JPH01249131A - 気体供給装置 - Google Patents
気体供給装置Info
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- JPH01249131A JPH01249131A JP7618088A JP7618088A JPH01249131A JP H01249131 A JPH01249131 A JP H01249131A JP 7618088 A JP7618088 A JP 7618088A JP 7618088 A JP7618088 A JP 7618088A JP H01249131 A JPH01249131 A JP H01249131A
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J4/00—Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、特に毒性、腐食性成−は引火性等を有する危
険性気体の供給に適した気体供給装置に関する。
険性気体の供給に適した気体供給装置に関する。
（従来の技術及び発明が解決しようとする問題点）
ホスゲン、フッ素、７ツ化水素、塩素、亜硫酸ガス等の
気体は、化学反応の原料として又、半導体製造工程にお
けるエツチングガス等として有用な化合物である。しか
し、これらの気体は、毒性或いは腐食性を有するために
その取扱いが困難であるという欠点がある。
気体は、化学反応の原料として又、半導体製造工程にお
けるエツチングガス等として有用な化合物である。しか
し、これらの気体は、毒性或いは腐食性を有するために
その取扱いが困難であるという欠点がある。
反応器中に気体を供給する装置としては、ブロアや圧縮
機等の装置が知られて−る。これらの装置で上記した気
体を供給する場合には、装置選定に当つて気体の漏洩防
止に特段の配慮を必要とする。また、日常の運転や維持
管理にも細心の注意が必要である。そこで上記のような
危険性気体を安全に供給する装置の出現が望まれていた
。
機等の装置が知られて−る。これらの装置で上記した気
体を供給する場合には、装置選定に当つて気体の漏洩防
止に特段の配慮を必要とする。また、日常の運転や維持
管理にも細心の注意が必要である。そこで上記のような
危険性気体を安全に供給する装置の出現が望まれていた
。
（問題を解決するための手段）
本発明者らは、前記した取扱いの困難な危険性気体を安
全に、しかも耐久性良く供給する装置の開発を行なつた
。その結果、エジェクター、ポンプ及び気液分離器を用
いることによりて上記した目的を満足する気体供給装置
の開発に成功し、本発明を完成させるに至りた０ 即ち、本発明は、不活性液体を噴射させて気体を吸引す
るエジェクターと、該ニジ、フタ−から排出される不活
性液体と気体とを分離する気液分離器と、該気液分離器
で分離された不活性液体を上記ニジ、フタ−に供給する
供給機が互いに連結されて閉回路を形成してなる気体供
給装置である。
全に、しかも耐久性良く供給する装置の開発を行なつた
。その結果、エジェクター、ポンプ及び気液分離器を用
いることによりて上記した目的を満足する気体供給装置
の開発に成功し、本発明を完成させるに至りた０ 即ち、本発明は、不活性液体を噴射させて気体を吸引す
るエジェクターと、該ニジ、フタ−から排出される不活
性液体と気体とを分離する気液分離器と、該気液分離器
で分離された不活性液体を上記ニジ、フタ−に供給する
供給機が互いに連結されて閉回路を形成してなる気体供
給装置である。
以下に本発明を添付図面に従って説明する。
第１図は、本発明の気体供給装置の概略を示したもので
ある。エジェクタ−１、気液分離器２及び不活性液体の
供給機３は、互いに連結されて閉回路を形成している。
ある。エジェクタ−１、気液分離器２及び不活性液体の
供給機３は、互いに連結されて閉回路を形成している。
ニジ。フタ−１には気体の吸引管４が接続されており、
気液分離器２には気体の排出管５が接続されている。供
給機３によってニジ、フタ−１に供給された不活性液体
は、ニジ、フタ−１内で噴射され、それによつて吸引Ｉ
ｉ＃４から気体が吸引される。エジェクター１内で混合
された不活性液体と気体は、気液分離器２で分離され、
気体は排出管５から排出される。上記の気液分離器２は
必要に応じて還流冷却器を有していても良い。一方、不
活性液体は供給機３へ送られ、再びエジェクター１に供
給される。このようにして不活性液体は閉回路内を循環
し、一方、エジェクター１に吸引された気体は気液分離
器２から吐出される。気体の供給量及び供給圧力は、エ
ジェクター及び供給機を選択することにより決定するこ
とができる。
気液分離器２には気体の排出管５が接続されている。供
給機３によってニジ、フタ−１に供給された不活性液体
は、ニジ、フタ−１内で噴射され、それによつて吸引Ｉ
ｉ＃４から気体が吸引される。エジェクター１内で混合
された不活性液体と気体は、気液分離器２で分離され、
気体は排出管５から排出される。上記の気液分離器２は
必要に応じて還流冷却器を有していても良い。一方、不
活性液体は供給機３へ送られ、再びエジェクター１に供
給される。このようにして不活性液体は閉回路内を循環
し、一方、エジェクター１に吸引された気体は気液分離
器２から吐出される。気体の供給量及び供給圧力は、エ
ジェクター及び供給機を選択することにより決定するこ
とができる。
閉回路内を循環される不活性液体は、一般に湿度が上昇
するため、第１図に示すように閉回路内の任意の位置に
不活性液体の冷却器６を設けることが好ましい。
するため、第１図に示すように閉回路内の任意の位置に
不活性液体の冷却器６を設けることが好ましい。
本発明で使用される不活性液体は、気体との接触で分解
又は反応せず、しかも使泪温度下で十分低−粘度を有す
る液体であればどのようなものでも使用し得る。また、
該不活性液体が、本発明の気体供給装置から排出される
気体に同伴して排出されることを完全に防止することは
困難である。このため、本発明の気体供給装置によりて
供給された気体を反応に使用する場合には、該不活性液
体は反応工程に於いても不活性であることが好ましい。
又は反応せず、しかも使泪温度下で十分低−粘度を有す
る液体であればどのようなものでも使用し得る。また、
該不活性液体が、本発明の気体供給装置から排出される
気体に同伴して排出されることを完全に防止することは
困難である。このため、本発明の気体供給装置によりて
供給された気体を反応に使用する場合には、該不活性液
体は反応工程に於いても不活性であることが好ましい。
ま之、ニジ、フタ−による気体の吸引効果を上げるため
には沸点がある程度高く、使用温度に於ける蒸気圧の低
−液体であることが好ましい。例えば、室温付近で用い
る場合には通常沸点が５０℃以上のものか好ましい。こ
のような液体としては、供給すべき気体の種類によつて
異なるが、各種のシリコーンオイル、フルオロシリコー
ンオイル等のケイ素化合物；へイドロカーボン、アミン
、エーテル又はポリエーテル等の化合物の水素原子が７
１素原子のみ又はフッ素原子と塩素原子とによって置換
されたフッ素化合物か好ましい。特に、フッ素原子のみ
又はフッ素原子と塩素原子とによって分子中の水素原子
がすべて置換されたフッ素化合物が好適である。本発明
に於いて好適に使用し得る不活性液体としては、テトラ
クロロジフルオロエタン（商品名： ７０ン１１２）、
）！Ｊフルオロクロロエチレンの低重合物、パーフルオ
ロパーヒドロ７エナントレン、パーフルオロトリブチル
アミン、パーフルオロトリペンチルアミン、パーフルオ
ロアルキルイオウ化合物、各種のパーフルオロオリゴエ
ーテル等が挙げられる。
には沸点がある程度高く、使用温度に於ける蒸気圧の低
−液体であることが好ましい。例えば、室温付近で用い
る場合には通常沸点が５０℃以上のものか好ましい。こ
のような液体としては、供給すべき気体の種類によつて
異なるが、各種のシリコーンオイル、フルオロシリコー
ンオイル等のケイ素化合物；へイドロカーボン、アミン
、エーテル又はポリエーテル等の化合物の水素原子が７
１素原子のみ又はフッ素原子と塩素原子とによって置換
されたフッ素化合物か好ましい。特に、フッ素原子のみ
又はフッ素原子と塩素原子とによって分子中の水素原子
がすべて置換されたフッ素化合物が好適である。本発明
に於いて好適に使用し得る不活性液体としては、テトラ
クロロジフルオロエタン（商品名： ７０ン１１２）、
）！Ｊフルオロクロロエチレンの低重合物、パーフルオ
ロパーヒドロ７エナントレン、パーフルオロトリブチル
アミン、パーフルオロトリペンチルアミン、パーフルオ
ロアルキルイオウ化合物、各種のパーフルオロオリゴエ
ーテル等が挙げられる。
また、本発明の装置は、どのような気体の供給にも使用
し得るが、特に毒性、腐食性、引火性等を有する危険性
気体の供給に適している。例えば、ホスゲン、塩素、７
ツ素、亜硫酸ガス、硫化水素、塩化水素、フッ化水素、
オゾン、酸素、二酸化窒素、ホスフィン、ヒドラジン、
シラン、シボテン、ゲルマン、アルシン、三７フ化窒素
、トリクロルシラン、五７ツ化リン、五７ツ化ヒ素、六
フッ化ウラン、六フッ化タングステン等に対して用いら
れる。
し得るが、特に毒性、腐食性、引火性等を有する危険性
気体の供給に適している。例えば、ホスゲン、塩素、７
ツ素、亜硫酸ガス、硫化水素、塩化水素、フッ化水素、
オゾン、酸素、二酸化窒素、ホスフィン、ヒドラジン、
シラン、シボテン、ゲルマン、アルシン、三７フ化窒素
、トリクロルシラン、五７ツ化リン、五７ツ化ヒ素、六
フッ化ウラン、六フッ化タングステン等に対して用いら
れる。
本発明の気体供給装置は、特に腐食性や種々の物質に対
して高−反応性を有するフッ素ガスの供給装置として特
に好適である。この場合、不活性液体としては水素原子
を全く含まないパーフルオロ化合物を用いることが好ま
しい。また、エジェクター、配管等の材質トリては、ス
テンレススチール、鉄、二ｙ＋ル、モネル、フッ素樹脂
等の十分に耐食性を有するものが用≠られる。
して高−反応性を有するフッ素ガスの供給装置として特
に好適である。この場合、不活性液体としては水素原子
を全く含まないパーフルオロ化合物を用いることが好ま
しい。また、エジェクター、配管等の材質トリては、ス
テンレススチール、鉄、二ｙ＋ル、モネル、フッ素樹脂
等の十分に耐食性を有するものが用≠られる。
本発明は、また、上記した気体供給装置を有する不活性
液体の製造装置をも提供する。
液体の製造装置をも提供する。
即ち、不活性液体を噴射させて気体を吸引すルエジェク
ターと、該ニジ、フタ−から排出される不活性液体と気
体とを分離し、且つ、該気体を原料として不活性液体を
製造する反応器と、該反応器で分離又は製造された不活
性液体を上記エジェクターに供給する供給機が互いに連
結されて閉回路を形成してなる不活性液体の製造装置で
ある。
ターと、該ニジ、フタ−から排出される不活性液体と気
体とを分離し、且つ、該気体を原料として不活性液体を
製造する反応器と、該反応器で分離又は製造された不活
性液体を上記エジェクターに供給する供給機が互いに連
結されて閉回路を形成してなる不活性液体の製造装置で
ある。
第２図は、不活性液体の製造装置の概略図を示す。不活
性液体の製造装置は、既述の気体供給装置の気液分離器
にかえて不活性液体製造のための反応器を用いたもので
ある。該反応器７は、エジェクター１から排出される不
活性液体と気体とを分離する機能を有する。
性液体の製造装置は、既述の気体供給装置の気液分離器
にかえて不活性液体製造のための反応器を用いたもので
ある。該反応器７は、エジェクター１から排出される不
活性液体と気体とを分離する機能を有する。
また、該反応器７では分離された気体と別逮供給される
有機化合物との反応により不活性液体が製造される。反
応器で分離又は製造された不活性液体は、供給機３によ
って再びエジェクター１に供給される。閉回路内を循環
する不活性液体は、適宜系外に取出される。
有機化合物との反応により不活性液体が製造される。反
応器で分離又は製造された不活性液体は、供給機３によ
って再びエジェクター１に供給される。閉回路内を循環
する不活性液体は、適宜系外に取出される。
系外への取出し口８は、反応器７から供給機３を経由し
てニジ−フタ−１までの間に設けることが好ましい。
てニジ−フタ−１までの間に設けることが好ましい。
（効果）
本発明の気体供給装置は、構造が簡単であり、気体と接
触する部分には可動部が存在しない。このため腐食性の
気体を取扱う場合であっても装置の腐食や、腐食による
気体の漏出等のトラブルが発生しにくい。また、装置の
保守も容易である。
触する部分には可動部が存在しない。このため腐食性の
気体を取扱う場合であっても装置の腐食や、腐食による
気体の漏出等のトラブルが発生しにくい。また、装置の
保守も容易である。
また、上記の気体供給装置を不活性液体製造に応用した
不活性液体の製造装置では、製造される不活性液体が、
不活性液体の原料となる気体の供給に使用され、危険性
気体を安全に且つ長期にわたつて安定に供給し得る他、
不活性液体の製造も安定に行なうことができる。
不活性液体の製造装置では、製造される不活性液体が、
不活性液体の原料となる気体の供給に使用され、危険性
気体を安全に且つ長期にわたつて安定に供給し得る他、
不活性液体の製造も安定に行なうことができる。
（実施例）
以下に本発明をさらに詳細に説明するために実施例を掲
げるが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。
げるが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。
実施例１
不活性液体としてパーフルオロトリヘキシルアミンを用
−、フッ素ガスの供給を第１図に示す気体供給装置を用
いて行った。
−、フッ素ガスの供給を第１図に示す気体供給装置を用
いて行った。
約３００１のパーフルオロトリへキジルア之ンな、エジ
ェクター、気液分離器及び供給機の間を２．５ｍＪ／時
間の速度で循環させることにより、常温・常圧のフッ素
ガスを吸引して気体の排出管よりフッ素ガスを吐出圧３
ｂｙ ／ ｃ！ Ｇで０．７５１ｖ／時間の速度で供
給することができた。
ェクター、気液分離器及び供給機の間を２．５ｍＪ／時
間の速度で循環させることにより、常温・常圧のフッ素
ガスを吸引して気体の排出管よりフッ素ガスを吐出圧３
ｂｙ ／ ｃ！ Ｇで０．７５１ｖ／時間の速度で供
給することができた。
なお、エジェクターにおけるパーフルオロトリヘキシル
アミンの温度は４０℃であった。この時、供給機の吐出
圧は７〜８ ｋｇ ／ ｃＪ Ｇ 、エジェクターのガ
ス入口側の圧力は−０，１５ｋｇ／ｃ＋ｙｆＧであった
。
アミンの温度は４０℃であった。この時、供給機の吐出
圧は７〜８ ｋｇ ／ ｃＪ Ｇ 、エジェクターのガ
ス入口側の圧力は−０，１５ｋｇ／ｃ＋ｙｆＧであった
。
２力月間運転を行ワたが、安定にフッ素ガスを供給する
ことができ、装置に損傷も認められなかつた。又パーフ
ルオロトリヘキシルアミンの分析を行ったが、分解や変
質は認められなかつたＱ 実施例２ 常温・常圧の塩素ガスを吸引して、これを反応圧０．５
ｋｇ／ ｃｒｄ Ｇの塩素化反応器に吹き込す目的テ
、パーフルオロトリヘキシルアミンを作動液体として図
１に示す本発明の気体供給装置を用−た。
ことができ、装置に損傷も認められなかつた。又パーフ
ルオロトリヘキシルアミンの分析を行ったが、分解や変
質は認められなかつたＱ 実施例２ 常温・常圧の塩素ガスを吸引して、これを反応圧０．５
ｋｇ／ ｃｒｄ Ｇの塩素化反応器に吹き込す目的テ
、パーフルオロトリヘキシルアミンを作動液体として図
１に示す本発明の気体供給装置を用−た。
約３００１のパーフルオロトリヘキシルアミンをエジェ
クター、気液分ｌｌｉ器及び供給機の間を工２♂／時間
の速度で循環させることにより、塩素ガスを１５Ｎ＋ｘ
Ｊ／時間の速度で供給することができた。なお、エジェ
クタ一部におけるパーフルオロトリヘキシルアミンの温
度は４５℃であった。 この時、供給機の吐出圧力は３
〜４に９／ｃｄａで、ニジ、フタ−の吸引側の圧力は−
０，９ｋｇ ／ ｃｒｌ Ｇであった。
クター、気液分ｌｌｉ器及び供給機の間を工２♂／時間
の速度で循環させることにより、塩素ガスを１５Ｎ＋ｘ
Ｊ／時間の速度で供給することができた。なお、エジェ
クタ一部におけるパーフルオロトリヘキシルアミンの温
度は４５℃であった。 この時、供給機の吐出圧力は３
〜４に９／ｃｄａで、ニジ、フタ−の吸引側の圧力は−
０，９ｋｇ ／ ｃｒｌ Ｇであった。
２力月間運転を行りたが、安定に塩素ガスを供給するこ
とができ、装置に損傷も認められなかった。又、パーフ
ルオロトリへキジルア之ンの分析を行７たが、分解や変
質はなかりた。
とができ、装置に損傷も認められなかった。又、パーフ
ルオロトリへキジルア之ンの分析を行７たが、分解や変
質はなかりた。
実施例３
第２図に示す装置でフッ素ガスを供給し、トリブチルア
ミンの電解フッ素化で得られた部分フツ素化物のフッ素
化を行った。
ミンの電解フッ素化で得られた部分フツ素化物のフッ素
化を行った。
ニジ、フタ−、供給機及び冷却器は実施例１の場合と同
じものを使用した。反応器としては上部に還流冷却器を
有し、ニッケル製のラシヒリングを充填したニラナル製
の充填塔を用いた。
じものを使用した。反応器としては上部に還流冷却器を
有し、ニッケル製のラシヒリングを充填したニラナル製
の充填塔を用いた。
この塔の下部には容量２５Ｃ）Ｉｌの槓を直結して設け
、ここにたまってくるパーフルオロトリブチルアミンを
実施例１に示す条件で冷却器、エジェクターを通して循
環させ、常温・常圧のフッ素ガスを吸引して反応塔の下
側より供給し、又上側より上記電解フツ素化生成物を定
量供給した。なお、反応塔の中央部よりフッ素ガスを吹
き込んで反応混合物の希釈を行なった。反応塔の温度は
外部より加熱を行−１４０℃になるように調節した。そ
の結果、槽より目的生成物であるバー７Ａ／オロトリブ
チルアミンを得ることができた。また、長時間安定に運
転できた。
、ここにたまってくるパーフルオロトリブチルアミンを
実施例１に示す条件で冷却器、エジェクターを通して循
環させ、常温・常圧のフッ素ガスを吸引して反応塔の下
側より供給し、又上側より上記電解フツ素化生成物を定
量供給した。なお、反応塔の中央部よりフッ素ガスを吹
き込んで反応混合物の希釈を行なった。反応塔の温度は
外部より加熱を行−１４０℃になるように調節した。そ
の結果、槽より目的生成物であるバー７Ａ／オロトリブ
チルアミンを得ることができた。また、長時間安定に運
転できた。
第１図は、本発明の気体供給装置の概略図であり、第２
図は、本発明の不活性液体の製造装置の概略図である。 図中、ｌはエジェクター、２は気液分離器、３は供給機
、４は気体のｇ＆引管、５は気体の排出管、６は冷却器
、７は反応器、８は不活性液体の取出口を夫々示す。
図は、本発明の不活性液体の製造装置の概略図である。 図中、ｌはエジェクター、２は気液分離器、３は供給機
、４は気体のｇ＆引管、５は気体の排出管、６は冷却器
、７は反応器、８は不活性液体の取出口を夫々示す。
Claims (2)
- （１）不活性液体を噴射させて気体を吸引するエジェク
ターと、該エジェクターから排出される不活性液体と気
体とを分離する気液分離器と、該気液分離器で分離され
た不活性液体を上記エジェクターに供給する供給機が互
いに連結されて閉回路を形成してなる気体供給装置。 - （２）不活性液体を噴射させて気体を吸引するエジェク
ターと、該エジェクターから排出される不活性液体と気
体とを分離し、且つ該気体を原料として不活性液体を製
造する反応器と該反応器で分離又は製造された不活性液
体を上記エジェクターに供給する供給機が互いに連結さ
れて閉回路を形成してなる不活性液体の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63076180A JPH0696115B2 (ja) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | 不活性液体の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63076180A JPH0696115B2 (ja) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | 不活性液体の製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01249131A true JPH01249131A (ja) | 1989-10-04 |
| JPH0696115B2 JPH0696115B2 (ja) | 1994-11-30 |
Family
ID=13597915
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63076180A Expired - Fee Related JPH0696115B2 (ja) | 1988-03-31 | 1988-03-31 | 不活性液体の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0696115B2 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51101693A (en) * | 1975-03-04 | 1976-09-08 | Hitachi Ltd | Genshirono hasonnenryokenshutsusochi |
| JPS51143913A (en) * | 1975-06-06 | 1976-12-10 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Method of transpoting compressed gas containing vapor of hydrocarbon s ystem compound |
| JPS6316003A (ja) * | 1986-07-09 | 1988-01-23 | Daicel Chem Ind Ltd | 減圧方法 |
-
1988
- 1988-03-31 JP JP63076180A patent/JPH0696115B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51101693A (en) * | 1975-03-04 | 1976-09-08 | Hitachi Ltd | Genshirono hasonnenryokenshutsusochi |
| JPS51143913A (en) * | 1975-06-06 | 1976-12-10 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Method of transpoting compressed gas containing vapor of hydrocarbon s ystem compound |
| JPS6316003A (ja) * | 1986-07-09 | 1988-01-23 | Daicel Chem Ind Ltd | 減圧方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0696115B2 (ja) | 1994-11-30 |
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