JPH01245221A - カラー液晶表示装置の製造法 - Google Patents
カラー液晶表示装置の製造法Info
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- JPH01245221A JPH01245221A JP63072189A JP7218988A JPH01245221A JP H01245221 A JPH01245221 A JP H01245221A JP 63072189 A JP63072189 A JP 63072189A JP 7218988 A JP7218988 A JP 7218988A JP H01245221 A JPH01245221 A JP H01245221A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は基板内面にフォトリソグラフィ法によるフィル
タ形成工程を繰り返すことにより形成されるカラーフィ
ルタ（以下ＣＦと略す）を有するカラー液晶表示装置の
製造法に関する。
タ形成工程を繰り返すことにより形成されるカラーフィ
ルタ（以下ＣＦと略す）を有するカラー液晶表示装置の
製造法に関する。
カラー液晶表示装置のためのＣＦ製造法としては、印刷
法、フォトリングラフィ法、電子写真法、電着法、蒸着
法、昇華転写法等があるが、画素の高密度化にともない
フォトリングラフィ法が主流である。
法、フォトリングラフィ法、電子写真法、電着法、蒸着
法、昇華転写法等があるが、画素の高密度化にともない
フォトリングラフィ法が主流である。
従来のフォトリソグラフィ法によるＣＦの製造法を図面
に基づいて説明する。
に基づいて説明する。
第４図は従来技術のＣＦ基板の断面図である。
まず基板１上にフィルタ基材である感光剤として、感光
性のメタクリル系樹脂、または重クロム酸アンモニウム
等で感光性を付与したゼラチンまたはカゼイン等を均一
に塗、布し、プレベークを行い、マスク露光法で所定の
パターン部だけ光硬化させ、現像することにより、所定
のパターン部を残しそれ以外の部分を除去する。
性のメタクリル系樹脂、または重クロム酸アンモニウム
等で感光性を付与したゼラチンまたはカゼイン等を均一
に塗、布し、プレベークを行い、マスク露光法で所定の
パターン部だけ光硬化させ、現像することにより、所定
のパターン部を残しそれ以外の部分を除去する。
そして必要に応じてポストベークを行う。しかる後に！
肖な分光特性を有する染料溶液に浸漬して第１色目のパ
ターン部（例えばＲＥＤ）を染色し、次いで混色防止の
ためにタンニン酸及び吐酒石を用いて固着処理をおこな
う。
肖な分光特性を有する染料溶液に浸漬して第１色目のパ
ターン部（例えばＲＥＤ）を染色し、次いで混色防止の
ためにタンニン酸及び吐酒石を用いて固着処理をおこな
う。
上記の工程をさらに２回繰り返して第２色目パターン部
（例えばＧＲＥＥＮ）、第３色目パターン部（例えばＢ
ＬＵＥ）を染色し所定のＲ，Ｇ。
（例えばＧＲＥＥＮ）、第３色目パターン部（例えばＢ
ＬＵＥ）を染色し所定のＲ，Ｇ。
８３色のＣＦ３が得られる。
上記の現像工程において、理想的にはパターン部以外の
感光剤は完全に除去されるはずであるが、実際には露光
時の光の拡散、反射及び基板と感光剤との密着性がよい
ことから、パターン部以外の部分に数１００〜数１００
０Ａ程度の感光剤の薄い膜２が残る。この薄い膜２のこ
とを７オトリソ残膜という。
感光剤は完全に除去されるはずであるが、実際には露光
時の光の拡散、反射及び基板と感光剤との密着性がよい
ことから、パターン部以外の部分に数１００〜数１００
０Ａ程度の感光剤の薄い膜２が残る。この薄い膜２のこ
とを７オトリソ残膜という。
このようなフォトリソ残膜を有する基板を用いてカラー
液晶表示装置を製造すると、基板とＣＦの間に透明導電
膜があるような構造である場合や、基板と透明導電膜の
間にＣＦがあるような構造である場合にかかわらずシー
ル部の密着不良を生じたり、特に湿度試験においてシー
ル剥がれを起こしたりすることがある。また基板と透明
導電膜の間にＣＦがある構造では、フォトリソ残膜が基
板上に存在するため、その上に形成する透明電極膜の密
着性が悪かったり、またその透明導電膜をパターニング
することが困難であった。
液晶表示装置を製造すると、基板とＣＦの間に透明導電
膜があるような構造である場合や、基板と透明導電膜の
間にＣＦがあるような構造である場合にかかわらずシー
ル部の密着不良を生じたり、特に湿度試験においてシー
ル剥がれを起こしたりすることがある。また基板と透明
導電膜の間にＣＦがある構造では、フォトリソ残膜が基
板上に存在するため、その上に形成する透明電極膜の密
着性が悪かったり、またその透明導電膜をパターニング
することが困難であった。
前述のように従来のフォトリングラフィ法によるフィル
タ形成工程を経るＣＦの製造法では、フォトリソ残膜が
残り易く透明導電膜の密着不良やパターニング不良を起
こし、また基板内面にＣＦを有する構造でカラー液晶表
示装置を作製するとシールの密着不良の問題があった。
タ形成工程を経るＣＦの製造法では、フォトリソ残膜が
残り易く透明導電膜の密着不良やパターニング不良を起
こし、また基板内面にＣＦを有する構造でカラー液晶表
示装置を作製するとシールの密着不良の問題があった。
本発明の目的は、フォトリソグラフィ法によるフィルタ
形成工程を経るＣＦの形成工程においてフォトリソ残膜
な除去することにより、基板内面にＣＦを有するカラー
液晶表示装置を安定して不留まりよく提供することであ
る。
形成工程を経るＣＦの形成工程においてフォトリソ残膜
な除去することにより、基板内面にＣＦを有するカラー
液晶表示装置を安定して不留まりよく提供することであ
る。
本発明によるカラー液晶表示装置の製造法は上記問題点
を解決するために、フォトリングラフィ法によるフィル
タ形成工程を繰り返すことにより形成されるＣＦの各フ
ィルタ形成工程にケミカルクリーニング処理またはフィ
ジカルクリーニング処理を導入することにより、フォト
リソ残膜な除去することを特徴とするものである。
を解決するために、フォトリングラフィ法によるフィル
タ形成工程を繰り返すことにより形成されるＣＦの各フ
ィルタ形成工程にケミカルクリーニング処理またはフィ
ジカルクリーニング処理を導入することにより、フォト
リソ残膜な除去することを特徴とするものである。
ここでケミカルクリーニング処理は硫酸と過酸化水素水
の混合液、次亜塩素酸ナトリウム水溶液、メタケイ酸ナ
トリウム水溶液、塩酸、ギ酸、酢酸、酢酸ナトリウム水
溶液、酢酸アンモニウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶
液、タンパク質分解酵素水溶液、界面活性剤水溶液等に
浸漬処理すること、あるいは酸素プラズマアッシングま
たはオゾンクリーニング等で処理することである。フィ
ジカルクリーニング処理はイオンボンバード等で処理す
ることである。
の混合液、次亜塩素酸ナトリウム水溶液、メタケイ酸ナ
トリウム水溶液、塩酸、ギ酸、酢酸、酢酸ナトリウム水
溶液、酢酸アンモニウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶
液、タンパク質分解酵素水溶液、界面活性剤水溶液等に
浸漬処理すること、あるいは酸素プラズマアッシングま
たはオゾンクリーニング等で処理することである。フィ
ジカルクリーニング処理はイオンボンバード等で処理す
ることである。
本発明によって２オドリソ残膜を除去することにより、
シール部の密着力が強く、特に湿度試験においてシール
剥がれを起こすことがなく、また基板と透明導電膜の間
ＫＣＦがある構造ではその上に形成する透明導電膜の密
着性が良く、さらにその透明導電膜をパターニングする
ことが容易だでき、カラー液晶表示装置を安定して得る
ことができる。
シール部の密着力が強く、特に湿度試験においてシール
剥がれを起こすことがなく、また基板と透明導電膜の間
ＫＣＦがある構造ではその上に形成する透明導電膜の密
着性が良く、さらにその透明導電膜をパターニングする
ことが容易だでき、カラー液晶表示装置を安定して得る
ことができる。
以下本発明の実施例を図面に基づいて詳述する。
（実施例１）
第１図は本発明によるＣＦ形成工程図である。
第２図は本発明の実施例１におけるフォトリソ残膜を除
去した場合のカラー液晶表示装置の断面図である。
去した場合のカラー液晶表示装置の断面図である。
まず基板１上に、フィルタ基材３ａである感光剤として
、感光性のあるメタクリル系樹脂、あるいは重クロム酸
アンモニウム等で感光性を付与したゼラチンまたはカゼ
イン等を均一に塗布し、プレベークし、第１図（ａｌの
ようにフォトマスク９を用いてマスク露光法で所定のパ
ターン部だけ光硬化させる。
、感光性のあるメタクリル系樹脂、あるいは重クロム酸
アンモニウム等で感光性を付与したゼラチンまたはカゼ
イン等を均一に塗布し、プレベークし、第１図（ａｌの
ようにフォトマスク９を用いてマスク露光法で所定のパ
ターン部だけ光硬化させる。
そして第１図（ｂｌのように純水に浸漬することによっ
て現像し所定のパターン部を残しそれ以外の部分を除去
する。
て現像し所定のパターン部を残しそれ以外の部分を除去
する。
しかしパターン部以外の部分にはフォトリソ残膜２が残
るため、ここでケミカルクリーニング処理またはフィジ
カルクリーニング処理を行う。ケミカルクリーニング処
理とは以下に列記する処理方法の一つである。
るため、ここでケミカルクリーニング処理またはフィジ
カルクリーニング処理を行う。ケミカルクリーニング処
理とは以下に列記する処理方法の一つである。
（ａ１９５％硫酸と３０％過酸化水素水のｌ：１混合液
に５０°Ｃで４分間浸漬すること。
に５０°Ｃで４分間浸漬すること。
ｆｂ） １規定塩酸に２２℃で５分間浸漬すること。
（ｃｌ ２０％ギ酸に２２℃で浸漬すること。
（ｄ）５％酢酸に５０℃で２〜４分間浸漬すること。
（ｅ）５％酢酸ナトリウム水溶液または酢酸アンモニウ
ム水溶液に５０℃で４分間浸漬すること。
ム水溶液に５０℃で４分間浸漬すること。
げ） 有効塩素１０％の次亜塩素酸ナトリウムを純水で
２倍希釈した水溶液に室温で２分間浸漬すること。
２倍希釈した水溶液に室温で２分間浸漬すること。
（ｇ） ｌ規定水酸化ナトリウム水溶液に５０℃で２
汗間浸漬すること。
汗間浸漬すること。
ｆｈｌ メタケイ酸ナトリウムを純水で５倍希訳した
水溶液に５０°Ｃで５分間浸漬すること。
水溶液に５０°Ｃで５分間浸漬すること。
（ｉ）１％タンパク質分解酵素（例えばパパイン、ペプ
シン等）水溶液に５５℃で５分間浸漬すること。
シン等）水溶液に５５℃で５分間浸漬すること。
（１０，５％カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活
性剤または両性界面活性剤溶液に５０℃で５分間浸漬す
ること。
性剤または両性界面活性剤溶液に５０℃で５分間浸漬す
ること。
（ｋｌ 酸素プラズマアッシング装置で１０ｐａ。
ｌｋＷ、２５）間処理すること。
（ｌｌ オゾンクリーニング装置で２ ｍｗ ／ｄ、
３０秒間処理すること。
３０秒間処理すること。
またフィジカルクリーニング処理とはイオンボンバード
装置で１０ 、Ｔｏｒｒ、 ５００Ｗ、 Ａ ｒ５０
ｍｌ ／ｒｒｍ、 Ｉ ０分間処理することである
。
装置で１０ 、Ｔｏｒｒ、 ５００Ｗ、 Ａ ｒ５０
ｍｌ ／ｒｒｍ、 Ｉ ０分間処理することである
。
そして必要に応じてポストベークする。その後適当な分
光特性を有する染料溶液に浸漬することにより第１色目
のパターン部（例えばＲＥＤ ）を染色し、ついで混色
防止のためにタンニン酸及び吐酒石を用いて、固着処理
を行う。
光特性を有する染料溶液に浸漬することにより第１色目
のパターン部（例えばＲＥＤ ）を染色し、ついで混色
防止のためにタンニン酸及び吐酒石を用いて、固着処理
を行う。
ここでまた上記のケミカルクリーニング処理またはフィ
ジカルクリーニング処理を行うと、第１スミ）のように
フォトリソ残膜２がなくなる。
ジカルクリーニング処理を行うと、第１スミ）のように
フォトリソ残膜２がなくなる。
更に上記のＣＦ形成工程を２回繰り返して第２色目パタ
ーン部（例えばＧＲＥＥＮ）、第３色目パターン部（例
えばＢＬＵＥ ）を染色すると、第１図ｆｄｌのように
所定のＲ，Ｇ、８３色のＣＦ３が形成されたＣＦ基板１
０が得られる。
ーン部（例えばＧＲＥＥＮ）、第３色目パターン部（例
えばＢＬＵＥ ）を染色すると、第１図ｆｄｌのように
所定のＲ，Ｇ、８３色のＣＦ３が形成されたＣＦ基板１
０が得られる。
本実施例では確実性を期すため各フィルタ形成工程にお
いて２回クリーニング処理を行なっているが、その組み
合わせはケミカルどうしあるいはフィジカルどうしある
いはケミカルとフィジカルの組み合わせであっても良い
。
いて２回クリーニング処理を行なっているが、その組み
合わせはケミカルどうしあるいはフィジカルどうしある
いはケミカルとフィジカルの組み合わせであっても良い
。
そしてこのＣＦ基板１０上に第２図に示すように保護膜
４としてポリイミド膜を１〜２μｍの厚さに形成し、１
８０〜２００℃で焼成する。
４としてポリイミド膜を１〜２μｍの厚さに形成し、１
８０〜２００℃で焼成する。
さらＫＳｉＯ，膜５とＩＴＯである透明導電膜６をスパ
ッタリング法により形成してからパターニングし、配向
処理を行ってから組み合わせてカラー液晶表示装置とす
る。
ッタリング法により形成してからパターニングし、配向
処理を行ってから組み合わせてカラー液晶表示装置とす
る。
このようにして製造したカラー液晶表示装置はフォ）
ＩＪソ残膜２がないため透明導電膜６の密着性が良く、
またパターニング性が良く、またシール部８の密着性が
良く、湿度試験においてもシール剥がれを起こさず、表
示品質のよいカラー液晶表示装置を安定して作製できた
。
ＩＪソ残膜２がないため透明導電膜６の密着性が良く、
またパターニング性が良く、またシール部８の密着性が
良く、湿度試験においてもシール剥がれを起こさず、表
示品質のよいカラー液晶表示装置を安定して作製できた
。
（実施例２）
第３図は本発明の実施例２におけるフォトリン残膜を除
去した場合のカラー液晶表示装置の断面図である。
去した場合のカラー液晶表示装置の断面図である。
実施例１における基板１の代わり、に前もって透明導電
膜６を形成しさらにパターニングした基板１１を使って
、ＣＦ３を形成し、加えてＣＦ形成工程中にケミカルク
リーニング処理またはフィジカルクリーニング処理を行
い、配向処理を行ってから組み合わせることＫよってカ
ラー液晶表示装置を作製した。
膜６を形成しさらにパターニングした基板１１を使って
、ＣＦ３を形成し、加えてＣＦ形成工程中にケミカルク
リーニング処理またはフィジカルクリーニング処理を行
い、配向処理を行ってから組み合わせることＫよってカ
ラー液晶表示装置を作製した。
このようにして作製したカラー液晶表示装置は、フォト
リソ残膜がないためシール部の密着性が良く湿度試験に
おいてシール剥がれを起こさず、表示品質の良いカラー
液晶表示装置を安定して作製できた。
リソ残膜がないためシール部の密着性が良く湿度試験に
おいてシール剥がれを起こさず、表示品質の良いカラー
液晶表示装置を安定して作製できた。
（実施例３）
実施例１において純水により現像することの代わりに純
水を酢酸、ギ酸、塩酸またはタンパク質分解酵素のいず
れか一つでＰＨを３〜６に調整した溶液を使用して現像
し、必要に応じてポストベークし、染色し、固着処理し
、ケミカルクリーニング処理、またはフィジカルクリー
ニング処理な行い、ＣＦを形成することによりカラー液
晶表示装置を作製した。この方法によっても実施例１と
同様な結果となった。
水を酢酸、ギ酸、塩酸またはタンパク質分解酵素のいず
れか一つでＰＨを３〜６に調整した溶液を使用して現像
し、必要に応じてポストベークし、染色し、固着処理し
、ケミカルクリーニング処理、またはフィジカルクリー
ニング処理な行い、ＣＦを形成することによりカラー液
晶表示装置を作製した。この方法によっても実施例１と
同様な結果となった。
以上の説明で明らかなように、本発明によれば基板内面
にフォトリングラフィ法により形成されるＣＦを有する
カラー液晶表示装置において、ＣＦパターン部部外外フ
ォトリソ残膜な除去することにより、シール部の密着性
が向上し、また透明導電膜の密着性およびパターニング
性が向上するので、表示品質のよいカラー液晶表示装置
を安定して製造できる効果がある。
にフォトリングラフィ法により形成されるＣＦを有する
カラー液晶表示装置において、ＣＦパターン部部外外フ
ォトリソ残膜な除去することにより、シール部の密着性
が向上し、また透明導電膜の密着性およびパターニング
性が向上するので、表示品質のよいカラー液晶表示装置
を安定して製造できる効果がある。
また基板とＣＦの間に透明導電膜があるような構造の場
合、透明導電膜上に７オトリノ残膜がないのでこの透明
導電膜上に直接にＩＣを３岸５ト実装しても接続不良が
なく、またペースト実装したＩＣのリペア−が容易であ
るという効果があり、基板と透明導電膜の間にＣＦがあ
るような構造の場合、基板と透明導電膜の間にフォトリ
ソ残膜がないので透明導電膜の密着性がよいためにペー
スト実装したＩＣをリペア−するさいに透明導電膜ごと
剥がれることがないという効果がある。
合、透明導電膜上に７オトリノ残膜がないのでこの透明
導電膜上に直接にＩＣを３岸５ト実装しても接続不良が
なく、またペースト実装したＩＣのリペア−が容易であ
るという効果があり、基板と透明導電膜の間にＣＦがあ
るような構造の場合、基板と透明導電膜の間にフォトリ
ソ残膜がないので透明導電膜の密着性がよいためにペー
スト実装したＩＣをリペア−するさいに透明導電膜ごと
剥がれることがないという効果がある。
第 ｍ発明によるＣＦ形成工程図、第２図は本発明の実
施例におけるカラー液晶表示装置の断面図、第３図は本
発明の他の実施例におけるカラ・一液晶表示装置の断面
図であり、第４図は従来技術におけるフォトリソ残膜が
残ったＣＦ基板の断面図である。 １．１１・・・・・・基板、 ２・・・・・・フォトリソ残膜、 ３・・・・・・カラーフィルタ（ＲはＲＥＤ。 ＧはＧＲＥＥＮ、ＢはＢＬＵＥな意味する）。 （ｂ） （Ｃ） 第２図 第３図 第４図
施例におけるカラー液晶表示装置の断面図、第３図は本
発明の他の実施例におけるカラ・一液晶表示装置の断面
図であり、第４図は従来技術におけるフォトリソ残膜が
残ったＣＦ基板の断面図である。 １．１１・・・・・・基板、 ２・・・・・・フォトリソ残膜、 ３・・・・・・カラーフィルタ（ＲはＲＥＤ。 ＧはＧＲＥＥＮ、ＢはＢＬＵＥな意味する）。 （ｂ） （Ｃ） 第２図 第３図 第４図
Claims (2)
- （１）少なくとも１枚の基板の内面に、フォトリソグラ
フィ法によるフィルタ形成工程を繰り返すことにより形
成される複数色のフィルタを有するカラー液晶表示装置
の製造法において、前記複数色のフィルタの各々のフィ
ルタの形成工程毎に少なくとも１回ケミカルクリーニン
グ処理を行なうことによりフィルタとなるパターン部以
外のフォトリソ残膜を除去することを特徴とするカラー
液晶表示装置の製造法。 - （２）少なくとも１枚の基板の内面に、フォトリソグラ
フィ法によるフィルタ形成工程を繰り返すことにより形
成される複数色のフィルタを有するカラー液晶表示装置
の製造法において、前記複数色のフィルタの各々のフィ
ルタの形成工程毎に少なくとも１回フィジカルクリーニ
ング処理を行なうことによりフィルタとなるパターン部
以外のフォトリソ残膜を除去することを特徴とするカラ
ー液晶表示装置の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7218988A JP2738430B2 (ja) | 1988-03-26 | 1988-03-26 | カラー液晶表示装置の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7218988A JP2738430B2 (ja) | 1988-03-26 | 1988-03-26 | カラー液晶表示装置の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01245221A true JPH01245221A (ja) | 1989-09-29 |
| JP2738430B2 JP2738430B2 (ja) | 1998-04-08 |
Family
ID=13482013
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7218988A Expired - Lifetime JP2738430B2 (ja) | 1988-03-26 | 1988-03-26 | カラー液晶表示装置の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2738430B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5956109A (en) * | 1994-11-28 | 1999-09-21 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of fabricating color filters used in a liquid crystal display |
| JP2013210542A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Fujifilm Corp | カラーフィルタの製造方法、並びにこれを用いて製造されるカラーフィルタ、固体撮像素子、及び液晶表示装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6211824A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-20 | Stanley Electric Co Ltd | カラ−液晶表示素子の製造方法 |
-
1988
- 1988-03-26 JP JP7218988A patent/JP2738430B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6211824A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-20 | Stanley Electric Co Ltd | カラ−液晶表示素子の製造方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5956109A (en) * | 1994-11-28 | 1999-09-21 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of fabricating color filters used in a liquid crystal display |
| JP2013210542A (ja) * | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Fujifilm Corp | カラーフィルタの製造方法、並びにこれを用いて製造されるカラーフィルタ、固体撮像素子、及び液晶表示装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2738430B2 (ja) | 1998-04-08 |
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