JP2000256485A - 芳香族ポリアミドフイルムおよびそれを用いた磁気記録媒体 - Google Patents
芳香族ポリアミドフイルムおよびそれを用いた磁気記録媒体Info
- Publication number
- JP2000256485A JP2000256485A JP11060216A JP6021699A JP2000256485A JP 2000256485 A JP2000256485 A JP 2000256485A JP 11060216 A JP11060216 A JP 11060216A JP 6021699 A JP6021699 A JP 6021699A JP 2000256485 A JP2000256485 A JP 2000256485A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- recording medium
- magnetic recording
- aromatic polyamide
- polyamide film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 薄いフイルムを使用した磁気記録媒体でも端
面の損傷が小さい磁気記録媒体、およびそれに使用する
芳香族ポリアミドフイルムを提供する 【解決手段】 幅方向の５０℃での損失弾性率Ｅ"(５
０）と１５０℃での損失弾性率Ｅ"(１５０）が（１）式
の範囲にあることを特徴とする芳香族ポリアミドフイル
ム、およびそれを用いた磁気記録媒体。 Ｅ"(５０）＞Ｅ"(１５０） ・・・（１）
面の損傷が小さい磁気記録媒体、およびそれに使用する
芳香族ポリアミドフイルムを提供する 【解決手段】 幅方向の５０℃での損失弾性率Ｅ"(５
０）と１５０℃での損失弾性率Ｅ"(１５０）が（１）式
の範囲にあることを特徴とする芳香族ポリアミドフイル
ム、およびそれを用いた磁気記録媒体。 Ｅ"(５０）＞Ｅ"(１５０） ・・・（１）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、繰り返し走行して
も磁気記録媒体の端面の損傷が小さい磁気記録媒体およ
びそれに使用する芳香族ポリアミドフイルムに関する。
も磁気記録媒体の端面の損傷が小さい磁気記録媒体およ
びそれに使用する芳香族ポリアミドフイルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録媒体の高容量化には、磁性層の
性能向上や媒体の薄膜化等の方法が採られてきた。ま
た、面内の記録密度向上には、記録波長を短くしたり、
トラック幅を狭くする方法が採られ、限られたカセット
内に長く巻くには、媒体を薄くする方法が採られてい
る。
性能向上や媒体の薄膜化等の方法が採られてきた。ま
た、面内の記録密度向上には、記録波長を短くしたり、
トラック幅を狭くする方法が採られ、限られたカセット
内に長く巻くには、媒体を薄くする方法が採られてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし磁気記録媒体を
薄くしていくと、媒体をテープデッキで走行させた際に
デッキ内のガイドピンやヘッドで端面が傷つき変形する
という問題が発生してきた。
薄くしていくと、媒体をテープデッキで走行させた際に
デッキ内のガイドピンやヘッドで端面が傷つき変形する
という問題が発生してきた。
【０００４】本発明の課題は、薄いフイルムを使用した
磁気記録媒体でも端面の損傷が小さい磁気記録媒体、お
よびそれに使用する芳香族ポリアミドフイルムを提供す
ることにある。
磁気記録媒体でも端面の損傷が小さい磁気記録媒体、お
よびそれに使用する芳香族ポリアミドフイルムを提供す
ることにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明に係る芳香族ポリアミドフイルムは、幅方向
の５０℃での損失弾性率Ｅ"(５０）と１５０℃での損失
弾性率Ｅ"(１５０）が（１）式の範囲にあることを特徴
とするものからなる。 Ｅ"(５０）＞Ｅ"(１５０） ・・・（１）
に、本発明に係る芳香族ポリアミドフイルムは、幅方向
の５０℃での損失弾性率Ｅ"(５０）と１５０℃での損失
弾性率Ｅ"(１５０）が（１）式の範囲にあることを特徴
とするものからなる。 Ｅ"(５０）＞Ｅ"(１５０） ・・・（１）
【０００６】また、本発明に係る磁気記録媒体は、この
フイルムに磁性層を設けたことを特徴とするものからな
る。
フイルムに磁性層を設けたことを特徴とするものからな
る。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下に本発明について望ましい実
施の形態とともに詳細に説明する。本発明において、芳
香族ポリアミドとは、次の一般式（Ｉ）および／または
一般式（ＩＩ）で表わされる繰り返し単位を５０モル％
以上含むものが好ましく、７０モル％以上含むものがよ
り好ましい。一般式（Ｉ）を次の化１に、一般式（Ｉ
Ｉ）を次の化２に示す。
施の形態とともに詳細に説明する。本発明において、芳
香族ポリアミドとは、次の一般式（Ｉ）および／または
一般式（ＩＩ）で表わされる繰り返し単位を５０モル％
以上含むものが好ましく、７０モル％以上含むものがよ
り好ましい。一般式（Ｉ）を次の化１に、一般式（Ｉ
Ｉ）を次の化２に示す。
【０００８】
【化１】
【０００９】
【化２】
【００１０】ここで、Ａｒ1 、Ａｒ2 、Ａｒ3 として
は、例えば、次の化３に示すものが挙げられる。
は、例えば、次の化３に示すものが挙げられる。
【００１１】
【化３】
【００１２】化３において、ここでＸ、Ｙは、 −Ｏ−，−ＣＨ2 −，−ＣＯ−，−ＳＯ2 −，−Ｓ−，
−Ｃ（ＣＨ3 ）2 − 等から選ばれるが、これらに限定されるものではない。
更にこれらの芳香環上の水素原子の一部が、ハロゲン基
（特に塩素）、ニトロ基、Ｃ1 〜Ｃ3 のアルキル基（特
にメチル基）、Ｃ1 〜Ｃ3 のアルコキシ基などの置換基
で置換されているものも含み、また、重合体を構成する
アミド結合中の水素が他の置換基によって置換されてい
るものも含む。
−Ｃ（ＣＨ3 ）2 − 等から選ばれるが、これらに限定されるものではない。
更にこれらの芳香環上の水素原子の一部が、ハロゲン基
（特に塩素）、ニトロ基、Ｃ1 〜Ｃ3 のアルキル基（特
にメチル基）、Ｃ1 〜Ｃ3 のアルコキシ基などの置換基
で置換されているものも含み、また、重合体を構成する
アミド結合中の水素が他の置換基によって置換されてい
るものも含む。
【００１３】本発明の芳香族ポリアミドは、一般式
（Ｉ）および／または一般式（ＩＩ）で表される繰り返
し単位を５０モル％以上含むものであるが、残りの５０
モル％未満は他の繰り返し単位が共重合（たとえば、芳
香族ポリイミドなど）、またはブレンドされていても差
し支えなく、またフイルムの物性を損なわない程度に導
電性粒子、滑剤、酸化防止剤その他の添加剤等がブレン
ドされていてもよい。
（Ｉ）および／または一般式（ＩＩ）で表される繰り返
し単位を５０モル％以上含むものであるが、残りの５０
モル％未満は他の繰り返し単位が共重合（たとえば、芳
香族ポリイミドなど）、またはブレンドされていても差
し支えなく、またフイルムの物性を損なわない程度に導
電性粒子、滑剤、酸化防止剤その他の添加剤等がブレン
ドされていてもよい。
【００１４】上記のような芳香族ポリアミドフイルムか
らなる本発明のフイルムにおいては、幅方向（ＴＤ方
向）の５０℃での損失弾性率Ｅ"(５０）と１５０℃での
損失弾性率Ｅ"(１５０）がＥ"(５０）＞Ｅ"(１５０）の
関係を満たす必要がある。
らなる本発明のフイルムにおいては、幅方向（ＴＤ方
向）の５０℃での損失弾性率Ｅ"(５０）と１５０℃での
損失弾性率Ｅ"(１５０）がＥ"(５０）＞Ｅ"(１５０）の
関係を満たす必要がある。
【００１５】Ｅ"(１５０）がＥ"(５０）以上であると、
磁気記録媒体とされ、それが使用される際の端面の損傷
が大きくなる。
磁気記録媒体とされ、それが使用される際の端面の損傷
が大きくなる。
【００１６】また、この本発明に係る芳香族ポリアミド
フイルムにおいては、無機粒子の含有量は０〜１ｗｔ％
であることが好ましく、より好ましくは０．０１〜０．
５ｗｔ％である。ただし、含有率が０であると、摩擦係
数が大きくなって端部の耐久性が悪化するので、ごく僅
かでも含有されていることが好ましい。また、含有率が
１ｗｔ％よりも多いと、粒子とガイドとの摩擦係数が高
くなり耐久性が悪化するおそれがある。
フイルムにおいては、無機粒子の含有量は０〜１ｗｔ％
であることが好ましく、より好ましくは０．０１〜０．
５ｗｔ％である。ただし、含有率が０であると、摩擦係
数が大きくなって端部の耐久性が悪化するので、ごく僅
かでも含有されていることが好ましい。また、含有率が
１ｗｔ％よりも多いと、粒子とガイドとの摩擦係数が高
くなり耐久性が悪化するおそれがある。
【００１７】このようなフイルムの全厚みに対し、上記
の無機粒子を含有した層の割合は５０％以上であること
が好ましい。５０％より少ないと走行性が不安定になる
おそれがある。また、含有される無機粒子の大きさは１
０〜２００ｎｍであることが好ましい。
の無機粒子を含有した層の割合は５０％以上であること
が好ましい。５０％より少ないと走行性が不安定になる
おそれがある。また、含有される無機粒子の大きさは１
０〜２００ｎｍであることが好ましい。
【００１８】本発明に係る芳香族ポリアミドフイルムの
厚みは、とくに磁気記録媒体の基材フイルムとして使用
する場合には、１〜８μｍの範囲にあることが好まし
い。このような薄膜のフイルムとすることで、高容量
化、長時間記録の要請に応えることができるようにな
る。
厚みは、とくに磁気記録媒体の基材フイルムとして使用
する場合には、１〜８μｍの範囲にあることが好まし
い。このような薄膜のフイルムとすることで、高容量
化、長時間記録の要請に応えることができるようにな
る。
【００１９】本発明では、上記のような基材フイルムの
少なくとも片面に磁性層を設けた磁気記録媒体を提供す
る。磁性層を形成する方法は、強磁性粉末を各種バイン
ダーを用いて磁性塗料とし基材フイルム上に塗布する湿
式法、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティン
グ法などの乾式法があり、特に限定されるものではない
が、ここでは湿式法を例にとって説明する。
少なくとも片面に磁性層を設けた磁気記録媒体を提供す
る。磁性層を形成する方法は、強磁性粉末を各種バイン
ダーを用いて磁性塗料とし基材フイルム上に塗布する湿
式法、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティン
グ法などの乾式法があり、特に限定されるものではない
が、ここでは湿式法を例にとって説明する。
【００２０】磁性体となる磁性粉末の種類は特に限定さ
れないが、強磁性粉末、例えば、酸化鉄、酸化クロム、
Ｆｅ，Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎ
ｉ、Ｃｏ−Ｃｒ等が好ましく用いられる。また、磁性体
の粒子径（長軸）は０．３μｍ以下が好ましく、より好
ましくは０．２μｍ以下である。
れないが、強磁性粉末、例えば、酸化鉄、酸化クロム、
Ｆｅ，Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎ
ｉ、Ｃｏ−Ｃｒ等が好ましく用いられる。また、磁性体
の粒子径（長軸）は０．３μｍ以下が好ましく、より好
ましくは０．２μｍ以下である。
【００２１】磁性粉末は各種バインダーを用いて磁性塗
料とすることができるが、熱硬化性樹脂系バインダーお
よび放射線硬化系バインダーが好ましく、その他添加剤
として分散剤、潤滑剤、帯電防止剤等を用いてもよい。
例えば、塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共
重合体、ポリウレタンプレポリマおよびポリイソシアネ
ートよりなるバインダーを用いることができる。
料とすることができるが、熱硬化性樹脂系バインダーお
よび放射線硬化系バインダーが好ましく、その他添加剤
として分散剤、潤滑剤、帯電防止剤等を用いてもよい。
例えば、塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共
重合体、ポリウレタンプレポリマおよびポリイソシアネ
ートよりなるバインダーを用いることができる。
【００２２】磁性層と基材フイルムとの接着性を向上さ
せるために、フイルム表面には中間層を設けてもよい。
せるために、フイルム表面には中間層を設けてもよい。
【００２３】バックコート層を設ける場合には、バック
コート層は、たとえば、非磁性粉末、結合剤樹脂、潤滑
剤等を有機溶剤で分散させて塗料を調製し、フイルムに
塗布乾燥して形成させる。バックコート層に使用される
非磁性粉末としては、ＣａＣＯ3 、カーボンブラック、
ＴｉＯ2 、α−Ｆｅ2 ＣＯ3 等がある。結合剤樹脂およ
び有機溶剤としては前記磁性層で使用したものと同じも
のが使用できる。バックコート層は厚さ１μｍ以下であ
ると好ましい。１μｍよりも厚いとテープ全体の強度が
不足してくる。
コート層は、たとえば、非磁性粉末、結合剤樹脂、潤滑
剤等を有機溶剤で分散させて塗料を調製し、フイルムに
塗布乾燥して形成させる。バックコート層に使用される
非磁性粉末としては、ＣａＣＯ3 、カーボンブラック、
ＴｉＯ2 、α−Ｆｅ2 ＣＯ3 等がある。結合剤樹脂およ
び有機溶剤としては前記磁性層で使用したものと同じも
のが使用できる。バックコート層は厚さ１μｍ以下であ
ると好ましい。１μｍよりも厚いとテープ全体の強度が
不足してくる。
【００２４】次に本発明に係るフイルムおよび磁気記録
媒体の製造方法について説明するが、これに限定される
ものではない。まず芳香族ポリアミドであるが、酸クロ
リドとジアミンから得る場合には、Ｎ−メチルピロリド
ン（以下、ＮＭＰと略称することもある。）、ジメチル
アセトアミド（以下、ＤＭＡｃと略称することもあ
る。）、ジメチルホルムアミド（以下、ＤＭＦと略称す
ることもある。）などの非プロトン性有機極性溶媒中
で、溶液重合したり、水系媒体を使用する界面重合など
で合成される。ポリマ溶液は、単量体として酸クロリド
とジアミンを使用すると塩化水素が副生するが、これを
中和する場合には水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、
炭酸リチウムなどの無機の中和剤、またエチレンオキサ
イド、プロピレンオキサイド、アンモニア、トリエチル
アミン、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンな
どの有機の中和剤が使用される。また、イソシアネート
とカルボン酸との反応は、非プロトン性有機極性溶媒
中、触媒の存在下で行なわれる。
媒体の製造方法について説明するが、これに限定される
ものではない。まず芳香族ポリアミドであるが、酸クロ
リドとジアミンから得る場合には、Ｎ−メチルピロリド
ン（以下、ＮＭＰと略称することもある。）、ジメチル
アセトアミド（以下、ＤＭＡｃと略称することもあ
る。）、ジメチルホルムアミド（以下、ＤＭＦと略称す
ることもある。）などの非プロトン性有機極性溶媒中
で、溶液重合したり、水系媒体を使用する界面重合など
で合成される。ポリマ溶液は、単量体として酸クロリド
とジアミンを使用すると塩化水素が副生するが、これを
中和する場合には水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、
炭酸リチウムなどの無機の中和剤、またエチレンオキサ
イド、プロピレンオキサイド、アンモニア、トリエチル
アミン、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンな
どの有機の中和剤が使用される。また、イソシアネート
とカルボン酸との反応は、非プロトン性有機極性溶媒
中、触媒の存在下で行なわれる。
【００２５】これらのポリマ溶液はそのまま製膜原液と
して使用してもよく、あるいはポリマを一度単離してか
ら上記の有機溶媒や、硫酸等の無機溶剤に再溶解して製
膜原液を調製してもよい。
して使用してもよく、あるいはポリマを一度単離してか
ら上記の有機溶媒や、硫酸等の無機溶剤に再溶解して製
膜原液を調製してもよい。
【００２６】本発明の芳香族ポリアミドフイルムを得る
ためには、ポリマの固有粘度（ポリマ０．５ｇを硫酸中
で１００ｍｌの溶液として３０℃で測定した値）は、
０．５以上であることが好ましい。
ためには、ポリマの固有粘度（ポリマ０．５ｇを硫酸中
で１００ｍｌの溶液として３０℃で測定した値）は、
０．５以上であることが好ましい。
【００２７】製膜原液には溶解助剤として無機塩、例え
ば塩化カルシウム、塩化マグネシム、塩化リチウム、硝
酸リチウムなどを添加する場合もある。製膜原液中のポ
リマ濃度は２〜４０ｗｔ％程度が好ましい。
ば塩化カルシウム、塩化マグネシム、塩化リチウム、硝
酸リチウムなどを添加する場合もある。製膜原液中のポ
リマ濃度は２〜４０ｗｔ％程度が好ましい。
【００２８】 粒子の添加方法は、粒子を予め溶媒中
に十分スラリー化した後、重合用溶媒または希釈用溶媒
として使用する方法や、製膜原液を調製した後に直接添
加する方法などがある。また凝集粒子の凝集度は溶媒中
での粒子の分散時間、分散回数をコントロールすること
により制御する。
に十分スラリー化した後、重合用溶媒または希釈用溶媒
として使用する方法や、製膜原液を調製した後に直接添
加する方法などがある。また凝集粒子の凝集度は溶媒中
での粒子の分散時間、分散回数をコントロールすること
により制御する。
【００２９】上記のように調製された製膜原液は、いわ
ゆる溶液製膜法によりフイルム化が行なわれる。溶液製
膜法には乾湿式法、乾式法、湿式法などがあり、いずれ
の方法で製膜されても差し支えないが、ここでは乾湿式
法を例にとって説明する。
ゆる溶液製膜法によりフイルム化が行なわれる。溶液製
膜法には乾湿式法、乾式法、湿式法などがあり、いずれ
の方法で製膜されても差し支えないが、ここでは乾湿式
法を例にとって説明する。
【００３０】乾湿式法で製膜する場合は、該原液を口金
からドラム、エンドレスベルト等の支持体上に押し出し
て薄膜とし、次いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させ薄
膜が自己保持性をもつまで乾燥する。乾燥条件は室温〜
２００℃、６０分以内の範囲であり、好ましくは室温〜
１８０℃の範囲である。乾燥温度が２００℃を越える
と、急激な加熱によるボイドの発生、表面の荒れ等が起
こり、工業材料、磁気材料として実用的なフイルムが得
られにくい。
からドラム、エンドレスベルト等の支持体上に押し出し
て薄膜とし、次いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させ薄
膜が自己保持性をもつまで乾燥する。乾燥条件は室温〜
２００℃、６０分以内の範囲であり、好ましくは室温〜
１８０℃の範囲である。乾燥温度が２００℃を越える
と、急激な加熱によるボイドの発生、表面の荒れ等が起
こり、工業材料、磁気材料として実用的なフイルムが得
られにくい。
【００３１】上記乾式工程を終えたフイルムは、支持体
から剥離されて湿式工程に導入され、ここでフイルム中
に含有されているイオン性無機化合物が除去される。こ
の浴は一般に水系媒体からなるものであり、水の他に有
機溶媒や無機塩等を含有していてもよい。しかし一般に
は水分量が３０％以上、好ましくは５０％以上含有され
ているものであり、浴温度は通常０〜１００℃で使用さ
れる。この湿式工程では剥離されたフイルムはかかる浴
中に緊張下で浸漬され、フイルム中の無機化合物は０．
１％未満、好ましくは０．０５％以下まで抽出される。
溶解助剤としての無機塩量は多くても中和で生成した中
和塩、あるいは中和塩と同量とする。このようにすれ
ば、無機塩量が少量であるため抽出速度が速く、また浴
中の無機塩や有機溶媒の回収も容易になる。
から剥離されて湿式工程に導入され、ここでフイルム中
に含有されているイオン性無機化合物が除去される。こ
の浴は一般に水系媒体からなるものであり、水の他に有
機溶媒や無機塩等を含有していてもよい。しかし一般に
は水分量が３０％以上、好ましくは５０％以上含有され
ているものであり、浴温度は通常０〜１００℃で使用さ
れる。この湿式工程では剥離されたフイルムはかかる浴
中に緊張下で浸漬され、フイルム中の無機化合物は０．
１％未満、好ましくは０．０５％以下まで抽出される。
溶解助剤としての無機塩量は多くても中和で生成した中
和塩、あるいは中和塩と同量とする。このようにすれ
ば、無機塩量が少量であるため抽出速度が速く、また浴
中の無機塩や有機溶媒の回収も容易になる。
【００３２】湿式工程を出たフイルムは、更に延伸・乾
燥工程、熱処理工程を経てフイルムとなる。そのときの
温度は２００〜４５０℃が好ましく、時間は１０秒以上
２０分以下が好ましい。
燥工程、熱処理工程を経てフイルムとなる。そのときの
温度は２００〜４５０℃が好ましく、時間は１０秒以上
２０分以下が好ましい。
【００３３】以上のように形成されるフイルムは、その
製膜工程中で、機械特性が本発明の範囲となるように延
伸が行なわれるが、延伸倍率は面倍率で０．８〜１０．
０（面倍率とは延伸後のフイルム面積を延伸前のフイル
ムの面積で除した値で定義する。１以下はリラックスを
意味する。）の範囲内にあることが好ましく、より好ま
しくは１．１〜３．０の範囲である。また、延伸あるい
は熱処理後のフイルムを徐冷することが有効であり、１
００℃／秒以下の速度で冷却することが有効である。
製膜工程中で、機械特性が本発明の範囲となるように延
伸が行なわれるが、延伸倍率は面倍率で０．８〜１０．
０（面倍率とは延伸後のフイルム面積を延伸前のフイル
ムの面積で除した値で定義する。１以下はリラックスを
意味する。）の範囲内にあることが好ましく、より好ま
しくは１．１〜３．０の範囲である。また、延伸あるい
は熱処理後のフイルムを徐冷することが有効であり、１
００℃／秒以下の速度で冷却することが有効である。
【００３４】本発明で規定したＥ"(５０）＞Ｅ"(１５
０）を達成するためには、延伸温度を高くすることが好
ましく、また、延伸倍率を下げることが好ましい。
０）を達成するためには、延伸温度を高くすることが好
ましく、また、延伸倍率を下げることが好ましい。
【００３５】なお、本発明に係るフイルムは、積層フイ
ルムであってもよい。例えば２層の場合には、Ａ層に相
当する製膜原液と、Ｂ層に相当する製膜原液の２種類を
公知の方法、例えば特開昭５６ー１６２６１７号公報に
記載されているように合流管で積層したり、口金内で積
層して形成することができる。さらに３層以上の場合も
同様である。合流管や口金内で積層する場合は、原液の
粘度が１００〜１００００ポイズになるように調節する
ことが好ましい。この範囲より小さいと原液が口金から
出る前に液同士が混合し易くなり好ましくない。逆にこ
の範囲より大きいとメルトフラクチャーが発生し表面が
荒れやすくなり好ましくない。また、各層の粘度は同じ
になることが好ましいが、多少の粘度差があってもよ
く、粘度差は５０％以内を目標とするとよい。
ルムであってもよい。例えば２層の場合には、Ａ層に相
当する製膜原液と、Ｂ層に相当する製膜原液の２種類を
公知の方法、例えば特開昭５６ー１６２６１７号公報に
記載されているように合流管で積層したり、口金内で積
層して形成することができる。さらに３層以上の場合も
同様である。合流管や口金内で積層する場合は、原液の
粘度が１００〜１００００ポイズになるように調節する
ことが好ましい。この範囲より小さいと原液が口金から
出る前に液同士が混合し易くなり好ましくない。逆にこ
の範囲より大きいとメルトフラクチャーが発生し表面が
荒れやすくなり好ましくない。また、各層の粘度は同じ
になることが好ましいが、多少の粘度差があってもよ
く、粘度差は５０％以内を目標とするとよい。
【００３６】さらに乾式法、乾湿式法を採用する場合、
乾燥工程中で各液が混合することがある。支持体上へキ
ャストされた原液は、加熱されると一旦粘度が低下し、
その後溶媒の蒸発に伴って粘度が上昇するが、粘度が１
０ポイズより下がると各液が混合しやすくなるので、１
０ポイズ好ましくは５０ポイズよりも粘度が下がらない
よう乾燥条件を十分調節する必要がある。例えば、乾燥
温度を２４０℃を越えない温度で乾燥させる、あるいは
乾燥温度を少なくとも２段階に分けて上げていく方法が
採用できる。
乾燥工程中で各液が混合することがある。支持体上へキ
ャストされた原液は、加熱されると一旦粘度が低下し、
その後溶媒の蒸発に伴って粘度が上昇するが、粘度が１
０ポイズより下がると各液が混合しやすくなるので、１
０ポイズ好ましくは５０ポイズよりも粘度が下がらない
よう乾燥条件を十分調節する必要がある。例えば、乾燥
温度を２４０℃を越えない温度で乾燥させる、あるいは
乾燥温度を少なくとも２段階に分けて上げていく方法が
採用できる。
【００３７】次にこのフイルムに磁性層を塗布する。磁
性層を塗布する方法は公知の方法で行うことができる
が、グラビアロールを使用する方法が塗膜の均一性の点
ではより好ましい。塗布後の乾燥温度は９０℃〜１５０
℃が好ましい。またカレンダー工程は２５℃〜１５０℃
の範囲で行うのが好ましい。
性層を塗布する方法は公知の方法で行うことができる
が、グラビアロールを使用する方法が塗膜の均一性の点
ではより好ましい。塗布後の乾燥温度は９０℃〜１５０
℃が好ましい。またカレンダー工程は２５℃〜１５０℃
の範囲で行うのが好ましい。
【００３８】この後、磁性層と反対側の面に更に走行性
を向上させるために、公知の方法によりバックコート層
を設けてもよい。
を向上させるために、公知の方法によりバックコート層
を設けてもよい。
【００３９】更に、この磁性層を塗布したフイルムをキ
ュアした後スリットして本発明の磁気記録媒体となる。
例えばＤＤＳ−１、２、３、４、ＱＩＣ、データ８ｍｍ
などのデータ用の磁気記録媒体が挙げられるが、これら
に限定されるものではない。
ュアした後スリットして本発明の磁気記録媒体となる。
例えばＤＤＳ−１、２、３、４、ＱＩＣ、データ８ｍｍ
などのデータ用の磁気記録媒体が挙げられるが、これら
に限定されるものではない。
【００４０】
【実施例】本発明における測定方法、効果の評価方法は
次の方法による。 （１）損失弾性率 "RHEOVIBRON"DDV-II-EAを用い、周波数１１０Ｈｚ、昇
温速度２℃／分で測定した。他の条件は振幅１６μｍ
（片振幅）、初荷重６ｇ、測定温度間隔２℃、試験室雰
囲気は２３℃、５０％ＲＨで窒素パージして測定した。
次の方法による。 （１）損失弾性率 "RHEOVIBRON"DDV-II-EAを用い、周波数１１０Ｈｚ、昇
温速度２℃／分で測定した。他の条件は振幅１６μｍ
（片振幅）、初荷重６ｇ、測定温度間隔２℃、試験室雰
囲気は２３℃、５０％ＲＨで窒素パージして測定した。
【００４１】（２）評価法 フイルムに磁性層を１．５μｍ、バックコート層を０．
５μｍ塗布し、６ｍｍ幅にスリットしてテープとする。
これをＤＶＣーＰＲＯ機で、２５℃、６０％ＲＨ雰囲気
下、１００回の走行試験を行う。走行テスト内容は、再
生を８ｍ／分、巻戻しを１２０ｍ／分の速度で１サイク
ルとし、これを１００回繰り返す。テスト後テープを切
断して断面を観察する。フイルム端面の厚みの増加がフ
イルム中央部に対し１０％を越えるものは×、１０％以
下のものを○とした。
５μｍ塗布し、６ｍｍ幅にスリットしてテープとする。
これをＤＶＣーＰＲＯ機で、２５℃、６０％ＲＨ雰囲気
下、１００回の走行試験を行う。走行テスト内容は、再
生を８ｍ／分、巻戻しを１２０ｍ／分の速度で１サイク
ルとし、これを１００回繰り返す。テスト後テープを切
断して断面を観察する。フイルム端面の厚みの増加がフ
イルム中央部に対し１０％を越えるものは×、１０％以
下のものを○とした。
【００４２】実施例１ 重合槽にＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）を仕込
み、この中に芳香族ジアミン成分として７０モル％に相
当する２−クロルパラフェニレンジアミンと、３０モル
％に相当する４，４’−ジアミノジフェニルスルホンと
を溶解させた。さらにＮＭＰに分散した平均粒径８０ｎ
ｍのコロイダルシリカを、粒子量がポリマに対して０．
３ｗｔ％になるように１μｍカットフイルターを通して
添加した。これに９９．５モル％に相当するテレフタル
酸クロリドを添加し、重合を完了した。さらに炭酸リチ
ウムで発生塩化水素の９７モル％を中和し、ついでアン
モニアを１０モル％分添加してポリマ溶液を得た。そし
てポリマ濃度１０．７ｗｔ％、３０℃での溶液粘度を４
０００ポイズに調整して製膜原液とした。
み、この中に芳香族ジアミン成分として７０モル％に相
当する２−クロルパラフェニレンジアミンと、３０モル
％に相当する４，４’−ジアミノジフェニルスルホンと
を溶解させた。さらにＮＭＰに分散した平均粒径８０ｎ
ｍのコロイダルシリカを、粒子量がポリマに対して０．
３ｗｔ％になるように１μｍカットフイルターを通して
添加した。これに９９．５モル％に相当するテレフタル
酸クロリドを添加し、重合を完了した。さらに炭酸リチ
ウムで発生塩化水素の９７モル％を中和し、ついでアン
モニアを１０モル％分添加してポリマ溶液を得た。そし
てポリマ濃度１０．７ｗｔ％、３０℃での溶液粘度を４
０００ポイズに調整して製膜原液とした。
【００４３】この液を３μｍカットのフイルターで濾過
した後、最終フイルム厚みで４．５μｍになるように口
金より金属ベルト上に流延した。流延されたフイルムを
１３０℃の熱風で加熱して溶媒を蒸発させ、自己保持性
を得たフイルムをベルトから連続的に剥離した。次に水
槽内へフイルムを導入して残存溶媒と中和で生じた無機
塩等の抽出を行なった。ここで長手方向（ＭＤ方向）に
１．１倍延伸した。
した後、最終フイルム厚みで４．５μｍになるように口
金より金属ベルト上に流延した。流延されたフイルムを
１３０℃の熱風で加熱して溶媒を蒸発させ、自己保持性
を得たフイルムをベルトから連続的に剥離した。次に水
槽内へフイルムを導入して残存溶媒と中和で生じた無機
塩等の抽出を行なった。ここで長手方向（ＭＤ方向）に
１．１倍延伸した。
【００４４】つぎにテンタ−に導入し３２０℃で水分の
乾燥と延伸、熱処理を行なった。この間にフイルムの幅
方向（ＴＤ方向）に１．２倍延伸を行なった。このフイ
ルムの損失弾性率を測定したところ、表１に示す通りで
あった。
乾燥と延伸、熱処理を行なった。この間にフイルムの幅
方向（ＴＤ方向）に１．２倍延伸を行なった。このフイ
ルムの損失弾性率を測定したところ、表１に示す通りで
あった。
【００４５】このフイルムに磁性層を１．５μｍ、バッ
クコート層を０．５μｍ塗布し、６ｍｍ幅にスリットし
てＰＶＣーＰＲＯ機で走行試験を行った。その結果、表
１に示すようにエッジのダメージは良好であった。
クコート層を０．５μｍ塗布し、６ｍｍ幅にスリットし
てＰＶＣーＰＲＯ機で走行試験を行った。その結果、表
１に示すようにエッジのダメージは良好であった。
【００４６】実施例２ 実施例１と同一のポリマを使用し、粒子量を０．１ｗｔ
％に減らした。またフイルム厚みを３．５μｍ、テンタ
ー条件は温度を３３０℃にして実施例１と同様に製膜し
テープを作成して評価を行ったが、表１に示すようにエ
ッジダメージは良好であった。
％に減らした。またフイルム厚みを３．５μｍ、テンタ
ー条件は温度を３３０℃にして実施例１と同様に製膜し
テープを作成して評価を行ったが、表１に示すようにエ
ッジダメージは良好であった。
【００４７】実施例３ 実施例１と同一のポリマを使用し、粒子量を０．１ｗｔ
％に減らした製膜原液Ａを調製した。一方で粒子量を
１．５ｗｔ％に増やした製膜原液Ｂも調製し、これら
を、最終フイルム厚みにてＡ／Ｂ＝３．５μｍ／１．０
μｍの２層になるように積層管で積層して実施例１と同
じ条件で製膜してフイルムを得た。これを使用してテー
プを作成し評価を行ったが、表１に示すようにエッジダ
メージは良好であった。
％に減らした製膜原液Ａを調製した。一方で粒子量を
１．５ｗｔ％に増やした製膜原液Ｂも調製し、これら
を、最終フイルム厚みにてＡ／Ｂ＝３．５μｍ／１．０
μｍの２層になるように積層管で積層して実施例１と同
じ条件で製膜してフイルムを得た。これを使用してテー
プを作成し評価を行ったが、表１に示すようにエッジダ
メージは良好であった。
【００４８】比較例１ 実施例１のポリマを使用し、延伸倍率、延伸温度を表１
のようにして製膜した。テープを作成して評価を行った
が、表１に示すようにエッジダメージは悪かった。
のようにして製膜した。テープを作成して評価を行った
が、表１に示すようにエッジダメージは悪かった。
【００４９】比較例２ 実施例１のポリマを使用し、粒子量を１．７％と増や
し、延伸倍率、延伸温度を表１のようにして製膜した。
テープを作成して評価を行ったが、表１に示すようにエ
ッジダメージは悪かった。
し、延伸倍率、延伸温度を表１のようにして製膜した。
テープを作成して評価を行ったが、表１に示すようにエ
ッジダメージは悪かった。
【００５０】
【表１】
【００５１】
【発明の効果】本発明で規定した特性範囲の芳香族ポリ
アミドフイルムを使用した磁気記録媒体は、薄くても媒
体をテープデッキで走行させた際にデッキ内のガイドピ
ンやヘッドで端面が傷つくことがほとんどなく、高容量
化にすぐれた磁気記録媒体となる。
アミドフイルムを使用した磁気記録媒体は、薄くても媒
体をテープデッキで走行させた際にデッキ内のガイドピ
ンやヘッドで端面が傷つくことがほとんどなく、高容量
化にすぐれた磁気記録媒体となる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ２９Ｌ 7:00 9:00 Ｃ０８Ｌ 77:00 Ｆターム(参考） 4F071 AA56 AF20Y AH14 BA01 BB06 BB08 BC01 BC12 BC17 4F100 AA01A AA20 AK47A AR00B BA01 BA02 CA20 DE01A EH46 GB41 JA20A JG06B JK07A JK14 YY00A 4F210 AA30 AE01 AG01 AH38 QA02 QC06 QG01 QG18 5D006 CB03 CB06 CB07 CB08 FA00
Claims (4)
- 【請求項１】 幅方向の５０℃での損失弾性率Ｅ"(５
０）と１５０℃での損失弾性率Ｅ"(１５０）が（１）式
の範囲にあることを特徴とする芳香族ポリアミドフイル
ム。 Ｅ"(５０）＞Ｅ"(１５０） ・・・（１） - 【請求項２】 無機粒子の含有量が１ｗｔ％以下である
層が厚み方向で５０％以上占めていることを特徴とする
請求項１に記載の芳香族ポリアミドフイルム。 - 【請求項３】 フイルム厚みが１〜８μｍの範囲にある
ことを特徴とする請求項１または２に記載の芳香族ポリ
アミドフイルム。 - 【請求項４】 請求項１〜３のいずれかに記載のフイル
ムに磁性層を設けたことを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11060216A JP2000256485A (ja) | 1999-03-08 | 1999-03-08 | 芳香族ポリアミドフイルムおよびそれを用いた磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11060216A JP2000256485A (ja) | 1999-03-08 | 1999-03-08 | 芳香族ポリアミドフイルムおよびそれを用いた磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000256485A true JP2000256485A (ja) | 2000-09-19 |
Family
ID=13135761
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11060216A Pending JP2000256485A (ja) | 1999-03-08 | 1999-03-08 | 芳香族ポリアミドフイルムおよびそれを用いた磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000256485A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007048427A (ja) * | 2005-07-11 | 2007-02-22 | Fujifilm Holdings Corp | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61246918A (ja) * | 1985-04-24 | 1986-11-04 | Toray Ind Inc | 高密度記録媒体用ベ−スフイルム |
| JPH01247162A (ja) * | 1988-03-29 | 1989-10-03 | Toray Ind Inc | 高密度記録媒体用ベースフィルム |
| JPH08235567A (ja) * | 1995-02-23 | 1996-09-13 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体 |
| JPH10176071A (ja) * | 1996-10-18 | 1998-06-30 | Toray Ind Inc | 芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミドフィルム |
-
1999
- 1999-03-08 JP JP11060216A patent/JP2000256485A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61246918A (ja) * | 1985-04-24 | 1986-11-04 | Toray Ind Inc | 高密度記録媒体用ベ−スフイルム |
| JPH01247162A (ja) * | 1988-03-29 | 1989-10-03 | Toray Ind Inc | 高密度記録媒体用ベースフィルム |
| JPH08235567A (ja) * | 1995-02-23 | 1996-09-13 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体 |
| JPH10176071A (ja) * | 1996-10-18 | 1998-06-30 | Toray Ind Inc | 芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミドフィルム |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007048427A (ja) * | 2005-07-11 | 2007-02-22 | Fujifilm Holdings Corp | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3047471B2 (ja) | 芳香族ポリアミドフィルム、その製造方法及びそれを用いた磁気記録媒体 | |
| JPWO1997039876A1 (ja) | 芳香族ポリアミドフィルム、その製造方法及びそれを用いた磁気記録媒体 | |
| CA2236178A1 (en) | Aromatic polyamide resin moldings, production methods thereof, and magnetic recording medium produced therefrom | |
| JPS6038767B2 (ja) | 磁気記録体 | |
| US6358619B1 (en) | Aromatic polyamide film and magnetic recording medium using it | |
| JP2555742B2 (ja) | 積層フィルム | |
| JP2616711B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH10176071A (ja) | 芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミドフィルム | |
| JPH0971670A (ja) | 芳香族ポリアミドフィルムまたは芳香族ポリイミドフィルム | |
| JPH04298324A (ja) | 磁気記録媒体用ベースフィルム | |
| JPH08297829A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2000233441A (ja) | 芳香族ポリアミドフィルムおよびそれを用いた磁気記録媒体 | |
| JP3082617B2 (ja) | 芳香族ポリアミドフィルム | |
| JP3243966B2 (ja) | 磁気記録媒体用ベースフィルム | |
| JP3134700B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2000239412A (ja) | 芳香族ポリアミドフィルムおよびそれを用いた磁気記録媒体 | |
| JPH0564594B2 (ja) | ||
| JPH0855328A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2000007801A (ja) | 芳香族ポリアミドフィルムおよび芳香族ポリアミドフィルムロ―ルおよびそれを用いた磁気記録媒体 | |
| JP2000248083A (ja) | 芳香族ポリアミドフイルムロールおよびそれを用いた磁気記録媒体 | |
| JP2621632B2 (ja) | 芳香族ポリアミドフィルム | |
| JPH0434716A (ja) | 塗布型磁気記録媒体 | |
| JP3000927B2 (ja) | 芳香族ポリアミドフィルムおよび磁気記録媒体 | |
| JP2000271998A (ja) | フィルムおよび磁気記録媒体 | |
| JPH08235560A (ja) | 磁気記録媒体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050519 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070516 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070522 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070921 |