JPH01247162A - 高密度記録媒体用ベースフィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は高密度記録媒体用ベースフィルムに関する。

［従来の技術］ 真空蒸着、スパッタリング、イオンブレーティングなど
の方法により、Ｃｏ、Ｎ　ｒ、　Ｃｒ、　Ｆｅ、あるい
はこれらの合金をフィルム基板上に形成させた金属薄膜
タイプの磁気記録媒体は、記録密度の向上に非常に有効
であり、基板としてはポリエステルフィルムが多用され
ている。

しかし、ポリエステルフィルムは耐熱性が十分でないた
めに金属薄膜の形成条件が制限され、垂直磁気記録媒体
用の基板としては芳香族ポリイミドフィルムや芳香族ポ
リアミドフィルムの使用が検討されている。これら耐熱
フィルムの表面形成方法については、特開昭６０−１２
７５２３や特開昭６２−１１６６３７に種々提案がされ
ている。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、特開昭６０−１２７５２３では蒸着テー
プになったものはテープ幅が狭いこともありＶＴＲ中で
の走行性は問題とならないが、広幅でテープを作る製造
工程では表面が平滑すぎるため走行時や巻取り時にシワ
が入りやすく、生産収率が低く製造速度が上げられない
といった問題が存在していた。

磁性層を設ける側の表面性を蒸着テープなどへの使用に
耐えるよう極度に平滑に保ったまま一方で走行性を向上
させるという要求に対しては、両面とも同一の表面性を
有するものではもはや対応できず、フィルムの表裏の表
面性を変える方法によらざるを得ない。特開昭６２−１
１６６３７はこういった表面性を有するフィルムである
が、片面が削れすぎているため、フィルムをロール状に
巻いておくと反対面（ｌ性層を設ける側の而）に凹凸が
転写する裏写り現象が起こり磁性層側の表面性が損なわ
れてしまう問題があった。

一方、ポリエステルフィルムやセルロースアセテートフ
ィルム（例えば特開昭５６−１６２６１７　）の製造時
などに採用されている共押出し方法は、表裏で表面性を
変えるには良好な方法であるが、フィルム厚みが極端に
薄いものを溶液製膜法で作る際には、溶媒の乾燥中に２
液が部分的あるいは全部が混合してしまう問題があり、
片方の表面性が非常に平滑に保たれ、かつもう一方の表
面が粗れた薄物のフィルムは溶液製膜では１ｑられたこ
とがなかった。

本発明はこれらの問題点を解決し、表面性と走行性が両
立できるフィルムを提供することを目的とする。

［課題を解決するための手段］ 本発明は、芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミド
から成るフィルムであって、該フィルムは少なくとも２
層から成り、一方の層（Ａ層）は表面のＲ，Ａ（中心線
深さ）が１０〜２００大、もう一方の層（Ｂ層）は表面
のＲ６，（中心線深さ）が下記（１）式の範囲にあり、
Ｒａ、（中心線平均粗さ）が２０〜２００Å、５０Å以
上の高さの突起が１ｍｍ当り３０個以上であることを特
徴とする高密度記録媒体用ベースフィルムである。

Ｒ＋５０≦ＲＰＢ≦１．５００（入）　・・・（１）Ａ 本発明の芳香族ポリアミドとは一般式 ％式％） で示される繰り返し単位を５０モル％以上含む重合体か
ら成るものが好ましく、より好ましくは、７０モル％以
上である。

ここでＡｒ１．Ａｒ；＞は少なくとも１個の芳香環を含
み、同一でも異なっていてもよく、これらの代表例とし
ては次のものがあげられる。

また、これらの芳香環の環上の水素の一部が、ハロゲン
基（特に塩素）、ニトロ基、０１〜Ｃ３のアルキル基（
特にメチル基）、Ｃ１〜Ｃ３のアルコキシ基などの置換
基で置換されているものも含む。また、Ｘは 一部　　、　　ＣＨ２＋、　　３０２　　、　　Ｓ　　
、　　Ｇｏ−などである。これらは単独または共重合の
形で含まれる。

特に薄物の磁気テープ用途などには、機械特性、環境変
化（温度、湿度）に対する寸法安定性などの点から、パ
ラ結合を主体としたものが好ましく、ざらに芳香環に塩
素を導入したものがより好ましい。

例えば、 （ここでｐ、ｑＧ、ｔｏ〜３） を５０モル％以上含むものが挙げられる。

本発明における芳香族ポリイミドとは、重合体の繰り返
し単位の中に芳香環とイミド環を各々１つ以上含むもの
であり、一般式 で示される繰り返し単位を５０モル％以上含むものが好
ましく、より好ましくは７０モル％以上である。

ここでＡｒ３、Ａｒ５は少なくとも１個の芳香環を含み
、イミド環を形成する２つのカルボニル基は芳香環上の
隣接する炭素原子に結合している。

このＡｒｓは、芳香族テトラカルボン酸あるいはこの無
水物に由来する。代表例としては、次のようなものが挙
げられる。

ここで、Ｙは−０、Ｃｏ　　、　−ＣＨ２−。

−３−、−３０２−などである。

また、Ａｒｓは、無水トリカルボン酸、あるい　、はこ
のハライドに由来する。

Ａｒｃ、Ａｒｅは少なくとも１個の芳香環を含み、芳香
族ジアミン、芳香族ジイソシアネートに由来する。また
、アミド結合、ウレタン結合等を含んでいてもよい。Ａ
ｒ４．Ａｒｅの代表例としては、次のようなものが挙げ
られる。

ここで、これらの芳香環の環上の水素の一部が、ハロゲ
ン基、ニトロ基、Ｃ１〜Ｃ３のアルキル基、０１〜Ｃ３
のアルコキシ基などの置換基で置換されたものも含む。

Ｚは、　Ｏ＋、−ＣＨ２−。

−３−、−３０＞−、−Ｃｏ−などである。これらは単
独または共重合の形で含まれる。

また、本発明の芳香族ポリアミド、芳香族ポリイミドに
はフィルムの物性を損わない程度に、滑剤、酸化防止剤
、その他の添加剤等や他のポリマーがブレンドされてい
てもよい。

本発明のフィルムは、少なくともＡ層とＢ層の２層から
成っており、この２層は同じ構造のポリマであることが
好ましいが、異なっていてもよい。

本発明のフィルムは、磁性層はＡ層の表面に設けるが、
このＡ層（表面をＡ面と呼ぶ）の表面性は、ＲＰＡが１
０〜２００人の必要がある。好ましくは２０〜１５０人
である。

ここでＲＰＡとは、中心線深さと呼ばれ、粗さ曲線から
基準長だけ後き取り、その後き取り部分の最高の山頂か
ら中心線までの間隔のことである。

ＲＰＡが１０大より小さいと表面が平滑すぎ、摩擦係数
が大きくなって磁気記録媒体の製造時に傷が入りやすく
なる。逆に２００人より大きいと、磁性層とヘッドとの
スペーシングロスが大きくなり、電磁変換特性が悪化す
る。

また磁性層を設けない側のＢ層（表面をＢ面と呼ぶ）の
表面性は、ＲＰＢが（１）式の範囲にあることが必要で
あり、好ましくは２２０〜１，０００人である。Ｒ，Ａ
＋５０より小さいとＢ面が平滑すぎてフィルムの走行性
改善には寄与しない。一方、１．５００人より大きいと
走行性は良好であるが、フィルムをロール状に巻いてお
いたり、磁性層を形成したものをロール状に保存してお
くと裏写りによる凹凸の転写が大きくなり、高密度記録
に必要なフィルムあるいは磁性層の平滑性が損われるよ
うになって使用に耐えなくなる。

またこのＢ面のＲ６Ｂ（中心線平均粗さ）は２０〜２０
０人の必要がある。好ましくは２５〜１５０人である。

２０人より小さいと走行性が改善できず、２００人より
大きいとフィルムの削れが発生してくる。

ざらにこのＢ面には５０Å以上の高さの突起が１ｍｍ当
り３０個以上存在することが必要である。

好ましくは５０個以上であり、さらに１００人高さ以上
の突起が５個以上あるとより好ましい。ここで突起の高
さとは、粗さ曲線から基準長だけ恢き取り、その汰き取
り部分の中心線から突起の山頂までの距離を現わしたも
のであり、粗さ曲線をチャートに書かせフィルム１ｍｍ
当りに相当する粗さ曲線から突起の数を求める。突起の
高さが５０人より小さいか、５０大高さ以上の突起の数
が３０個未満では、走行性の向上が望めない。

本発明のＡ面よりＢ面の方が粗れた表面をもつフィルム
をつくるためには、まずＢ層には粒子を存在させておく
必要がある。粒子としては有機、無機のものがあるが、
無機の方が耐熱性の点からより好ましい。例えば、Ｓ　
ｉ　０２．　Ｔ　ｉ　０２．　ＺｎＯ。

Ａ　Ｉ　２０３．　Ｃａ５Ｏａ、　Ｂａ５Ｏ７Ｉ、　Ｃ
ａＣＯ３，カーボンブラック、ゼオライト、その他金属
微粉末などが挙げられる。粒径は０．０２〜２μｍ１添
加量はポリマ当り０．１〜’ｌＱｗｔ％が好ましい。よ
り好ましくは０．０５〜１μｍの粒径のものを使用する
とよい。また２種類以上使用してもよい。

Ａ層については、粒子を含まなくてもよいがＢ層より小
さい粒子、あるいは少量の添加量、あるいは小さい粒子
を少量添加してもよい。粒子としては、粒径は０．００
５〜０．３μｍ、添加量はポリマ当り０〜５ｗｔ％が好
ましい。特に粒径が揃ったコロイド粒子が好ましく、シ
リカゾル、アルミナゾル、酸化チタンゾルなどが特に好
ましい。

本発明のフィルムの厚さは１〜１５μｍであることが好
ましく、より好ましくは２〜１０μｍである。薄いほど
本発明の効果は大きくなる。

Ａ層とＢ層の厚みについては、まずＡ層はＲＰＢ（Ｂ面
の中心線深さ）の１０倍以上にすることが好ましい。

例えばＲＰＢが５００人ならＡ層の厚みは０．５μｍ以
上である。溶液製膜ではフィルム化に際し溶媒の乾燥を
行なう必要があるが、この時２層の界面で層が混合する
。Ａ層の表面（Ａ面）は２層が混合したとしても十分平
滑でなければならないため、Ｂ層との関係においてその
厚みの最小値が決まってくる。一方Ｂ層は、Ａ層はど要
求は厳しくないが０．１μｍ１より好ましくは０．５μ
ｍ以上の厚みが好ましい。Ａ層とＢ層はこのように最低
厚みを維持して、かつ厚みの比率としてはＡ層／Ｂ層＝
０．１〜１０の範囲で調節することが好ましい。より好
ましくは０．２〜５である。

さらに本発明のフィルムのＡ面は、中心線平均粗ざＲａ
覧２〜２０人であることが好ましい。また０、０１μｍ
径以上の微細突起が１０３〜１０８個／ｍｍ２存在する
と磁性層の耐久性向上に効果があり好ましいが、微細突
起はなくてもかまわない。また本発明のＢ面は、ＲＰＢ
とＲ３，の比ＲｐＢ／ＲａＢが３〜２０が好ましく、よ
り好ましくは４〜１５である。

本発明のフィルムは、少なくとも１方向のヤング率が４
００層Ｍｍｍ２以上が好ましく、より好ましくは８００
　ｋＭＩＩ１ｍ２以上である。また少なくとも１方向の
湿度彫版係数が３０ｘ１０−８１／％ＲＨ以下が好まし
く、２０ｘ１０−１ｉ１／％ＲＨ以下がより好ましい。

さらに、Ａ面とＢ面との動摩擦係数は１以下が好ましく
、より好ましくは０．８以下である。この摩擦係数は２
５°Ｃ１５５％ＲＨの雰囲気中で測定した値である。

次に本発明の製造法について説明するが、これに限定さ
れるものではない。

まず、芳香族ポリアミドであるが、酸クロリドとジアミ
ンとからの場合は、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ＞　
、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ＞、ジメチルホルム
アミド（ＤＭＦ＞などの非プロトン性有機極性溶媒中で
、溶液重合したり、水系媒体を使用する界面重合などで
合成される。ポリマ溶液は、単量体として酸クロリドと
ジアミンを使用すると塩化水素が副生ずるため、これを
中和するために水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、炭
酸リチウムなどの無機の中和剤、またはエチレンオキサ
イド、アンモニア、トリエチルアミンなどの有機の中和
剤を添加する。

また、イソシアネートとカルボン酸との反応は、非プロ
トン性有機極性溶媒中、触媒の存在下で行なわれる。こ
れらのポリマ溶液はそのままフィルムを形成する製膜原
液にしてもよく、またポリマを一度単離してから上記の
溶媒に再溶解して製膜原液を調製してもよい。製膜原液
には溶解助剤として無機塩例えば塩化カルシウム、塩化
マグネシウム、塩化リチウムなどを添加する場合もある
。

！！！膜１京液中のポリマ濃度は２〜４Ｑｗｔ％程度が
好ましい。

一方、芳香族ポリイミドあるいはポリアミド酸の溶液は
次のようにして得られる。即ら、ポリアミド酸はＮ−メ
チルピロリドン（ＮＭＰ＞　、ジメチルアセトアミド（
ＤＭＡＣ＞　、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ＞などの
非プロトン性有機極性溶媒中で、テトラカルボン酸二無
水物と芳香族ジアミンを反応させて、調製することがで
きる。また、芳香族ポリイミドは前記のポリアミド酸を
含有する溶液を加熱したり、ピリジンなどのイミド化剤
を添加してポリイミドの粉末を（ｑ、これを再度溶媒に
溶解して調製できる。製膜原液中のポリマ濃度は５〜４
０ｗｔ％程度が好ましい。

上記のように調製された製膜原液は、いわゆる溶液製膜
法によりフィルム化が行なわれる。溶液製膜法には乾湿
式法、乾式法、湿式法などがあるが、乾湿式法、乾式法
が表面性のよいフィルムを１ｑるには好ましい。

湿式法で製膜する場合には該原液を口金から直接製膜用
浴中に押し出すか、又は−旦ドラム等の支持体上に押し
出し、支持体ごと湿式浴中に導入する方法が採用される
。この浴は一般に水系媒体からなるものであり、水の他
に有機溶媒や無機塩等を含有していてもよい。湿式浴を
通すことでフィルム中に含有された塩類、有機溶媒やイ
ミド化剤等の抽出が行なわれるが、これら湿式浴全体を
通過する時間はフィルムの厚みにもよるが１０秒〜３０
分である。ざらにフィルムの長手方向に延伸が行なわれ
る。次いで乾燥、横延伸、熱処理が行なわれるがこれら
の処理は一般に１００〜５００℃で、合計で１秒〜３０
分である。

乾湿式法で製膜する場合は該原液を口金からドラム、エ
ンドレスベルト等の支持体上に押し出して薄膜とし、次
いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させ薄膜が自己保持性
をもつまで乾燥する。乾燥条件は室温〜３００°Ｃ１６
０分以内の範囲である。

乾式１程を終えたフィルムは支持体から剥離されて湿式
１程に導入され、上記の湿式法と同様に脱塩、脱溶媒な
どが行なわれ、ざらに延伸、乾燥、熱処理が行なわれて
フィルムとなる。

乾式法のプロセスを採用した場合には、ドラム、あるい
はエンドレスベルト等のＦで乾燥され、自己保持性をも
ったフィルムを、これら支持体から剥離し、フィルムの
長手方向に延伸を行なう。ざらに残存溶媒を除去するた
めの乾燥や、延伸、熱処理が行なわれるが、これらの処
理は１００〜５００℃で１秒〜３０分である。

以上のように形成されるフィルムはその製膜工程中で延
伸が行なわれるが、延伸倍率は面倍率で０．８〜５．０
（面倍率とは延伸後のフィルム面積を延伸前のフィルム
の面積で除した値で定義する。１以下はリラックスを意
味する。）の範囲内にあることが好ましく、より好まし
くは１．１〜３．０である。

本発明の積層フィルムを形成するには、Ａ層側に相当す
る製膜原液と、８層側に相当する製膜原液の２種類を、
公知の方法例えば特開昭５６−１６２６１７のように合
流管で積層したり、口金内で積層して形成することがで
きる。流延はＢ層を支持体面側になるようにした方が、
Ａ面の表面性を平滑に維持できる点で好ましい。またい
ずれか一方の製膜原液で一旦自己保持性を有するフィル
ムを形成しておき、その上にもう一方の製膜原液を流延
して脱溶媒を行ない、積層フィルムとすることもできる
。特に合流管や、口金内で積層する場合は、原液の粘度
が１００〜１００００ポイズになるように調節すること
が好ましい。この範囲より小さいと原液が口金から出る
前に２液が混合しやすくなり、薄物フィルムの場合はご
くわずかな混合でもＡ面が粗れてくる。逆にこの範囲よ
り大きいと２液の混合は起こりにくくなるがメルトフラ
クチャーが発生しフィルム表面が粗れやすくなり好まし
くない。

また２液の粘度は同じことが好ましいが、多少の粘度差
があってもよく、低粘度側を基準にとると高粘度側の粘
度は１００％以内なら問題ない。

さらに乾式法、乾湿式法を採用する場合、乾燥工程中で
２液が混合することがある。支持体上ヘキャストされた
原液は加熱されると一旦粘度が低下し、その後溶媒の蒸
発に伴なって再び粘度が上昇するが、粘度が１０ポイズ
より下がると２液が混合しやすくなるので、１０ポイズ
より粘度が下がらないよう乾燥条件を十分調節する必要
がある。

例えば乾燥温度を少なくとも２段階に分けて上げていく
方法が採用できる。

以上のようにして本発明のフィルムは製造されるが、ざ
らに磁性層などを付着させる前に前処理として、グロー
放電処理やコロナ放電処理を施すと磁性層の密着性、耐
久性が向上しより好ましい。

［発明の効果］ 本発明のフィルムは、表裏の各々の面に要求される特性
が分離されたものである。そのため、蒸着テープなどの
高密度磁気記録用のベースフィルムに必要なＡ面の表面
性は非常に平滑に維持されているにもかかわらず、８面
が本発明の表面性の範囲にあれば、裏写り現象もなく、
かつ蒸着テープなどを製造する際には広幅でも走行性、
巻取性が良好であり、生産性や品質の向上が計れる。さ
らに本発明のフィルムは、耐熱性が良好なため高温で磁
性層を設けることができ、磁気特性を向上させることが
可能である。磁気記録方式は水平磁化、垂直磁化を問わ
ない。

また、光記録や光磁気記録媒体を連続で作成する場合に
も、本発明のフィルムは磁気記録の場合と同様に使用で
きる。

［特性の測定方法、効果の評価方法］ 本発明の特性値の測定方法および効果の評価方法は次の
通りである。

（１）Ｒａ（中心線平均粗さ）、Ｒｐ（中心線深さ）、
突起数 小板研究所製の薄膜段差測定器（ＥＴ−１０＞を用い、
触針先端半径０．５μｍ、触針荷重５ｍ’ｊ、カットオ
フ値ｏ、ｏｏａｍｍ、測定長Ｑ、５ｍｍの条件で１０回
測定し、その平均値でＲａ、Ｒｐを表わした。

突起数は上記の条件でチャートを書かせ、粗さ曲線の中
心線から突起の山頂までの距離が５０Å以上の突起の数
を計数し、フィルム１ｍｍ当りに相当する突起の数で表
わした。

なお、Ｒａ、Ｒｐの定義は、たとえば奈良治部著「表面
粗さの測定、評価法」　（総合技術センター、１９Ｂ３
）に示されているものである。

（２）　　走行性 フィルムを３Ｑｃｍ幅にスリットして蒸着機内に装填し
、１０−２トールのＡｒ雰囲気下でＡ面をグロー処理し
、次いで１０−５トールまで真空にして１００’Ｃに加
熱したドラムに沿わせて、電子ビーム蒸着により　Ｃｏ
−Ｎｉ合金（Ｃｏ８０％、Ｎｉ２Ｏ％）をＡ面に１００
０人蒸着した。これらの処理を行なう過程でのドラムや
ガイドロール上でのシワの入り方や、処理復のフィルム
ロールの巻姿を観察して走行性を評価した。

（３）電磁変換特性 蒸着したフィルムを１層２インチ幅にスリットし、ＶＴ
Ｒカセットに組み込みＶＴＲテープとした。このテープ
に家庭用ＶＴＲを用いてシバツク製のテレビ試験波形発
生器（ＴＧ７／Ｕ７０６）により１００％クロマ信号を
記録し、その再生信号からシバツク製カラービデオノイ
ズ測定器（９２５Ｄ／１）でクロマＳ／Ｎを測定した。

市販のテープを基準として評価した。

［実施例］ 以下に実施例に基づいて本発明を説明する。ただし本発
明はこれらの実施例に限定されるものではない。

実施例１ ２−クロルパラフェニレンジアミン７０モル％と４．４
°−ジアミノジフェニルスルホン３０モル％をアミン成
分とし、テレフタル酸クロリド１００モル％を酸成分と
してＮＭＰ中で重合し、水酸化リチウムで中和してポリ
マ溶液を１ｑだ。固有粘度は２．５である。これを２分
割し、前もってＮＭＰ中で分散してあった０、０８μｍ
の球状シリカを、Ａ層になるポリマ溶液にはポリマ当り
０．１ｗｔ％添加した。また別にＮＭＰ中に分散してあ
らた平均粒径０．２μｍのシリカをＢ層になるポリマ溶
液にはポリマ当り１ｗｔ％添加し、ざらに両方のポリマ
溶液を３０’Ｃで１０００ポイズになるように調整して
製膜原液とした。

これらの原液を口金内で最終フィルムでＡ層は５μｍ、
Ｂ層は３μｍになるように２層に積層し、ざらに３０℃
の金属ベルト上に流延し、８０℃で２分乾燥１麦、１２
０℃、１５０℃と段階的に温度を上げ合計で１０分乾燥
して自己保持性を持つゲルフィルムを得た。なお、Ｂ層
をベルト側にして製膜した。このゲルフィルムを連続的
にベルトから剥離して水槽中に導入し、脱溶媒と脱塩を
行ない、次にテンター内で水分の乾燥と熱処理を施して
８μｍの最終フィルムを１ｑた。この間にフィルムは水
槽中で長手方向に１．３倍、テンター中で幅方向に１．
３倍延伸され、また熱処理の条件は３００’０．５分間
である。

１ｑられたフィルムの特性は第１表のように、Ａ面は非
常に平滑であり、８面はＡ面より粗れたものであった。

またこのフィルムは、ＭＤ、ＴＤ力方向もヤング率は１
　、０００ｋｇ／ｍｍ２　、強度５３ｋｇ／ｍｍ２、伸
度５５％と機械的にすぐれた特性を有しており、湿度膨
張係数は６Ｘ１０−６１／％ＲＨと小さいものであった
。

次いでこのフィルムのＡ面にＣｏ−Ｎｉを１０００人蒸
着したが、蒸着中のドラムやガイドロール上でのシワの
発生はなく、巻取ったフィルムロールの巻姿は非常に良
好であった。

ざらにこれをスリットして磁気テープとし、電磁変換特
性を評価したが、非常にすぐれたものであった。

実施例２ 実施例１と同じポリマを用い、Ａ層側には０゜０８μｍ
のシリカをポリマ当り０．５ｗｔ％、Ｂ層側には０．２
μｍのシリカをポリマ当り２ｗｔ％添加して、最終フィ
ルムでＡ層、Ｂ層とも４μｍの厚みになるように積層し
、実施例１と同様に製膜して８μｍのフィルムを得た。

このフィルムに磁性層を蒸着して磁気テープを作製し、
評価を行なったが、製造工程での走行性と、テープの電
磁変換特性は非常に良好なものであった。

実施例３ ２−クロルパラフェニレンジアミン８０モル％と、４．
４°−ジアミノジフェニルエーテル２０モル％をアミン
成分とし、２−クロルテレフタル酸クロリド１００モル
％を酸成分としてＮＭＰ中で重合し、炭酸カルシウムで
中和してポリマ溶液を得た。これを２分割し、Ａ層側に
は０．０５μｍのシリカをポリマ当りＱ、２ｗｔ％、Ｂ
層側には０．２μｍのシリカをポリマ当り２．５ｗｔ％
添加し、最終フィルムでＡ層は３μｍ、Ｂ層は１μｍに
なるように合流管で積層して３０’Ｃの金属ベルト上へ
流延した。ポリマ溶液の粘度は３０℃で３０００ポイズ
である。これを実施例１と同様に段階的に温度を上げて
自己保持性を持つまで乾燥し、次いで水槽、テンターを
通して４μｍのフィルムを得た。

延伸倍率は実施例１と同じである。

得られたフィルムは、ＭＤ、ＴＤ力方向もヤング率１　
、２００ｋ（１／ｍｍ２　、強度５８ｋＭｍｍ２　、伸
度５０％で、表面性は第１表の通りである。

ついでこのフィルムを蒸着したが、フィルムが非常に薄
いにもかかわらず、走行性の問題は全くなく、かつ巻取
ったフィルムの巻姿は良好であった。ざらにこれを磁気
テープとして評価したが、電磁変換特性は非常に良好な
ものであった。

実施例４ ４．４°−ジアミノジフェニルエーテル５０モル％と、
パラフェニレンジアミン５０モル％をアミン成分とし、
無水ピロメリット１１００モル％とをＤＭＡＣ中で重合
してポリアミド酸溶液を１ｑだ。

これを２分割して、Ａ層側には０．０５μｍのシリカを
ポリマ当り０．０５ｗｔ％、Ｂ層側には平均粒径０．８
μｍのシリカ粉末をポリマ当り’＋ｗｔ％添加し、最終
フィルムでＡ層、Ｂ層とも５μｍになるように口金２台
を使って３０℃の金属ベルト上で積層した。ポリマ溶液
の粘度は、いずれも３０℃で５００ボイスである。これ
を６０℃、１００℃、１３０℃と温度を上げて自己保持
性を持つまで乾燥し、さらにベルトから剥離して４２０
℃のテンターで熱処理を行なった。延伸倍率はＭＤ、Ｔ
Ｄ力方向も１．０倍で、厚みは１０μｍ、ヤング率は４
２０ｋＭｍｍ２　、表面性は第１表）通すＡ面側は非常
に平滑なものであった。

次いでこのフィルムに蒸着を行なったが、Ａ面側が非常
に平滑にもかかわらず、走行性は良好であり、また巻姿
も良好であった。さらに磁気テープとして評価したが、
良好な電磁変換特性を示した。

比較例１〜５ 実施例１と同じポリマを用い、Ａ層側に添加する粒子は
実施例１と同様０．０８μｍのシリカとし、８層側に添
加するシリカ粒子を第２表のように種々変えて、実施例
１と同様に製膜し　８μｍのフィルムを１ｑだ。ＡＭの
厚みは５μｍ、８層の厚みは３μｍであり、これらフィ
ルムの表面性、走行性、電磁変換特性を第１表に示した
。

比較例１〜３は、３層ｃｍ幅で蒸着しようとしても、蒸
着ドラム上でシワが入りフィルムの熱負けが認められた
。さらにガイドロール上でシワが入ってフィルムの巻取
りがスムーズにできず、巻取ったフィルムロールの巻姿
は非常に悪いものであった。そこでフィルムを５ｃｍ幅
にして同様に蒸着したところ、はぼ問題なく蒸着はでき
た。これで磁気テープを作製し電磁変換特性を評価した
ところ良好なものであった。これかられかるように比較
例１〜３は、Ｂ面の表面が平滑すぎ、広幅での走行性は
非常に劣ったものとなっていた。

比較例４は、蒸着開始時は走行性は良好であったが、し
だいにドラムやガイドロールにフィルムの削れ粉が付着
し初め、ドラム上でフィルムが滑ってＭＤ力方向シワが
入り、この部分でフィルムの熱負けが認められた。また
ガイドロール上で滑りやすいため、フィルムの蛇行が始
まり巻取りがスムーズにできなかった。さらに電磁変換
特性もフィルムの削れ粉の付着の影響のため劣ったもの
であった。

比較例５は、ＲＰＢが大きいために走行性は良好であっ
たが、裏写りが大きく、作製した磁気テープの表面はゆ
ず肌状にうねっており、電磁変換特性は非常に悪いもの
であった。

比較例６ 実施例１において、流延時のベルトの温度と乾燥温度を
１９０°Ｃとする以外は実施例１と同様に製膜し８μｍ
のフィルムを得た。表面性は第１表に示すように、Ａ面
、Ｂ面ともほぼ同じものしか得られず、電磁変換特性は
劣ったものであった。

ベルト上へ流延された原液の乾燥初期の粘度挙動を調べ
たところ、粘度は８ポイズまで低下しており、Ａ層とＢ
ＩＢが対流で混合してしまい２層にならないことがわか
った。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 芳香族ポリアミドあるいは芳香族ポリイミドから成るフ
   ィルムであって、該フィルムは少なくとも２層から成り
   、一方の層（Ａ層）は表面のＲ＿Ｐ＿Ａ（中心線深さ）
   が１０〜２００Å、もう一方の層（Ｂ層）は表面のＲ＿
   Ｐ＿Ｂ（中心線深さ）が下記（１）式の範囲にあり、Ｒ
   ＿ａ＿Ｂ（中心線平均粗さ）が２０〜２００Å、５０Å
   以上の高さの突起が１ｍｍ当り３０個以上であることを
   特徴とする高密度記録媒体用ベースフィルム。 Ｒ＿Ｐ＿Ａ＋５０≦Ｒ＿Ｐ＿Ｂ≦１，５００（Å）・・
   ・（１）