距
離が大きくなり、記録性能の低下（記録密度低下、再生
出力の低下、ノイズの増大等）を招くことになる。
゛本発明は上記に鑑み、磁性膜面を保護する炭素質膜の
改良された成膜方法を提供するものである。
改良された成膜方法を提供するものである。
〔問題点を解決するための手段および作用〕本発明に係
る炭素質膜の形成方法は、磁気記録媒体の磁性膜面にイ
オン化カーボンを付着堆積させることを特徴としている
。
る炭素質膜の形成方法は、磁気記録媒体の磁性膜面にイ
オン化カーボンを付着堆積させることを特徴としている
。
本発明による炭素質膜の成膜は、真空（例えば、１０−
’−１０−”Ｔｏｒｒ）下に、カーボン源から供給さ
れるカーボン粒子を、イオン化電極を介して帯電させて
磁性膜面に付着させることにより行われる。
’−１０−”Ｔｏｒｒ）下に、カーボン源から供給さ
れるカーボン粒子を、イオン化電極を介して帯電させて
磁性膜面に付着させることにより行われる。
その成膜において、磁性膜を有する基体を接地しておけ
ば、イオン化されたカーボン粒子は加速され、それだけ
運動エネルギの大きい状態で磁性膜面に衝突し、その運
動エネルギが結合エネルギとなって磁性膜との結合、お
よびカーボン粒子同士の結合を強化することにより、形
成される炭素質膜の緻密性、密着性等が高められる。
ば、イオン化されたカーボン粒子は加速され、それだけ
運動エネルギの大きい状態で磁性膜面に衝突し、その運
動エネルギが結合エネルギとなって磁性膜との結合、お
よびカーボン粒子同士の結合を強化することにより、形
成される炭素質膜の緻密性、密着性等が高められる。
カーボン源から蒸発するカーボン粒子をイオン化するた
めのイオン化電流は、約０．３〜２．ＯＡ程度が適当で
ある。それより低いと、イオン化による膜質改善効果が
少な（、逆に高いと、磁性膜面上で逆スパツタ現象が生
じ、膜厚分布が不均一化することがあるからである。
めのイオン化電流は、約０．３〜２．ＯＡ程度が適当で
ある。それより低いと、イオン化による膜質改善効果が
少な（、逆に高いと、磁性膜面上で逆スパツタ現象が生
じ、膜厚分布が不均一化することがあるからである。
上記のようにイオン化したカーボン粒子を磁性膜面に付
着させることにより形成される炭素質膜は、膜質が均一
で緻密であり、かつ磁性膜との密着性が良く、硬質・高
耐摩耗性を有し、従ってその膜厚は比較的薄（てよく、
例えば１５０〜３００人の膜厚で十分な潤滑膜機能を得
ることができる。
着させることにより形成される炭素質膜は、膜質が均一
で緻密であり、かつ磁性膜との密着性が良く、硬質・高
耐摩耗性を有し、従ってその膜厚は比較的薄（てよく、
例えば１５０〜３００人の膜厚で十分な潤滑膜機能を得
ることができる。
本発明の対象とする金属薄膜型磁気記録媒体は、磁気デ
ィスクをはじめ、各種磁気ドラム、磁気テープ、磁気シ
ート等が包含される。これらは、いずれもその磁性膜表
面を被覆する炭素質膜が、イオン化カーボン粒子の付着
堆積により形成される点を除いて、公知の一般的な工程
および条件に従って製作することができる。例えば、面
内記録用磁気ディスクについて述べれば、アルミニウム
合金板等を基体とし、その表面に硬質のＮ１−Ｐめっき
膜（膜厚：例えば１５〜２５μｍ）を設け、めっき膜面
にテキスチャ処理を施したのち、磁性膜に面内異方性を
与えるための下地層としてＣｒ膜（膜厚：例えば５００
〜３０００人）を形成し、Ｃｒ膜面上に磁性膜（Ｃｏ、
ＣｏＮｉ系、ＣｏＣｒ系、ＣｏＮｉＣｒ系等）を所定の
膜厚（例えば５００〜２０００人）に形成する。・つい
でその膜面にイオン化されたカーボン粒子を付着堆積さ
せて所要膜厚の炭素質膜を形成することにより、多層積
層構造を有する面内記録用磁気ディスクを得る。
ィスクをはじめ、各種磁気ドラム、磁気テープ、磁気シ
ート等が包含される。これらは、いずれもその磁性膜表
面を被覆する炭素質膜が、イオン化カーボン粒子の付着
堆積により形成される点を除いて、公知の一般的な工程
および条件に従って製作することができる。例えば、面
内記録用磁気ディスクについて述べれば、アルミニウム
合金板等を基体とし、その表面に硬質のＮ１−Ｐめっき
膜（膜厚：例えば１５〜２５μｍ）を設け、めっき膜面
にテキスチャ処理を施したのち、磁性膜に面内異方性を
与えるための下地層としてＣｒ膜（膜厚：例えば５００
〜３０００人）を形成し、Ｃｒ膜面上に磁性膜（Ｃｏ、
ＣｏＮｉ系、ＣｏＣｒ系、ＣｏＮｉＣｒ系等）を所定の
膜厚（例えば５００〜２０００人）に形成する。・つい
でその膜面にイオン化されたカーボン粒子を付着堆積さ
せて所要膜厚の炭素質膜を形成することにより、多層積
層構造を有する面内記録用磁気ディスクを得る。
〔実施例］
（１）供試磁気ディスクの製作
アルミニウム合金基体にＮ１−Ｐめっき膜、Ｃｒ膜（膜
厚２５００人）およびＣｏＮｉＣｒ合金磁性膜（膜厚８
００人）がこの順に形成された磁気ディスク（５，２５
”型）を準備し、その磁性膜面に第１図の装置により炭
素質膜を形成する。（１）は真空槽、（２）はカーボン
源容器、（４）はカーボン源（３）に電子ビームを照射
する電子銃、（５）はカーボンイオン化電極である。（
６）は磁気ディスク取付部であり、磁気ディスク（Ｓ）
は取付は部（６）を介してアースされている。真空槽（
１）内は５ Ｘ １０−”Ｔｏｒｒに保持した。また、
イオン化電流は、０〜３．ＯＡの範囲内で設定した。
厚２５００人）およびＣｏＮｉＣｒ合金磁性膜（膜厚８
００人）がこの順に形成された磁気ディスク（５，２５
”型）を準備し、その磁性膜面に第１図の装置により炭
素質膜を形成する。（１）は真空槽、（２）はカーボン
源容器、（４）はカーボン源（３）に電子ビームを照射
する電子銃、（５）はカーボンイオン化電極である。（
６）は磁気ディスク取付部であり、磁気ディスク（Ｓ）
は取付は部（６）を介してアースされている。真空槽（
１）内は５ Ｘ １０−”Ｔｏｒｒに保持した。また、
イオン化電流は、０〜３．ＯＡの範囲内で設定した。
上記装置において、電子銃（４）によりカーボン源（３
）に電子ビームを照射してカーボンを蒸発させ、イオン
化電極（５）によりイオン化し、磁気ディスク（Ｓ）の
磁性膜面に付着堆積させることにより、膜厚２００〜３
５０人の炭素質膜を形成した。
）に電子ビームを照射してカーボンを蒸発させ、イオン
化電極（５）によりイオン化し、磁気ディスク（Ｓ）の
磁性膜面に付着堆積させることにより、膜厚２００〜３
５０人の炭素質膜を形成した。
（Ｉｆ）炭素質膜品質試験
各供試磁気ディスクについて、炭素質膜の膜厚分布測定
、耐摩耗性、潤滑性を評価し、第１表に示す結果を得た
。
、耐摩耗性、潤滑性を評価し、第１表に示す結果を得た
。
表中、「膜厚分布」欄は膜厚のバラツキが所定基準内に
あるものを「○」、そうでないものを「×」で示してい
る。
あるものを「○」、そうでないものを「×」で示してい
る。
耐摩耗性については、供試磁気ディスクに磁気ヘッド（
フェライト系モノヘッド）を接触させ（垂直荷重１０ｇ
）、回転速度１１００ｒｐで４８時間摺接させる摩耗試
験を行い、試験後の膜面の損傷の有無により耐摩耗性の
良否を判定した。「耐摩耗性」欄の数値は、良品の割合
（％）を示している。
フェライト系モノヘッド）を接触させ（垂直荷重１０ｇ
）、回転速度１１００ｒｐで４８時間摺接させる摩耗試
験を行い、試験後の膜面の損傷の有無により耐摩耗性の
良否を判定した。「耐摩耗性」欄の数値は、良品の割合
（％）を示している。
また、潤滑性については、上記摩耗試験における２４時
間経過後の静止摩擦係数（μＳ）を測定した。
間経過後の静止摩擦係数（μＳ）を測定した。
第１表に示したように、カーボンをイオン化して炭素質
膜を形成することにより、イオン化しないで成膜した場
合（Ｎα１）に比べて、耐摩耗性が飛躍的に向上してい
る。特に、イオン化電流を１．０〜２．ＯＡに調節して
炭素質膜を形成したＮｏ、 ３〜５は、膜厚が均一で、
かつ安定した潤滑性を備えている。
膜を形成することにより、イオン化しないで成膜した場
合（Ｎα１）に比べて、耐摩耗性が飛躍的に向上してい
る。特に、イオン化電流を１．０〜２．ＯＡに調節して
炭素質膜を形成したＮｏ、 ３〜５は、膜厚が均一で、
かつ安定した潤滑性を備えている。
Ｎα６およびＮα７の膜厚のバラツキが大きいのは、イ
オン化電流が過大なため、磁性膜面上で逆スパツタが生
じたことによる。また、イオン化電流の低い陥、２では
、カーボンのイオン化による膜質の均質・緻密化効果が
不足したため、耐摩耗および潤滑性の点で、隨３〜５に
比べて劣っている。
オン化電流が過大なため、磁性膜面上で逆スパツタが生
じたことによる。また、イオン化電流の低い陥、２では
、カーボンのイオン化による膜質の均質・緻密化効果が
不足したため、耐摩耗および潤滑性の点で、隨３〜５に
比べて劣っている。
本発明によれば、磁性膜面に、密着性が良く耐摩耗性お
よび潤滑性にすぐれた均質で緻密な炭素質膜を形成する
ことができ、従って磁気記録媒体の記録メディア機能の
安定化、耐用寿命の向上に大きな効果が得られ、またそ
の炭素質膜の薄膜化により、記録密度の向上、再生出力
の向上、再生ノイズの低減等諸効果が得られる。
よび潤滑性にすぐれた均質で緻密な炭素質膜を形成する
ことができ、従って磁気記録媒体の記録メディア機能の
安定化、耐用寿命の向上に大きな効果が得られ、またそ
の炭素質膜の薄膜化により、記録密度の向上、再生出力
の向上、再生ノイズの低減等諸効果が得られる。
第１図は本発明による炭素質膜の形成方法の例を示す図
である。 １：真空槽、３：カーボン源、５：イオン化電極、Ｓ：
磁気ディスク。
である。 １：真空槽、３：カーボン源、５：イオン化電極、Ｓ：
磁気ディスク。
Claims (1)
- １、非磁性基体に金属系磁性膜が形成された磁気記録媒
体の該磁性膜表面に、イオン化カーボン粒子を付着堆積
させることを特徴とする磁気記録媒体表面の炭素質膜の
形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5704488A JPH01232518A (ja) | 1988-03-10 | 1988-03-10 | 磁気記録媒体表面の炭素質膜形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5704488A JPH01232518A (ja) | 1988-03-10 | 1988-03-10 | 磁気記録媒体表面の炭素質膜形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01232518A true JPH01232518A (ja) | 1989-09-18 |
Family
ID=13044448
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5704488A Pending JPH01232518A (ja) | 1988-03-10 | 1988-03-10 | 磁気記録媒体表面の炭素質膜形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01232518A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61224140A (ja) * | 1985-03-29 | 1986-10-04 | Sony Corp | 磁気デイスクの製造方法 |
| JPS6433722A (en) * | 1987-07-30 | 1989-02-03 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Production of magnetic recording medium |
-
1988
- 1988-03-10 JP JP5704488A patent/JPH01232518A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61224140A (ja) * | 1985-03-29 | 1986-10-04 | Sony Corp | 磁気デイスクの製造方法 |
| JPS6433722A (en) * | 1987-07-30 | 1989-02-03 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Production of magnetic recording medium |
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