JPH01239603A - プロセス制御装置 - Google Patents

プロセス制御装置

Info

Publication number
JPH01239603A
JPH01239603A JP63066523A JP6652388A JPH01239603A JP H01239603 A JPH01239603 A JP H01239603A JP 63066523 A JP63066523 A JP 63066523A JP 6652388 A JP6652388 A JP 6652388A JP H01239603 A JPH01239603 A JP H01239603A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
control
proportional
integral
target value
proportional gain
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP63066523A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH07104681B2 (ja
Inventor
Kazuo Hiroi
広井 和男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP63066523A priority Critical patent/JPH07104681B2/ja
Priority to AU31210/89A priority patent/AU608421B2/en
Priority to DE68919248T priority patent/DE68919248T2/de
Priority to EP89302608A priority patent/EP0333477B1/en
Priority to US07/324,771 priority patent/US5029066A/en
Priority to CN89101575A priority patent/CN1024849C/zh
Priority to KR1019890003389A priority patent/KR920004079B1/ko
Publication of JPH01239603A publication Critical patent/JPH01239603A/ja
Publication of JPH07104681B2 publication Critical patent/JPH07104681B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B19/00Program-control systems
    • G05B19/02Program-control systems electric
    • G05B19/18Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of program data in numerical form
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B11/00Automatic controllers
    • G05B11/01Automatic controllers electric
    • G05B11/36Automatic controllers electric with provision for obtaining particular characteristics, e.g. proportional, integral, differential
    • G05B11/42Automatic controllers electric with provision for obtaining particular characteristics, e.g. proportional, integral, differential for obtaining a characteristic which is both proportional and time-dependent, e.g. P. I., P. I. D.
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B13/00Adaptive control systems, i.e. systems automatically adjusting themselves to have a performance which is optimum according to some preassigned criterion
    • G05B13/02Adaptive control systems, i.e. systems automatically adjusting themselves to have a performance which is optimum according to some preassigned criterion electric

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Artificial Intelligence (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Evolutionary Computation (AREA)
  • Medical Informatics (AREA)
  • Software Systems (AREA)
  • Feedback Control In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的J (産業上の利用分野) 本発明は制御対象からフィードバックされる制御量とこ
の目標値との偏差偏差に対して、比例。
積分、微分の各演算を実行して調節演算出力を算出する
プロセス制御装置の改良に関する。
(従来の技術) この種のプロセス制御装置の基本をなす比例(P)、積
分(I)、微分(D)制御アルゴリズムは、従来その各
制御定数(比例ゲイン、積分時間、微分時間)が1種類
しか設定できない、いわゆる]自由度PID制御アルゴ
リズムであった。
そして、このプロセス制御装置による応答特性は、その
各制御定数の調整状態によって決定され、通常のプロセ
ス制御にあっては、各制御定数が制御対象に対して外乱
が加わった場合にこの影曾を早急に抑制し得る状態、す
なわち外乱抑制最適特性状態に調整されている。゛ しかし、外乱抑制最適特性状態に制御定数が設定されて
いると、目標値を変更した場合に制御が行過ぎてしまい
、目標値の変化に制御2が追随せずオーバーシュートを
生じてしまう。また、目標値変化に制御量が最適に追随
する状態、すなわち目標値追随最適特性状態に制御定数
を設定しておくと、外乱に対する抑制特性が非常にぼく
なり、応答性が長時間化してしまう。そこで最近では、
例えば本出願人による″特願昭60−131925号“
に開示されているように、制御定数を目標値追随、外乱
抑制の双方に最適な特性状態へと各々独立に調整し得る
ようにした、2自由度PID制御アルゴリズムが提案さ
れてきている。そして、これをプラントの制御系全体に
適用することによって、制御性を大いに向上させること
が可能となってきた。中でも、最も基本的なものは目標
値フィルタ形であり、第7図は比例(P)動作のみ2自
由度化したプロセス制御装置を示す機能ブロック図であ
る。
第7図において、1は偏差演算部、2は微分先行形の制
御演算部、3は制御対象、4は補償演算部である。偏差
演算部1は、制御対象3からフィードバックされる制御
Q P Vと、この目標値Svを補償演算部4を介して
得られる修正目標値SV−との偏差ε(−3V−−PV
)を算出している。また制御演算部2は、偏差演算部1
からの偏差εに対して、制御量PVの外乱りによる変動
を最適に抑制する特性状態に調整された制御定数(比例
ゲインKP、積分時間TI、微分時間To)に基づいて
比例、積分、微分の各演算を実行し、制御量PVが目標
値SVに一致するように調節演算出力MVを算出し、制
御対象3に出力している。
すなわち、制御演算部2は、(1+1/T、−3)なる
比例+積分演算部21と、減算部22と。
(TD−3/1+ηTD−8)なる不完全微分演算部2
3と、KPなる比例ゲイン部24とからなっており、制
御量P■と目標値SV′との偏差εを比例→−積分演算
部21に導入して比例+積分演3X l、た結果を減算
部22に入力し、一方制御量pvを不完全微分演算部2
3に導入して不完全微分演算した結果を減算部22に入
力し、これらを減算合成したものを比例ゲイン部24に
入力し、比例ゲインKPを乗じたものを調節演算出力〜
IVとして制御対象3に出力している。制御対象3では
、この調節演算出力M Vを操作量として制御動作が実
行されるが、外乱りが印加されて制御に乱れか生じると
、これが制御Q P Vの変動として検出されている。
さらに、補償演算部4は(1+α・T1 −9/1+T
+  ・S)なる進み/遅れ要素からなっており、制御
演算部2の比例ゲインを、目標値SVの変化に対しては
当該目標値変化に最適に追随する特性状態へと等偏曲に
修正して修正目標値SV′を出力することにより、比例
(P)動作のみ2自由度化を図っている。
第7図において、外乱変化に対する制御アルゴリズムの
伝達関数CD (S)は、 CD (S)=MV/ P V=Kp (1,+l/T
+ # S+TD−3/1+ηTo −3)     
    −(1)となり、−刃口標値変化に対する制御
アルゴリズムの伝達関数Cs  (S)は、 Cs (S)−MV/5V−(1+α・TI −3/1
+Tl  ・5)xKp  (1+L/T+  ・S)
となる。ここで、KP + T I 、TDは伝達関数
の制御定数であり、各々比例ゲイン、積分時間。
微分時間を示している。また、Sは複素変数(ラプラス
演算子)、  ηは0.1〜0.3程度の定数である。
さらに、αは外乱抑制の最適比例ゲインKPを目標値追
随の最適比例ゲインKp*(−α・Kp)に修正するた
めの比例ゲイン修正係数である。
従って、上述の(1)式および(2)式から、第7図に
示す如く目標値S■の入力ライン上に、(1+α・Tl
−8/1+Tl−8)なる進み/′遅れ要素からなる補
償演算部4を挿入し、その比例ゲイン修正係数αを変化
すれば、(1)式に示すように外乱変化に対する制御ア
ルゴリズムの比例ゲインはKPのままで、(2)式に示
すように目標値変化に対する制御アルゴリズムの比例ゲ
インはα・K、となり、αの設定により比例ゲインに、
を目標値追随、外乱抑制の双方に最適な特性状態へと独
立に調整して可変することができる。
すなわち、比例(P)動作のみが2自由度となっている
ところで、比例(P)動作のみが2自由度である場合、
上述の比例ゲイン修正係数αは正確に言えば制御対象3
の特性、すなわち制御対象3のゲイン、時定数、無駄時
間によって多少変化するが、工業用としては一つ一つ最
適にすることは、数百〜数千のループに適用するとき実
際上不可能であるため、C,H,R(Chern、Hr
ones。
Re s V/ t c h )法を用いて最適値近傍
にαを固定して使用している。しかし、この比例ゲイン
修正係数αを固定しておくことは、制御定数の設定を折
角2自由度化した比例・積分・微分制御の効果、すなわ
ち外乱抑制と目標値追随との双方の特性を同時に実現し
て制御性を向上させ得るという効果が、実際のプラント
への適用では半減してしまうことになる。
(発明が解決しようとする課題) 以上のように、従来のプロセス制御装置では、外乱抑制
特性と目標値追随特性との双方の特性を同時に実現して
制御性を向上させるという効果が十分に発揮できないと
いう問題があった。
本発明の目的は、外乱抑制特性と目標値追随特性との双
方の特性を同時に実現して常に最適な制御性を得ること
ができ、あらゆる制御対象の制御に適用することが可能
な極めて信頼性の高いプロセス制御装置を提供すること
にある。
[発明の構成] (課題を解決するだめの手段) 上記の目的を達成するために本発明では、制御対象から
の制御量とこの目標値との偏差を算出する偏差算出手段
と、偏差算出手段からの偏差に対して、制御量の外乱に
よる変動を最適に抑制する特性状態に調整された制御定
数(比例ゲイン。
積分時間、微分時間)に基づいて比例、積分、微分の各
演算を実行し、調節演算出力を算出する制御演算手段と
、制御演算手段の制御定数を、目標値の変化に対しては
当該目標値変化に最適に追随する特性状態へと等両面に
修正する補償演算手段とを備え、補償演算手段における
比例ゲイン修正係数または積分時間修正係数のうちの少
なくとも比例ゲイン修正係数を、制御演算手段の微分演
算の制御定数(微分時間)がOであるかO以外であるか
に応じて修正するようにしている。
(作用) 従って、本発明ては以上のような手段を備えたことによ
り、制御演算手段の微分演算の制御卸定数(微分時間)
がOであるかO以外であるかに応じて、外乱抑制最適比
例ゲインを目標値追随最適比例ゲインに修正する比例ゲ
イン修正係数、または外乱抑制最適積分時間を目標値追
随最適積分時間に修正する積分時間修正係数のうちの少
なくとも比例ゲイン修正係数が修正されることから、2
自由度比例・積分・微分制御モードが比例・積分(P 
I)−比例・積分(PI)制御あるいは比例・積分(P
I)−比例・積分・微分(P I D)制御のいずれと
なっても、外乱抑制特性と目標値追随特性との双方の特
性を同時に実現して常に最適な制御性が得られることに
なる。
(実施例) まず、C,H,R法では、制御対象の特性をGp  (
S)=Kxe−L5/1+T−5   −  (3)と
すると、最適制御定数(比例ゲインKP + 積分時間
T工、微分時間TD)は第5図に示すようになる。なお
第5図は、応答特性が「行き過ぎなし。
整定時間最小」の場合の例である。
前述の(1)式および(2)式において、KPを外乱抑
制最適比例ゲインとし、またKP*を目(票値追随最適
比例ゲインとすると、 KP*−αΦK。
よって、 α= K p * / K p =目標値追随最適比例ゲイン/外乱抑制最適比例ゲイン
 ・・・(4) となる。
次に、この(4)式と第5図とから、2自由度比例・積
分・微分制御モードに対する比例ゲイン修正係数αを求
めると、第6図に示すようになる。
すなわち、比例・積分(PI)−比例・積分(PI)制
御の場合の比例ゲイン修正係数α1は、α、 −KP*
/Kp −0,35T/KL / 0.6T/KL−0
,58・・・(5)となり、また比例・積分(PI)−
比例・積分・微分(PID)制御の場合の比例ゲイン修
正係数α2は、 α2 =KP */Kp −0,35T/KL / 0
.95T/KL−0,37・・・(6)となる。すなわ
ち、微分演算の制御定数(微分時間To)が0であるか
O以外であるかによって、2自由度比例・積分・微分制
御の比例ゲイン修正係数αの値が明らかに異なっている
以上のことから、微分演算の制御定数(微分時間TD)
が0であるか0以外であるかに応じて、2自由度比例・
積分・微分制御化のための補償演算部の比例ゲイン修正
係数αの値を修正することによって、流2.圧力、レベ
ル、温度、成分等のあらゆる制御対象の制御に適用可能
な、万能汎用形の2自由度比例・積分・微分制御方式の
プロセス制御装置が実現できることになる。すなわち、
一般に各制御対象に適する2自由度比例・積分・微分制
御は、 比例・積分−比例・積分制御 ・・・・・・流量、圧力の制御 比例・積分−比例・積分・微分制御 ・・・・・・温度、レベル、成分の制御に適用されるこ
とになるが、本発明の2自由度比例・積分・微分制御に
よれば、チューニングすべき制御定数の数は、1自由度
比例・積分・微分制御と全く同一で、かつ同一感覚であ
らゆる制御対象に対して最適制御特性を実現することが
できる。
以下、上述のような考え方に基づく本発明の一実施例に
ついて図面を参照して説明する。
第1図は、本発明によるプロセス制御装置の構成例を示
す機能ブロック図であり、第7図と同一部分には同一符
号を付してその説明を省略し、ここでは異なる部分につ
いてのみ述べる。
すなわち、第1図は第7図に加えて、2つのパラメータ
設定部5,6と、判別部7と、切換スイッチ部8とを備
えたものである。ここで、パラメータ設定部5は前述の
比例ゲイン修正係数α】(−0,58)が設定されてお
り、パラメータ設定部6は同じく比例ゲイン修正係数α
2(−0,37)が設定されている。また判別部7は、
前述の不完全微分演算部23に設定された微分時間TD
を導入し、この微分時間TDがOであるか0以外である
かの判別を行なってその判別出力を送出するものである
。さらに、切換スイッチ部8は判別部7からの判別出力
に応じて、その切換動作によりパラメータ設定部5に設
定された比例ゲイン修正係数α1.またはパラメータ設
定部6に設定されたは比例ゲイン修正係数α2のいずれ
か一方を、前述の補償演算部4を構成する(1+α(T
o )・TI −8/1+T1 ・S)なる進み/折れ
要素の進み部分の係数α(To)として設定するもので
ある。すなわち、判別部7からの判別出力が、“微分時
間TDが0である”ときには比例ゲイン修正係数αlを
、また“微分時間TDがO以外である″ときには比例ゲ
イン修正係数α2をそれぞれ設定するものである。
以上の如く構成した2自由度比例・積分・微分制御のプ
ロセス制御装置において、まず制御対象3か例えば流量
、圧力等であるような場合には、制御演算部2の不完全
微分演算部23に設定される微分時間TDがOとなる。
これにより、2自由度比例・積分・微分制御モードは比
例・積分(P I)−比例・積分(PI)制御となり、
切換スイッチ部8は判別部7からの判別出力(微分時間
TDが0である)によって、図示実線側に切換られる。
これにより、補償演算部4を構成する(1+α(To 
)・T1・S/l +T、・S)なる進み/遅れ要素の
進み部分の係数α(To )としては、パラメータ設定
部5の比例ゲイン修正係数α1 (−0,58)が最適
比例ゲインとして設定される。よってこの場合には、外
乱変化に対する制御アルゴリズムの伝達関数Co  (
S)は、Co (S)=MV/PV−Kp (1+1/
T+ −3)  ・・・(7)となり、一方目標値変化
に対する制御アルゴリズムの伝達関数C5(S)は、 Cs  (S ) = M V / S V ’−(1
+α1 ・TI −8/1+TI ・5)xKp  (
1+IT、−8) ″Kp (a + ” 1 / T r ’ S ) 
    、、、 < s )となる。
一方、制御対象3が例えば温度、レベル、成分等である
ような場合には、制御演算部2の不完全微分演算部23
に設定される微分時間TDが0以外となる。これにより
、2自由度比例・積分・微分制御モードは比例・積分(
PI)−比例・積分・微分(PID)制御となり、切換
スイッチ部8は判別部7からの判別出力(微分時間TD
が0以外である)によって、図示破線側に切換られる。
これにより、補償演算部4を構成する(1+α(To 
)  ・T1 ・S/1+T+−S)なる進み/折れ要
素の進み部分の係数α(TD )としては、パラメータ
設定部6の比例ゲイン修正係数α2(−0,37)が最
適比例ゲインとして設定される。よってこの場合には、
外乱変化に対する制御アルゴリズムの伝達関数Co  
(S)は、c、 (S)・MV/PV=Kp (1+I
/T+ ” S)  ・・・(9)となり、一方目標値
変化に対する制御アルゴリズムの伝達関数C5(S)は
、 Cs (S) =MV/ S V − =(1+α2・Tl−8/1+Tl−8)XKp (1
+ 1/T+ −3) =Kp(α2+1/T、 −S)    ・・・(10
)となる。
上述したように本実施例によれば、2自由度のパラメー
タ、すなわち外乱抑制最適比例ゲインに、を目標値追随
最適比例ゲインKp*(−α・Kp)に修正する比例ゲ
イン修正係数α(T、)を、制御演算部2の不完全微分
演算部23の微分時間TDが0であるか0以外であるか
に応じてα1またはα2に設定変更することで修正する
ようにしたので、次のような効果が得られるものである
(a)2自由度比例・積分・微分制御モードが比例・積
分(P I)−比例・積分(P I)制御あるいは比例
・積分(PI)−比例・積分・微分(P I D)制御
のいずれとなっても、外乱抑制特性と目標値追随特性と
の双方の特性を同時に実現して常に最適な制御性を得る
ことが可能となる。
(b)制御対象3が、流量、圧力、温度、レベル、成分
等のあらゆる制御対象の制御に適用することが可能あり
、工業用として万能なものである。
(c)チューニングすべき制御定数の数は、従来の1自
由度比例・積分・微分制御の場合と同一で、かつ取扱い
も同一のままとして、チューニング方法の統一と制御性
の大幅な向上とを同時に実現することが可能となる。
本実施例のプロセス制御装置は、以上のような極めて優
れた特長を有し、制御系の基本を高度化して、従来の1
自由度比例・積分・微分制御や2自由度比例・積分・微
分制御に取って代わる、万能で究極の2自由度比例・積
分・微分制御のプロセス制御装置である。今後、プラン
ト制御はフレキシブル化、超電導化が進み、生産量1品
質や品種の変更や最適化の導入により、目標値変更も外
乱変動も益々多くなってくる傾向にある。そして、これ
に対処するためには2自由度化が必須であり、その2自
由度化を究極まで高度化した本実施例のプロセス制御装
置をプラントに全面的に適用することにより、プラント
の運転特性を限界まで高めることができ、産業界の高度
化1発展に大いに貢献できるものである。
尚、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、次
のようにしても実施できるものである。
(a)上記第1図の実施例では、最も基本的な全ての制
御系に必要不可欠な比例(P)動作のみを2自由度化し
たプロセス制御装置について述べたが、比例+積分(P
I)動作を2自由度化したプロセス制御装置についても
、同様に本発明を適用できるものである。
第2図は、かかるプロセス制御装置の構成例を示す機能
ブロック図であり、第1図と同一部分には同一符号を付
してその説明を省略し、ここでは異なる部分についての
み述べる。すなわち、第1図は第2図に加えて、(β(
To)/1+T+’S)なる−次遅れ要素からなる補償
演算部9と、(TI  ・S / 1 + T +  
・S)なる不完全微分演算部10と、補償演算部9の出
力と演算部10の出力とを減算する減算部]1と、積分
時間修正係数β1 (−0,1)が設定されているパラ
メータ設定部12と、積分時間修正係数β2(−0,1
5)が設定されているパラメータ設定部13と、切換ス
イッチ部14とを備えたものである。ここで、切換スイ
ッチ部14は、判別部7からの判別出力に応じて、その
切換動作によりパラメータ設定部12に設定された積分
時間修正係数β1.またはパラメータ設定部13に設定
された積分時間修正係数β2のいずれか一方を、補償演
算部9を構成するの遅れ部分の係数β(To )として
設定するものである。すなわち、判別部7からの判別出
力が、“微分時間TDが0である″ときには積分時間修
正係数βlを、また“微分時間TDがO以外である”と
きには積分時間修正係数β2をそれぞれ設定するもので
ある。
本実施例においては、制御演算部2の不完全微分演算部
23に設定される微分時間TDがOであるような場合に
は、2自由度比例・積分・微分制御モードは比例・積分
(P I)−比例・積分(PI)制御となる。そして、
切換スイッチ部8は判別部7からの判別出力(微分時間
TDが0である)によって図示実線側に切換られ、補償
演算部4を構成する(1+α(To )  ・TI ・
S/1+T、・S)なる進み/遅れ要素の進み部分の係
数α(To )としては、パラメータ設定部5の比例ゲ
イン修正係数α1 (−0,58)が最適比例ゲインと
して設定される。また同時に、切換スイッチ部14は判
別部7からの判別出力(微分時間TDか0である)によ
って図示実線側に切換られ、補償演算部9を構成する(
TI −8/1+TI ・S)なる−次遅れ要素の遅れ
部分の係数β(TD )としては、パラメータ設定部1
2の積分時間修正係数β、(−0,1)が最適積分時間
として設定される。
一方、制御演算部2の不完全微分演算部23に設定され
る微分時間TDが0以外であるような場合には、2自由
度比例・積分・微分制御モードは比例・積分(PI)−
比例・積分・微分(P I D)制御となる。そして、
切換スイッチ部8は判別部7からの判別出力(微分時間
TDが0以外である)によって図示破線側に切換られ、
補償演算部4を構成する(1+α(TD )  ・T、
  ・S/1+T1 ・S)なる進み/遅れ要素の進み
部分の係数α(To)としては、パラメータ設定部6の
比例ゲイン修正係数α2 (−0,37)が最適比例ゲ
インとして設定される。また同時に、切換スイッチ部1
4は判別部7からの判別出力(微分時間T、がO以外で
ある)によって図示破線側に切換られ、補償演算部9を
構成する(TI  −3/]、+T1 ・S)なる−次
遅れ要素の遅れ部分の係数β(To )としては、パラ
メータ設定部13の積分時間修正係数β2  (=0.
15)が最適積分時間として設定される。
本実施例によれば、外乱抑制最適比例ゲインを目標値追
随最適比例ゲインに修正する比例ゲイン修正係数α(T
o)、および外乱抑制最適積分時間を目標値追随最適積
分時間に修正する積分時間修正係数β(To )が、制
御演算部2の不完全微分演算部23の微分時間TDが0
であるか0以外であるかに応じてα1.β1またはα2
.β2に設定変更されることで修正されるため、第1図
の実施例に比較してその効果がより一層顕著となる。
(b)上記第1図の実施例では、補償演算部4の比例ゲ
イン修正係数α(TD)を、制御演算部2の不完全微分
演算部23の微分時間TDが0であるかO以外であるか
に応じてα1またはα2に設定変更することで修正する
ようにしたが、これに限らず第1図と同一部分には同一
符号を付した第3図に示すように、(1+α、・S/1
+T。
・S)および(1+α2・S/1+Tl−8)なる進み
/遅れ要素からなる補償演算部41および42を備え、
微分時間TDの有無に基づく判別部7からの判別出力に
応じて、切換スイッチ部15によりいずれか一方を選択
出力する構成としてもよい。
(c)上記第2図の実施例では、補償演算部4の比例ゲ
イン修正係数α(To )および積分時間修正係数β(
To )を、制御演算部2の不完全微分演算部23の微
分時間TDがOであるか0以外であるかに応じてα1.
β1またはα2.β2に設定変更することで修正するよ
うにしたが、これに限らず第2図および第3図と同一部
分には同一符号を付した第4図に示すように、(1+α
1 ・S / 1 + T I  ・S)および(1+
α2・S/1+”r、−5)なる進み/遅れ要素からな
る補償演算部41および42と、(β1/ 1 +r’
、 e s)および(β2・S/1+Tl−8)なる−
次遅れ要素からなる補償演算部91および92とを備え
、微分時間TDの有無に基づく判別部7からの判別出力
に応じて、切換スイッチ部15と16によりいずれか一
方をそれぞれ選択出力する構成としてもよい。
(d)上記各実施例では、応答特性が「行き過ぎなしで
、整定時間最小」の場合で、比例ゲイン修正係数αl−
0,58,α2−0.37としたが、これに限らず例え
ば応答特性が[行き過ぎ20%で、整定時間最小」の場
合には、比例ゲイン修正係数α、−0,86,α2−0
.5とすればよい。すなわち、上述のように比例ゲイン
修正係数αの値は希望応答特性によって異なるが、いず
れにしてもα1.α2との間には大きく差があり、この
α1.α2の切換えは必要不可欠である。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば、補償演算手段にお
ける比例ゲイン修正係数または積分時間修正係数のうち
の少なくとも比例ゲイン修正係数を、制御演算手段の微
分演算の制御定数(微分時間)が0であるか0以外であ
るかに応じて修正するようにしたので、外乱抑制特性と
目標値追随特性との双方の特性を同時に実現して常に最
適な制御性を得ることができ、あらゆる制御対象の制御
に適用することが可能な極めて信頼性の高いプロセス制
御装置が提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明によるプロセス制御装置の一実施例を示
す機能ブロック図、第2図乃至第4図は本発明によるプ
ロセス制御装置の他の実施例をそれぞれ示す機能ブロッ
ク図、第5図および第6図は本発明の考え方をそれぞれ
説明するための図、第7図は従来のプロセス制御装置の
構成例を示す機能ブロック図である。 1・・・偏差演算部、2・・・微分先行形の制御演算部
、3・・・制御対象、4・・・補償演算部、5,6・・
・パラメータ設定部、7・・・判別部、8・・・切換ス
イッチ部、9・・・補償演算部、10・・・不完全微分
演算部、11・・・減算部、12.13・・・パラメー
タ設定部、14・・・切換スイッチ部、15.16・・
・切換ス1′ツチ部、21・・・比例+積分演算部、2
2・・・減算部、23・・・不完全微分演算部、24・
・・比例ゲイン部、41.42・・・補償演算部、91
.92・・・補償演算部。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)制御対象からの制御量とこの目標値との偏差を算
    出する偏差算出手段と、 前記偏差算出手段からの偏差に対して、前記制御量の外
    乱による変動を最適に抑制する特性状態に調整された制
    御定数(比例ゲイン、積分時間、微分時間)に基づいて
    比例、積分、微分の各演算を実行し、調節演算出力を算
    出する制御演算手段と、 前記制御演算手段の制御定数を、前記目標値の変化に対
    しては当該目標値変化に最適に追随する特性状態へと等
    価的に修正する補償演算手段とを備え、 前記補償演算手段における比例ゲイン修正係数を、前記
    制御演算手段の微分演算の制御定数(微分時間)が0で
    あるか0以外であるかに応じて修正するようにした ことを特徴とするプロセス制御装置。
  2. (2)制御対象からの制御量とこの目標値との偏差を算
    出する偏差算出手段と、 前記偏差算出手段からの偏差に対して、前記制御量の外
    乱による変動を最適に抑制する特性状態に調整された制
    御定数(比例ゲイン、積分時間、微分時間)に基づいて
    比例、積分、微分の各演算を実行し、調節演算出力を算
    出する制御演算手段と、 前記制御演算手段の制御定数を、前記目標値の変化に対
    しては当該目標値変化に最適に追随する特性状態へと等
    価的に修正する補償演算手段とを備え、 前記補償演算手段における比例ゲイン修正係数および積
    分時間修正係数を、前記制御演算手段の微分演算の制御
    定数(微分時間)が0であるか0以外であるかに応じて
    それぞれ修正するようにした ことを特徴とするプロセス制御装置。
JP63066523A 1988-03-18 1988-03-18 プロセス制御装置 Expired - Lifetime JPH07104681B2 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63066523A JPH07104681B2 (ja) 1988-03-18 1988-03-18 プロセス制御装置
AU31210/89A AU608421B2 (en) 1988-03-18 1989-03-13 Process control system
DE68919248T DE68919248T2 (de) 1988-03-18 1989-03-16 Prozessregelungssystem.
EP89302608A EP0333477B1 (en) 1988-03-18 1989-03-16 Process control system
US07/324,771 US5029066A (en) 1988-03-18 1989-03-17 Process control system
CN89101575A CN1024849C (zh) 1988-03-18 1989-03-18 过程控制系统
KR1019890003389A KR920004079B1 (ko) 1988-03-18 1989-03-18 프로세스 제어장치 및 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63066523A JPH07104681B2 (ja) 1988-03-18 1988-03-18 プロセス制御装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01239603A true JPH01239603A (ja) 1989-09-25
JPH07104681B2 JPH07104681B2 (ja) 1995-11-13

Family

ID=13318318

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63066523A Expired - Lifetime JPH07104681B2 (ja) 1988-03-18 1988-03-18 プロセス制御装置

Country Status (7)

Country Link
US (1) US5029066A (ja)
EP (1) EP0333477B1 (ja)
JP (1) JPH07104681B2 (ja)
KR (1) KR920004079B1 (ja)
CN (1) CN1024849C (ja)
AU (1) AU608421B2 (ja)
DE (1) DE68919248T2 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04601A (ja) * 1990-04-18 1992-01-06 Toshiba Corp 2自由度調節装置
US5394322A (en) * 1990-07-16 1995-02-28 The Foxboro Company Self-tuning controller that extracts process model characteristics
US5541833A (en) * 1987-03-30 1996-07-30 The Foxboro Company Multivariable feedforward adaptive controller
US5587896A (en) * 1990-07-16 1996-12-24 The Foxboro Company Self-tuning controller
JP2011204265A (ja) * 2011-06-08 2011-10-13 Horiba Stec Co Ltd マスフローコントローラ
JPWO2020003403A1 (ja) * 2018-06-27 2021-07-08 理化工業株式会社 制御装置及び制御方法

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0298701A (ja) * 1988-10-05 1990-04-11 Toshiba Corp 制御装置
JP2835061B2 (ja) * 1989-02-23 1998-12-14 株式会社東芝 適応制御装置
US5200681A (en) * 1990-03-09 1993-04-06 Kabushiki Kaisha Toshiba Process control system
JP2839626B2 (ja) * 1990-03-09 1998-12-16 株式会社東芝 2自由度調節装置
JP2982209B2 (ja) * 1990-04-27 1999-11-22 オムロン株式会社 周期性外乱補償式プロセス制御装置
US5406474A (en) * 1990-07-16 1995-04-11 The Foxboro Company Self-tuning controller
EP0474492B1 (en) * 1990-09-07 1995-11-15 Kabushiki Kaisha Toshiba Two degrees of freedom type control system
JPH06208402A (ja) * 1993-01-11 1994-07-26 Sumitomo Electric Ind Ltd 目標値追従制御法
DE19525907A1 (de) * 1995-07-06 1997-01-09 Hartmann & Braun Ag Selbsteinstellbare Regeleinrichtung und Verfahren zur Selbsteinstellung dieses Reglers
US5848535A (en) * 1997-03-24 1998-12-15 Gas Research Institute Control system having a binomial setpoint filter
JP2008074007A (ja) * 2006-09-22 2008-04-03 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 段ボールシート製造装置の制御システム
KR100796912B1 (ko) * 2006-09-26 2008-01-22 엘지이노텍 주식회사 카메라 모듈에서의 자동 노출 보정 방법
DE102010001203B4 (de) * 2010-01-26 2011-12-08 Ford Global Technologies, Llc Regelungsanordnung sowie -verfahren
JP5763598B2 (ja) * 2012-07-31 2015-08-12 株式会社日立製作所 プラント制御装置、プラント制御方法及びプラント制御プログラム
CN104781737A (zh) * 2013-01-31 2015-07-15 西门子公司 一种过程控制方法、装置和系统
JP6147687B2 (ja) * 2014-02-28 2017-06-14 株式会社東芝 制御パラメータ調整装置、および制御パラメータ調整プログラム
TWI716068B (zh) * 2019-08-14 2021-01-11 群光電能科技股份有限公司 電源裝置及其控制方法
CN113655710A (zh) * 2021-08-25 2021-11-16 云南昆钢电子信息科技有限公司 一种eb炉自动拉锭系统及方法
CN115691850A (zh) * 2022-08-25 2023-02-03 华能山东石岛湾核电有限公司 全厂功率协调控制系统氦气温度仿真方法和装置
CN117270586B (zh) * 2023-11-21 2024-01-30 深圳市普朗医疗科技发展有限公司 透明质酸钠凝胶制备的自动定量控制方法及系统

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54116580A (en) * 1978-03-01 1979-09-10 Toshiba Corp Process controller
JPS61290505A (ja) * 1985-06-19 1986-12-20 Toshiba Corp プロセス制御装置
JPS6346502A (ja) * 1986-08-14 1988-02-27 Yokogawa Electric Corp Pid調節装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2036707A1 (ja) * 1969-03-03 1970-12-31 Alsthom
DE2510837C3 (de) * 1975-03-12 1985-07-11 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Einrichtung zur Regelung von totzeitbehafteten Regelstrecken
US4139887A (en) * 1977-04-28 1979-02-13 United Technologies Corporation Dynamic compensation for multi-loop controls
US4563735A (en) * 1982-03-26 1986-01-07 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha Process controlling method and system involving separate determination of static and dynamic compensation components
US4500950A (en) * 1982-04-12 1985-02-19 Westinghouse Electric Corp. Industrial process control apparatus and method
JPS59223803A (ja) * 1983-06-03 1984-12-15 Hitachi Ltd 制御装置
AU550917B2 (en) * 1984-04-13 1986-04-10 Toshiba, Kabushiki Kaisha Process control apparatus with reference model
US4755924A (en) * 1985-02-19 1988-07-05 Kabushiki Kaisha Toshiba Process controller having an adjustment system with two degrees of freedom
JPS61198302A (ja) * 1985-02-27 1986-09-02 Toshiba Corp 調節装置
US4882526A (en) * 1986-08-12 1989-11-21 Kabushiki Kaisha Toshiba Adaptive process control system

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54116580A (en) * 1978-03-01 1979-09-10 Toshiba Corp Process controller
JPS61290505A (ja) * 1985-06-19 1986-12-20 Toshiba Corp プロセス制御装置
JPS6346502A (ja) * 1986-08-14 1988-02-27 Yokogawa Electric Corp Pid調節装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5541833A (en) * 1987-03-30 1996-07-30 The Foxboro Company Multivariable feedforward adaptive controller
JPH04601A (ja) * 1990-04-18 1992-01-06 Toshiba Corp 2自由度調節装置
US5394322A (en) * 1990-07-16 1995-02-28 The Foxboro Company Self-tuning controller that extracts process model characteristics
US5587896A (en) * 1990-07-16 1996-12-24 The Foxboro Company Self-tuning controller
JP2011204265A (ja) * 2011-06-08 2011-10-13 Horiba Stec Co Ltd マスフローコントローラ
JPWO2020003403A1 (ja) * 2018-06-27 2021-07-08 理化工業株式会社 制御装置及び制御方法

Also Published As

Publication number Publication date
AU608421B2 (en) 1991-03-28
KR920004079B1 (ko) 1992-05-23
EP0333477B1 (en) 1994-11-09
EP0333477A2 (en) 1989-09-20
JPH07104681B2 (ja) 1995-11-13
DE68919248D1 (de) 1994-12-15
AU3121089A (en) 1989-11-23
DE68919248T2 (de) 1995-03-23
CN1036085A (zh) 1989-10-04
EP0333477A3 (en) 1990-04-25
KR890015122A (ko) 1989-10-28
US5029066A (en) 1991-07-02
CN1024849C (zh) 1994-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR920004079B1 (ko) 프로세스 제어장치 및 방법
US5892679A (en) Method and system for controlling a multiple input/output process with minimum latency using a pseudo inverse constant
KR100407203B1 (ko) 다변수예측제어기에서독립적인피드포워드제어의결합방법
EP0710901B1 (en) Multivariable nonlinear process controller
US5159660A (en) Universal process control using artificial neural networks
US5777872A (en) Method and system for controlling a multiple input/output process with minimum latency
EP0710902B1 (en) Method and apparatus for controlling multivariable nonlinear processes
US7805207B2 (en) Method and apparatus for adaptive parallel proportional-integral-derivative controller
JP2772106B2 (ja) 2自由度調節装置
JPH0298701A (ja) 制御装置
EP0592245A2 (en) Process control apparatus
US5200681A (en) Process control system
CN102067047B (zh) 用于无扰动pid控制器切换的方法和系统
JPH09146610A (ja) 多変数非線形プロセス・コントローラー
JPWO2008018496A1 (ja) 制御方法および制御装置
JPH0484303A (ja) サーボ制御装置
JPH03259301A (ja) 2自由度調節装置
JPH079602B2 (ja) 制御装置
JPH0570841B2 (ja)
JP3034404B2 (ja) 2自由度pid調節装置
JP2766395B2 (ja) 制御装置
JPH06222809A (ja) 適応制御装置
JPS62241006A (ja) オ−ト・チユ−ニング・コントロ−ラ
JPS61190602A (ja) 調節装置
JPH07295604A (ja) Pid調節器のパラメータ調整装置

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071113

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081113

Year of fee payment: 13

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081113

Year of fee payment: 13