JPH01247195A - 光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光ディスクに係り、特に上記の式（ＩＪで表わ
される繰返し単位からなり、軟化点か１５０〜３００℃
の範囲にあるポリカーボネート樹脂を基材とする光ディ
スクに関する。

〔従来の技術〕

レーザ光線のスポットビームなディスク上にあて、ディ
スク上の微細なビットによって記録された信号を、反射
光量または透過光量を検出することによって読出す光学
式情報記録／再生方式は。

著しく記録密度を上げることかできる。また、光学式情
報記録／再生方式は、再生される画像や音質が優れた特
性を有することから１画像や音声の記録／再生、多量の
情報の記録／再生等に広く使用されることが期待されて
いる。

上記の光学式情報記録／再生方式に使用されるディスク
は、ディスク基材をレーザ光線が透過するために透明で
あることは勿論のこと、光学的均質性が強く求められて
いる。このデイヌクには。

例えば日経エレクトロニクスの第２９２号（１９８２年
６月７日号）に記載されているように、メタクリル樹脂
、ポリカーボネート樹脂等が用いられている。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、上記したメタク１）ル樹脂等をディスク
に使用する場合には、耐熱性、耐湿性ｊ６よび耐衝撃性
の点でまだ充分とは言い難い。

また、ビスフェノールＡ（２，２−ビス（４′−ヒドロ
争ジフエニル）プロパン）をホスゲンヤ炭酸ジフェニル
等と反応させて得られるポリカーボネート樹脂は、耐熱
性、耐湿性、耐衝撃性等ｆおいて優れているものの、レ
タデーシ冒ン（複屈折値）が大きく、光学的性質が劣９
．ディスクに記録さｎ九情報の読取感度が低下したり、
エラーが発生する問題がある（日経エレクトロニクス、
第２９２号、１９８２年６月７日）。

本発明の目的は、上記した従来技術の問題点をなくシ、
透明性、耐熱性、耐湿性、耐衝撃性に優れ、レタデーシ
ョンが小さく光学的均質性に優れた光ディスクを提供す
るにある。

〔課題を解決するための手段〕 すなわち、本発明は下記の式（１）で表わされる繰返し
単位からなり、軟化点が１５０〜１０’Ｃの範囲にある
ポリカーボネート樹脂を基材とする光ディスクによって
達成される。

但し、Ｒ，、Ｒ，は炭素数３個から１３個までのアルキ
ル基（ＣｎＨ２ｎ＋＋　；　ｎ＝３−１３　）またはシ
クロ本発明に用いるポリカーボネー）［脂は、軟化点が
１５０℃未満であると、光ディスクが熱によってそり、
ねじれ等の変化を受は易く、一方、軟化点が３００℃を
越えると、成形か著しく困難となりいずれの場合も好ま
しくない。

本発明の光ディスクは１本発明に係る上記のポリカーボ
ネート樹脂を、射出成形またはプレス成形等の方法によ
り、スタンパ−をセットした金型で、記録信号となるビ
ットを転写し、ディスク基材を成形する。さらに複製デ
ィスクの場合には、ディスクは、一般にビット転写面に
、金属の真空蒸着、スパッタリングまたはイオンブレー
ティング等の方法によって反射層を形成し、必要に応じ
て反射層の保譲層を形成して製造することができる。

また、メモリーディスクの場合には、ディスクは、上記
と同様にしてトラッキング信号となるビットを転与して
から、このビット面に１例えば、非晶買レアーメタルや
レーザーによって熱的に分解し得る化合物等から成るユ
ーザー側で書込可能な記録層を、スパッタリング、蒸着
ｉたは塗布等によって形成し、必要に応じて上記のよう
な反射ｊ−や保ａ層を形成して製造することができる。

〔実施例〕

次に本発明を実施例により、さらに詳細に駈明する。

供試樹脂 使用した樹脂は、下記式の繰返し単位からなり下記の軟
化点を有するポリカーボネート樹脂の３釉類である。

（但し、軟化点が２００℃のもの） （但し、軟化点か２５０℃のもの） （但し、軟化点かろｏｏ℃のもの） また、比較例として、下記式（Ｖ）で表わさｒＬる繰返
し単位からなり、かつ軟化点が１９０℃の通常のポリカ
ーボネート樹脂を用いた。

上記の４種類のポリカーボネート樹脂ベレットをそれぞ
れスタンパ−を装着した金型中に射出成形し、厚さＬ　
２０　、直径１２０簡のディスクを得た。

次に、ディスクの信号ビットの刻まれた面に、スパッタ
リング法により、アルミニウムよりなる反射層を形成し
、この反射層上にアクリルラッカーを塗布した後、乾燥
して保農層を形成し、光ディスクを得た。

元ディスクの特性測定評価方法 （１）　　軟化点 上記の４ａ類のポリカーボネート樹脂によりそれぞれ平
板を作製し、　１１５人７２０６に準じてピカット軟化
点を求めた。

（２）　　耐熱性 上記のようにして作製した４棟類の光ディスクを１２０
℃で４時間放置した後、そり、ねじれの有無を判定した
。

（３）光学的均質性 上記のようにして作製した光ディスクについて、レタデ
ーションを、エリプンメータ（溝尻光学工業所社製）に
よって、波長６３２．８　ｎｒｓの１１ａ−Ｈａレジー
光を照射して光ディスクの内側から外側まで１０箇所測
定した。最大値を最大レタデーションと表示する。最大
レタデーション値の小さい方が、光学的均質性が良好で
ある。

評価結果 評価結果をまとめて下表に示す。表から明らかなように
１本発明に係るポリカーボネート樹脂を用いて製造した
光ディスクは、いずれも通常のポリカーボネート樹脂を
用いて製造した光ディスクより軟化点が高く、耐熱性が
優れている。また。

最大レタテーションが小さく、光学的均質性（透明性も
含めて）も著しく優れ、かつ情報の読取感度も高いこと
がわかる。

さらに、耐湿性、耐衝撃性も良好であった。

〔発明の効果〕

以上述べたように本発明によれば、透明性、耐熱性、耐
湿性に優れ、レタデーシ３ンが小さく光学的均質性に優
れ、かつ情報の読取感度も高い光ディスクが得られる。

じ 代理人　弁理士　小　川　勝　男

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下記の式（１）で表わされる繰返し単位からなり軟
   化点が１５０〜３００℃の範囲にあるポリカーボネート
   樹脂を基材とすることを特徴とする光ディスク。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・（１） 但し、Ｒ＿１、Ｒ＿２は炭素数３個から１３個までのア
   ルキル基（Ｃ＿ｎＨ＿２＿ｎ＿＋＿１；ｎ＝３〜１５）
   またはシクロヘキシル基（▲数式、化学式、表等があり
   ます▼）またはビシクロヘキシル基（▲数式、化学式、
   表等があります▼）である。