JPH01251633A - ウエハ移替え装置 - Google Patents
ウエハ移替え装置Info
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- JPH01251633A JPH01251633A JP63308577A JP30857788A JPH01251633A JP H01251633 A JPH01251633 A JP H01251633A JP 63308577 A JP63308577 A JP 63308577A JP 30857788 A JP30857788 A JP 30857788A JP H01251633 A JPH01251633 A JP H01251633A
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- wafers
- wafer
- boat
- cassette
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、移替え方法に関する。
(従来の技術)
IC又はLSI等の半導体デバイスは、インゴットから
切出されたウェハを、順次、表面加工処理し、処理例え
ば熱酸化処理し、不純物拡散処理し、膜堆積処理し、エ
ツチング処理する等の多数の工程を経て製造される。こ
れらの製造工程において。
切出されたウェハを、順次、表面加工処理し、処理例え
ば熱酸化処理し、不純物拡散処理し、膜堆積処理し、エ
ツチング処理する等の多数の工程を経て製造される。こ
れらの製造工程において。
半導体ウェハは複数回にわたり繰返し加熱処理。
CVD 、酸化形成、拡散工程などの熱処理を受ける。
一般に、半導体ウェハの熱処理用の加熱炉として、上下
に積重ねられた多段炉、例えば4段炉が採用される。炉
口前には多段の架台が設けられ。
に積重ねられた多段炉、例えば4段炉が採用される。炉
口前には多段の架台が設けられ。
ウェハを取扱うための各種の自動装置が架台に取付けら
でいる。
でいる。
半導体ウェハを加熱炉に出し入れする場合には、専用の
ウェハボートが使用される。通常、1本のボートには1
0ット最大200枚の被処理ウェハが積載できるように
なっている。
ウェハボートが使用される。通常、1本のボートには1
0ット最大200枚の被処理ウェハが積載できるように
なっている。
一方、半導体ウェハを前工程から加熱炉まで搬送する場
合は、専用のウェハカセット(キャリア)が使用される
。通常、1個のカセットには10ット最大25枚の半導
体ウェハが収容されている。このため、1本の熱処理用
ボートに対して複数のカセットからウェハを移替えるこ
とになる。
合は、専用のウェハカセット(キャリア)が使用される
。通常、1個のカセットには10ット最大25枚の半導
体ウェハが収容されている。このため、1本の熱処理用
ボートに対して複数のカセットからウェハを移替えるこ
とになる。
ところで、ウェハの取扱いにおいては、汚染防止のため
にオペレータの手がウェハに直接触れることが禁止され
ている。このため、専用のウェハ移替え装置が、加熱炉
の付帯設備として炉口近傍に設置されるものもある。こ
のウェハ移替え装置により自動的にウェハを、カセット
からボートへ、又はボートから洗浄用のカセットへと移
替えるようになっている。
にオペレータの手がウェハに直接触れることが禁止され
ている。このため、専用のウェハ移替え装置が、加熱炉
の付帯設備として炉口近傍に設置されるものもある。こ
のウェハ移替え装置により自動的にウェハを、カセット
からボートへ、又はボートから洗浄用のカセットへと移
替えるようになっている。
従来のウェハ移替装置としては、多数提案されているが
、例えば特公昭60−32352号公報に記載されたも
のがある。この従来のウェハ移替え装置は、ボート及び
カセットがそれぞれ載置されるテーブルと、ウェハをカ
セット及びボートの間にて取扱うローディング装置を有
する。このテーブルは、X軸方向(炉軸の方向)に延び
ている6更に。
、例えば特公昭60−32352号公報に記載されたも
のがある。この従来のウェハ移替え装置は、ボート及び
カセットがそれぞれ載置されるテーブルと、ウェハをカ
セット及びボートの間にて取扱うローディング装置を有
する。このテーブルは、X軸方向(炉軸の方向)に延び
ている6更に。
ウェハ移替え装置は、X軸に沿ってテーブルを移動させ
る移動機構と、ボートに形成されたウェハ保持用の溝の
1ピッチ分だけX軸方向にテーブルを寸動させる寸動機
構を有する6 一方、ローディング装置は、テーブルの下方に昇降自在
に設けられボート及びカセット内のウェハを上方へ押し
上げるためのウェハ押し上げ機構と開閉自在な1対のウ
ェハチャックを有するウェハ把持機構を有する。
る移動機構と、ボートに形成されたウェハ保持用の溝の
1ピッチ分だけX軸方向にテーブルを寸動させる寸動機
構を有する6 一方、ローディング装置は、テーブルの下方に昇降自在
に設けられボート及びカセット内のウェハを上方へ押し
上げるためのウェハ押し上げ機構と開閉自在な1対のウ
ェハチャックを有するウェハ把持機構を有する。
移替え装置によりウェハを搬送用カセットから熱処理用
石英製ボートに移替える場合は、複数のカセットをステ
ージ上に配列し、一番目のカセット内の全ウェハを押し
上げ機構で同時に上方へ突上げてウェハをカセットより
上方に持上げ、これらを−括にチャック機構で把持し、
ボートの予め定められた収納溝に搬送し、チャックを開
いてボート上に複数枚のウェハを載置する。実質的に同
様の操作により二番目以降のカセットからウェハを次々
にボートに移替え、ボートにウェハを満載する。次いで
、エレベータ装置によりボートを炉口前の架台に載せ、
横型炉の場合ソフトランディング装置により、縦型炉の
場合ボートローダによリポートを炉内に挿入する。
石英製ボートに移替える場合は、複数のカセットをステ
ージ上に配列し、一番目のカセット内の全ウェハを押し
上げ機構で同時に上方へ突上げてウェハをカセットより
上方に持上げ、これらを−括にチャック機構で把持し、
ボートの予め定められた収納溝に搬送し、チャックを開
いてボート上に複数枚のウェハを載置する。実質的に同
様の操作により二番目以降のカセットからウェハを次々
にボートに移替え、ボートにウェハを満載する。次いで
、エレベータ装置によりボートを炉口前の架台に載せ、
横型炉の場合ソフトランディング装置により、縦型炉の
場合ボートローダによリポートを炉内に挿入する。
このような移替え装置における一連の動作は、予め設定
されたプログラミングに基づきコンピュータ制御される
ようになっている。
されたプログラミングに基づきコンピュータ制御される
ようになっている。
なお、カセット、ボート、並びにウェハチャックのそれ
ぞれには、ウェハ保持用の溝が同じ間隔に形成されてい
る。
ぞれには、ウェハ保持用の溝が同じ間隔に形成されてい
る。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、上記のようなウェハ移替え装置において
は、カセット内のウェハがすべて同じ向きに収納されて
いるために、これらのウェハを一括にボートに移替える
と、ウェハのパターン形成面(フェース)と裏面(バッ
ク)とが向き合うように配列される。このため、ウェハ
のフェース面同士が互いに対面するようにボート上に配
列する〔この配列&“フェース・ツー中フェース(fa
ceto face)”という〕か又は、ウウニのバッ
ク面同士が互いに対面するようにボート上に配列する〔
この配列を“バック・ツー・バック(back t。
は、カセット内のウェハがすべて同じ向きに収納されて
いるために、これらのウェハを一括にボートに移替える
と、ウェハのパターン形成面(フェース)と裏面(バッ
ク)とが向き合うように配列される。このため、ウェハ
のフェース面同士が互いに対面するようにボート上に配
列する〔この配列&“フェース・ツー中フェース(fa
ceto face)”という〕か又は、ウウニのバッ
ク面同士が互いに対面するようにボート上に配列する〔
この配列を“バック・ツー・バック(back t。
back )”という〕ことができないという不都合を
生じる。
生じる。
更に、ボートのウェハ保持用の溝ピッチが変更された場
合に、迅速に対処することができない。
合に、迅速に対処することができない。
例えば、溝ピッチが3/16インチから3/32インチ
に変更された場合には、これに応じてウェハチャックも
溝ピッチが3/16インチから3/32インチのものに
交換する必要がある。このチャック交換のために、移替
え作業が長時間にわたって中断され、タクトタイムが延
びるという問題点があった。
に変更された場合には、これに応じてウェハチャックも
溝ピッチが3/16インチから3/32インチのものに
交換する必要がある。このチャック交換のために、移替
え作業が長時間にわたって中断され、タクトタイムが延
びるという問題点があった。
本発明は上記点に対処してなされたもので、フェース・
ツー・フェース(又はバック・ツー・バック)の配列に
なるように、ウェハをカセットからボートに移替えるこ
とができるウェハ移替え方法を提供しようとするもので
ある。
ツー・フェース(又はバック・ツー・バック)の配列に
なるように、ウェハをカセットからボートに移替えるこ
とができるウェハ移替え方法を提供しようとするもので
ある。
(課題を解決するための手段)
本発明は、複数枚の被移替えウェハが収納された第1の
被移替えウェハ収納容器から全ウェハを押上げる工程と
、この工程により押上げられたつエバ列から予め定めら
れた枚数毎にウェハを抜き取る工程と、この工程により
抜き取ったウェハを第2のウェハ収納手段に移替える工
程と、第2の被移替えウェハ収納容器を180’回転さ
せる工程と、この工程により回転した容器から全ウェハ
を押上げ予め定められた枚数のウェハを抜き取り上記第
1のウェハ収納容器に移替えてフェース・ツー・フェー
スの配列をする工程を具備してなるウェハ移替え方法を
得るものである。
被移替えウェハ収納容器から全ウェハを押上げる工程と
、この工程により押上げられたつエバ列から予め定めら
れた枚数毎にウェハを抜き取る工程と、この工程により
抜き取ったウェハを第2のウェハ収納手段に移替える工
程と、第2の被移替えウェハ収納容器を180’回転さ
せる工程と、この工程により回転した容器から全ウェハ
を押上げ予め定められた枚数のウェハを抜き取り上記第
1のウェハ収納容器に移替えてフェース・ツー・フェー
スの配列をする工程を具備してなるウェハ移替え方法を
得るものである。
(作用効果)
即ち、本発明によれば、ウェハをフェース・ツー・フェ
ースの配列になるように、カセットからボートへ全自動
ローディングすることができる。
ースの配列になるように、カセットからボートへ全自動
ローディングすることができる。
このため、熱処理の仕様変更に関連してボート上のウェ
ハ配列を種々変更しなければならない事態が生じた場合
にも、これに十分に対処することができる。
ハ配列を種々変更しなければならない事態が生じた場合
にも、これに十分に対処することができる。
また1部品を交換することなく、単一の装置により各種
タイプのボートにウェハを移替えることができる。この
ため、ボートのウェハ保持間隔が例えば3/16インチ
ピッチから3/32インチピッチに変更されたとしても
、同一の装置によりウェハをカセットからボートへ移替
えることができる。
タイプのボートにウェハを移替えることができる。この
ため、ボートのウェハ保持間隔が例えば3/16インチ
ピッチから3/32インチピッチに変更されたとしても
、同一の装置によりウェハをカセットからボートへ移替
えることができる。
従って、部品交換時間を省略することができるので、装
置の稼働率を向上させることができる。
置の稼働率を向上させることができる。
(実施例)
以下、本発明方法の一実施例につき、図面を参照して説
明する。
明する。
第1図に示すように、加熱炉装置1は、単体の炉を上下
に4段に積重ねた多段炉であり、各炉内には複数のプロ
セスチューブ(図示せず)が横置きの状態で直列に挿入
されている。この加熱炉装置1は、シリコンウェハを酸
化・拡散処理するためのものである。
に4段に積重ねた多段炉であり、各炉内には複数のプロ
セスチューブ(図示せず)が横置きの状態で直列に挿入
されている。この加熱炉装置1は、シリコンウェハを酸
化・拡散処理するためのものである。
加熱炉装置1の挿入口1aに連通ずるように、ボート出
入れ用の架台2が設置されている。架台2は、エアフィ
ルタ3aを有するフィルタユニット3と、多数のウェハ
45が積載されたボート44を挿入口1aを介して加熱
炉装置1に出入れするためのユニット4と、を具備して
いる。ユニット4は、それぞれ一端が挿入口1aに連通
ずる4段の棚を有している。各種には、石英ガラス製の
フォーク6を有するソフトランディング装置5が設けら
れている。
入れ用の架台2が設置されている。架台2は、エアフィ
ルタ3aを有するフィルタユニット3と、多数のウェハ
45が積載されたボート44を挿入口1aを介して加熱
炉装置1に出入れするためのユニット4と、を具備して
いる。ユニット4は、それぞれ一端が挿入口1aに連通
ずる4段の棚を有している。各種には、石英ガラス製の
フォーク6を有するソフトランディング装置5が設けら
れている。
ソフトランディング装置5は、フォーク6を棚の長手(
X軸方向)に沿ってスライド移動させる機構と、フォー
ク6の先端を上下に首振りさせる機構とを有している。
X軸方向)に沿ってスライド移動させる機構と、フォー
ク6の先端を上下に首振りさせる機構とを有している。
フォーク6の先端部は二股状に形成され、この二股状の
先端部にボート44が載置されるようになっている。
先端部にボート44が載置されるようになっている。
エレベータ装w7が、加熱炉装置1と架台2との間の前
面側に設けられている。エレベータ装置7のアーム先端
には、後述するボートステージ上のボート44をフォー
ク6の先端部に移すための部材7aが設けられている。
面側に設けられている。エレベータ装置7のアーム先端
には、後述するボートステージ上のボート44をフォー
ク6の先端部に移すための部材7aが設けられている。
エレベータ装置7は、部材78をX軸及びZ軸に沿って
それぞれ移動させるV&構を有している。
それぞれ移動させるV&構を有している。
ボックス型のハウジング11が、最下段の棚に沿うよう
にユニット4の前面に設けられている。ハウジング11
の上面には、カセット載置用の第1のステージ12及び
ボート載置用の第2のステージ(ボートステージ)13
がX軸に沿うように直列に設けられている。なお、第1
及び第2のステージ12、13は、同一ラインかつ同一
エレベーションにある。 カセット43の内面には所定
幅の溝が等間隔に形成されており、ウェハ45が溝に差
込み保持されるようになっている。ウェハ保持用の溝は
、3/16インチのピッチで25箇所形成されている。
にユニット4の前面に設けられている。ハウジング11
の上面には、カセット載置用の第1のステージ12及び
ボート載置用の第2のステージ(ボートステージ)13
がX軸に沿うように直列に設けられている。なお、第1
及び第2のステージ12、13は、同一ラインかつ同一
エレベーションにある。 カセット43の内面には所定
幅の溝が等間隔に形成されており、ウェハ45が溝に差
込み保持されるようになっている。ウェハ保持用の溝は
、3/16インチのピッチで25箇所形成されている。
第2図に示すように、複数のカセット43が、ウェハ保
持用の溝がY軸方向に揃うように、第1のステージ12
上に載置されている。複数のカセット回転機構29が第
1のテーブル12に等間隔に設けられ、それぞれの回転
機構29上に載置されたカセット43の向きが入替わる
ようになっている。
持用の溝がY軸方向に揃うように、第1のステージ12
上に載置されている。複数のカセット回転機構29が第
1のテーブル12に等間隔に設けられ、それぞれの回転
機構29上に載置されたカセット43の向きが入替わる
ようになっている。
一方、第2のステージ13には1本のボート44が載置
されるようになっている。ボート44には、12/16
インチピッチの溝及び3/16インチピッチの溝の2種
類の溝が交互に形成されている。
されるようになっている。ボート44には、12/16
インチピッチの溝及び3/16インチピッチの溝の2種
類の溝が交互に形成されている。
ハウジング11の前面側に開口15がX軸に沿って形成
され、開口15からローディング装置10の上部機構が
突出している。ローディング装置10は、第1及び第2
のステージ12.13に沿ってハウジング11のほぼ全
長にわたってX軸方向に移動するようになっている。ロ
ーディング装置10は、ウェハ45をカセット43から
ボート44にローディングする機能を有し、コンピュー
タシステムでバックアップされたパネル14を備えてい
る。パネル14はキーボードを具備しており、必要に応
じてオペレータが所定のデータをコンピュータにキー人
力できるようになっている。
され、開口15からローディング装置10の上部機構が
突出している。ローディング装置10は、第1及び第2
のステージ12.13に沿ってハウジング11のほぼ全
長にわたってX軸方向に移動するようになっている。ロ
ーディング装置10は、ウェハ45をカセット43から
ボート44にローディングする機能を有し、コンピュー
タシステムでバックアップされたパネル14を備えてい
る。パネル14はキーボードを具備しており、必要に応
じてオペレータが所定のデータをコンピュータにキー人
力できるようになっている。
第3図を参照しながら、ローディング装置10の各構成
部材及び各駆動機構についてそれぞれ説明する。
部材及び各駆動機構についてそれぞれ説明する。
ローディング装置10の下部機構は、X軸に沿って互い
に平行な2本のガイドレール17a、 17b及びポー
ルスクリュウ19と、パルスモータ18と、X軸方向に
スライド可能なスライダ16と、を有している。スライ
ダ16は、ガイドレール17a、 17bを跨ぐように
設けられ、ローディング装置10の上部機構を支持して
いる。なお、ポールスクリュウ19が、スライダ16上
のナツト16aに螺合されている。ポールスクリュウ1
9の一端は、パルスモータ18の駆動軸に連結され、他
端は部材19aによりハウジング11に支持されている
。
に平行な2本のガイドレール17a、 17b及びポー
ルスクリュウ19と、パルスモータ18と、X軸方向に
スライド可能なスライダ16と、を有している。スライ
ダ16は、ガイドレール17a、 17bを跨ぐように
設けられ、ローディング装置10の上部機構を支持して
いる。なお、ポールスクリュウ19が、スライダ16上
のナツト16aに螺合されている。ポールスクリュウ1
9の一端は、パルスモータ18の駆動軸に連結され、他
端は部材19aによりハウジング11に支持されている
。
モータ18のスイッチはモータ駆動回路20に接続され
、更に、回路20はコントローラ21に接続され、更に
、コントローラ21はコンピュータシステム(図示せず
)によりバックアップされている。つまり、コントロー
ラ21を介してコンピュータシステムから回路20に所
定の信号が出力されると、これに応じてパルスモータ1
8が駆動し、スライダ16がX軸方向にスライド移動す
るようになっている。
、更に、回路20はコントローラ21に接続され、更に
、コントローラ21はコンピュータシステム(図示せず
)によりバックアップされている。つまり、コントロー
ラ21を介してコンピュータシステムから回路20に所
定の信号が出力されると、これに応じてパルスモータ1
8が駆動し、スライダ16がX軸方向にスライド移動す
るようになっている。
次に、ローディング装M10の上部機構について説明す
る。
る。
ローディング装置10の上部機構は、第1のシリンダ2
2を有する昇降機構と、第2のシリンダ23を有するチ
ャック機構と、により構成されている。
2を有する昇降機構と、第2のシリンダ23を有するチ
ャック機構と、により構成されている。
第1のシリンダ22は、その軸がZ軸に沿うようにスラ
イダ16上に立設されている。
イダ16上に立設されている。
第2のシリンダ23は、2系統の水平駆動系を有する複
シリンダで構成され、 ロッド22aを介して第1のシ
リンダ22に連結されている。この第2のシリンダ23
は、並列にならぶ2つの開閉チャック24、25を有し
ている。すなわち、第2のシリンダ23からは4対のロ
ッド(24c、 24d)、 [24e、 24f〕。
シリンダで構成され、 ロッド22aを介して第1のシ
リンダ22に連結されている。この第2のシリンダ23
は、並列にならぶ2つの開閉チャック24、25を有し
ている。すなわち、第2のシリンダ23からは4対のロ
ッド(24c、 24d)、 [24e、 24f〕。
(25c、25d) −(25e、 25f)がそれぞ
れY軸方向に平行に延出し、2対のロッド(24c、
24d)= (24e。
れY軸方向に平行に延出し、2対のロッド(24c、
24d)= (24e。
24f〕が第1の開閉チャック24の駆動軸に連結され
る一方、2対のロッド(25c、 25d) 、 (2
5e、 25f)が第2の開閉チャック25の駆動軸に
連結されている。
る一方、2対のロッド(25c、 25d) 、 (2
5e、 25f)が第2の開閉チャック25の駆動軸に
連結されている。
ロッド[24c、 24d]の各先端は板状のチャック
部材24aに、また、ロッド(24e、 24f)の各
先端は板状のチャック部材24bに、 それぞれ連結さ
れ、チャック部材24a及び24bが対面することによ
り第1の開閉チャック24が構成されている。また、第
2の開閉チャック25も同様にロッド(25c、 25
d)及びチャック部材25aのアッセンブリと、ロッド
(25a、 25f)及びチャック部材25bのアッセ
ンブリと、の組合せにより構成されている。
部材24aに、また、ロッド(24e、 24f)の各
先端は板状のチャック部材24bに、 それぞれ連結さ
れ、チャック部材24a及び24bが対面することによ
り第1の開閉チャック24が構成されている。また、第
2の開閉チャック25も同様にロッド(25c、 25
d)及びチャック部材25aのアッセンブリと、ロッド
(25a、 25f)及びチャック部材25bのアッセ
ンブリと、の組合せにより構成されている。
また、第2のシリンダ23は、複数のモータ(図示せず
)及び複数の減速ギヤ(図示せず)を有している。この
場合に、ロッド(24c、 24d)のペアとロッド(
24e、 24f)のペアとは相互に連動するように構
成され、−力対のロッドがシリンダから突出すると他方
対のロッドがシリンダに退入するようになっている。ま
た、ロッド(24e、 24f)はシリンダ23寄りの
チャック部材24aを貫通し、チャック部材24aとロ
ッド(24e、 24f〕とが相互に干渉し合わないよ
うになっている。なお、開閉チャック25も、ロッド(
25e、 25f)及びチャック部材25aの相互干渉
を避けるために、同様に構成されている。
)及び複数の減速ギヤ(図示せず)を有している。この
場合に、ロッド(24c、 24d)のペアとロッド(
24e、 24f)のペアとは相互に連動するように構
成され、−力対のロッドがシリンダから突出すると他方
対のロッドがシリンダに退入するようになっている。ま
た、ロッド(24e、 24f)はシリンダ23寄りの
チャック部材24aを貫通し、チャック部材24aとロ
ッド(24e、 24f〕とが相互に干渉し合わないよ
うになっている。なお、開閉チャック25も、ロッド(
25e、 25f)及びチャック部材25aの相互干渉
を避けるために、同様に構成されている。
第4図に示すように、第1の開閉チャック24の部材2
4a 、 24bの相互対向面にはm26が12/15
インチピッチの間隔で形成され、これら溝の間隔で複数
のウェハ45が把持されるようになっている。
4a 、 24bの相互対向面にはm26が12/15
インチピッチの間隔で形成され、これら溝の間隔で複数
のウェハ45が把持されるようになっている。
溝26は、ウェハ45を差込みやすいように、その開口
側がテーパ形状に形成されている。また、第5図及び第
6図の比較から明らかなように、溝26はウェハ45の
エツジカーブに沿うように形成されている。
側がテーパ形状に形成されている。また、第5図及び第
6図の比較から明らかなように、溝26はウェハ45の
エツジカーブに沿うように形成されている。
第7図に示すように、第2の開閉チャック25の部材2
5a、 25bの相互対向面には溝27が6/16イン
チピッチの間隔に形成されている。すなわち、第2の開
閉チャックの溝27の相互間隔は、第1の開閉チャック
の溝26のそれの半分である。第8図及び第9図の比較
から明らかなように、溝27もウェハ45のエツジカー
ブに沿うように形成されており、各溝27は実質的に上
述の各溝26と同形状である。
5a、 25bの相互対向面には溝27が6/16イン
チピッチの間隔に形成されている。すなわち、第2の開
閉チャックの溝27の相互間隔は、第1の開閉チャック
の溝26のそれの半分である。第8図及び第9図の比較
から明らかなように、溝27もウェハ45のエツジカー
ブに沿うように形成されており、各溝27は実質的に上
述の各溝26と同形状である。
次に、第10図を参照しながら、第1のステージに設け
られたカセット方向転換機構及びウェハリフト機構につ
いて説明する。
られたカセット方向転換機構及びウェハリフト機構につ
いて説明する。
第1のステージ12には6つのカセットの方向転換を行
なうカセット回転機929がX軸に沿って直列に設けら
れている。機構29のターンテーブル30は、軸受30
aによりステージ12のフレームに回転可能に支持され
ている。ターンテーブル30の下部にはギア31が形成
されており、ギア31がモータ32の駆動ギア32aに
噛合っている。
なうカセット回転機929がX軸に沿って直列に設けら
れている。機構29のターンテーブル30は、軸受30
aによりステージ12のフレームに回転可能に支持され
ている。ターンテーブル30の下部にはギア31が形成
されており、ギア31がモータ32の駆動ギア32aに
噛合っている。
リフト機構のシリンダ33が、各ターンテーブル30の
直下にそれぞれ設けられている。各シリンダ33のロッ
ド先端に押上げ部34が取付けられている。
直下にそれぞれ設けられている。各シリンダ33のロッ
ド先端に押上げ部34が取付けられている。
この押上げ部材34の上面にはウェハ保持用の溝が形成
されている。
されている。
ターンテーブル30の中央領域には開口40が形成され
ており、この間口40を介してリフト機構の押上げ部材
34が上方へ突出し、押上げ部材34によりカセット4
3からウェハ45が持上げられるようになっている。
ており、この間口40を介してリフト機構の押上げ部材
34が上方へ突出し、押上げ部材34によりカセット4
3からウェハ45が持上げられるようになっている。
次に、第11図乃至第16図を参照しながら、ウェハ4
5をカセット43からボート44に移替える場合につい
て説明する。
5をカセット43からボート44に移替える場合につい
て説明する。
まず、6個のカセット43及び1本のボート44をそれ
ぞ九ステージの所定位置に載置し、キー操作によりイニ
シアルデータをコンピュータに入力する。このイニシア
ルデータには、Wt数枚のウェハ45をface to
backの配列からface to faceの配列
に並べ替えるためのデータも含まれている。なお、各カ
セット43内には25枚のウェハ45が3/16インチ
ピッチ間隔で収容されている。また、ボート44のウェ
ハ保持用の溝も3/16インチピッチ間隔に形成されて
いる。
ぞ九ステージの所定位置に載置し、キー操作によりイニ
シアルデータをコンピュータに入力する。このイニシア
ルデータには、Wt数枚のウェハ45をface to
backの配列からface to faceの配列
に並べ替えるためのデータも含まれている。なお、各カ
セット43内には25枚のウェハ45が3/16インチ
ピッチ間隔で収容されている。また、ボート44のウェ
ハ保持用の溝も3/16インチピッチ間隔に形成されて
いる。
スタート信号をコンピュータからコントローラ21に送
り、ローディング装置10をX軸方向にスライド移動さ
せ、第1の開閉チャック24を第1番目のカセット43
の直上に位置させる。
り、ローディング装置10をX軸方向にスライド移動さ
せ、第1の開閉チャック24を第1番目のカセット43
の直上に位置させる。
そして、リフト機構のシリンダ33に圧縮エアを供給し
、押し上げ部材34によりカセット43内のすべて例え
ば25枚のウェハ45を配列ピッチを維持して支持し持
ち上げ、第1の開閉チャック24の高さにリフトする。
、押し上げ部材34によりカセット43内のすべて例え
ば25枚のウェハ45を配列ピッチを維持して支持し持
ち上げ、第1の開閉チャック24の高さにリフトする。
次いで、シリンダ23に圧縮エアを供給し、ロッド(2
4c、 24d)をシリンダ23から突出させる一方、
ロッド(24e、 24f)をシリンダ23に退入させ
る。これにより、第11図に示すように、ウェハ列45
が開閉チャック24により予め定められた枚数毎に挟持
される。
4c、 24d)をシリンダ23から突出させる一方、
ロッド(24e、 24f)をシリンダ23に退入させ
る。これにより、第11図に示すように、ウェハ列45
が開閉チャック24により予め定められた枚数毎に挟持
される。
次いで、押し上げ部材34を下降させると、部材34と
共に上記部材34上に残った18枚のウェハ45が下降
し、7枚のウェハ45が開閉チャック部材24の間に残
留する。すなわち、ウェハ45は、12/ 16インチ
ピッチ間隔で第1の開閉チャック24により3枚おきに
挟持され、残りはカセット43に戻される。
共に上記部材34上に残った18枚のウェハ45が下降
し、7枚のウェハ45が開閉チャック部材24の間に残
留する。すなわち、ウェハ45は、12/ 16インチ
ピッチ間隔で第1の開閉チャック24により3枚おきに
挟持され、残りはカセット43に戻される。
次いで、ローディング機構を第1のステージ12から第
2のステージ13ヘスライド移動させ、ボート44前面
の所定位置にて停止させる。次いで、第1のシリンダ2
2内にロッド22aを退入させ、第2のシリンダ23を
下降させる。そして、センサ(図示せず)により開閉チ
ャック24及びウェハ45のボート44への接近を検出
し、この検出結果に基づき第1のシリンダ22の動作を
停止させる。
2のステージ13ヘスライド移動させ、ボート44前面
の所定位置にて停止させる。次いで、第1のシリンダ2
2内にロッド22aを退入させ、第2のシリンダ23を
下降させる。そして、センサ(図示せず)により開閉チ
ャック24及びウェハ45のボート44への接近を検出
し、この検出結果に基づき第1のシリンダ22の動作を
停止させる。
次いで、ロッド(24c、 24d)を第2のシリンダ
23に退入させると共に、ロッド[24e、 24f]
を第2のシリンダ23から突出させる。これにより、第
12図に示すように、ウェハ45が開閉チャック24か
らボート44に移行する。
23に退入させると共に、ロッド[24e、 24f]
を第2のシリンダ23から突出させる。これにより、第
12図に示すように、ウェハ45が開閉チャック24か
らボート44に移行する。
第13図に示すように、 7枚のウェハ45□は、同方
向の配列で、ボート44の第1エリアにローディングさ
れる。すなわち、ボート44上の各ウェハ45゜は、1
2/16インチピッチの間隔でface45aとbac
k45bとが互いに対面している。
向の配列で、ボート44の第1エリアにローディングさ
れる。すなわち、ボート44上の各ウェハ45゜は、1
2/16インチピッチの間隔でface45aとbac
k45bとが互いに対面している。
1回目のウェハ移替え後、ローディング装置10を第2
のステージ13から第1のステージ12にスライド移動
させ、第1の開閉チャック24をカセット43の直上に
位置させる。次いで、モータ32に通電し、モータ駆動
によりターンテーブル30を180゜回転させ、カセッ
ト43を反転させる。
のステージ13から第1のステージ12にスライド移動
させ、第1の開閉チャック24をカセット43の直上に
位置させる。次いで、モータ32に通電し、モータ駆動
によりターンテーブル30を180゜回転させ、カセッ
ト43を反転させる。
そして、シリンダ33に圧縮エアを供給し、押し上げ部
材34によりカセット43からウェハ45を第1の開閉
チャック24の高さにリフトする。次いで、第11図に
示すように、第1の開閉チャック24によリウエハ45
を挟持する。押し上げ部材34を下降させると、6枚の
ウェハ45が開閉チャック24に残留する。これを第2
ステージ13へ搬送し、第12図及び第14図に示すよ
うに、 6枚のウェハ452をボート44の第1エリア
にローディングする。
材34によりカセット43からウェハ45を第1の開閉
チャック24の高さにリフトする。次いで、第11図に
示すように、第1の開閉チャック24によリウエハ45
を挟持する。押し上げ部材34を下降させると、6枚の
ウェハ45が開閉チャック24に残留する。これを第2
ステージ13へ搬送し、第12図及び第14図に示すよ
うに、 6枚のウェハ452をボート44の第1エリア
にローディングする。
これら6枚のウェハ45□と、 前回移替えられた7枚
のウェハ45□とは、face45a to face
45aの配列となる。
のウェハ45□とは、face45a to face
45aの配列となる。
そして、上記と実質的に同様の動作を繰返して。
カセット43からボート44の第2エリアに合計11枚
のウェハ45をfaea45a to face45a
の配列となるように移替える。すなわち、第15図に示
すように、3回目の移替えウェハ45.(6枚)を、2
回目の移替えウェハ45□(6枚)と同じ向きの配列と
する。
のウェハ45をfaea45a to face45a
の配列となるように移替える。すなわち、第15図に示
すように、3回目の移替えウェハ45.(6枚)を、2
回目の移替えウェハ45□(6枚)と同じ向きの配列と
する。
また、4回目の移替え工程においては、機構29により
カセット43を反転させ、ウェハ45の向きを180°
転換する。すなわち、第16図に示すように、4回目の
移替えウェハ45. (5枚)を、1回目の移替エウエ
ハ451(7枚)と同じ向きの配列とする。
カセット43を反転させ、ウェハ45の向きを180°
転換する。すなわち、第16図に示すように、4回目の
移替えウェハ45. (5枚)を、1回目の移替エウエ
ハ451(7枚)と同じ向きの配列とする。
これにより、合計24枚のウェハ45がface45a
t。
t。
face45aの配列となるように、ボート44にロー
ディングされる。
ディングされる。
ウェハ移替え完了後、ボート44を受は渡し位置に搬送
し、エレベータ装置7の部材7bによりボート44を保
持しつつ使用予定炉の棚まで搬送し、ボート44をフォ
ーク6上に移し、ソフトランディング装置5によりボー
ト44を炉内に挿入する。そして、所定温度及び所定時
間の熱処理を実行する。
し、エレベータ装置7の部材7bによりボート44を保
持しつつ使用予定炉の棚まで搬送し、ボート44をフォ
ーク6上に移し、ソフトランディング装置5によりボー
ト44を炉内に挿入する。そして、所定温度及び所定時
間の熱処理を実行する。
なお、上記実施例では、第1の開閉チャック24を用い
て、3/16インチピッチの溝を有するボート44にウ
ェハ45をローディングする場合について説明したが、
ボートの溝間隔が3732インチピッチに変更された場
合にも対応することができる。
て、3/16インチピッチの溝を有するボート44にウ
ェハ45をローディングする場合について説明したが、
ボートの溝間隔が3732インチピッチに変更された場
合にも対応することができる。
すなわち、上記装置は第1の開閉チャック24の他に第
2の開閉チャック25を有するので、この第2の開閉チ
ャック25を使用することにより3/32インチピッチ
の溝を有するボートにウェハを移替えることができる。
2の開閉チャック25を有するので、この第2の開閉チ
ャック25を使用することにより3/32インチピッチ
の溝を有するボートにウェハを移替えることができる。
このため、開閉チャックを交換することなく、単一の装
置により溝ピッチが互いに異なる数種のボートにウェハ
を移替えることができる。
置により溝ピッチが互いに異なる数種のボートにウェハ
を移替えることができる。
また、上記実施例では、ウェハをface to fa
ceの配列でボートに移替える場合について説明したが
、これに限られることなく、カセット回転機構29によ
るウェハの反転を種々変更することにより各種のウェハ
の配列を得ることが可能である。
ceの配列でボートに移替える場合について説明したが
、これに限られることなく、カセット回転機構29によ
るウェハの反転を種々変更することにより各種のウェハ
の配列を得ることが可能である。
複数枚のウェハが収納された第1のウェハ収納手段を選
択的に方向転換させる手段と、前記第1のウェハ収納手
段からウェハを取出す手段と、取出されたウェハを選択
的に挟持する手段と、取出されたウェハを第2のウェハ
収納手段に搬送する手段と、を有する。
択的に方向転換させる手段と、前記第1のウェハ収納手
段からウェハを取出す手段と、取出されたウェハを選択
的に挟持する手段と、取出されたウェハを第2のウェハ
収納手段に搬送する手段と、を有する。
上記方向転換手段が、第1のウェハ収納手段(カセット
)を垂直軸廻りに転回させるターンテーブルを有する。
)を垂直軸廻りに転回させるターンテーブルを有する。
この場合に、カセットを載置したターンテーブルが、パ
ルスモータにより垂直軸廻りに180’回転するように
なっていることが好ましい。
ルスモータにより垂直軸廻りに180’回転するように
なっていることが好ましい。
上記ターンテーブルは、複数設置されており、これらが
カセットステージに直列に配列されていることが好まし
い。
カセットステージに直列に配列されていることが好まし
い。
また、上記方向転換手段が、コンピュータシステムによ
り制御されるように設けられていることが望ましい。こ
の場合に、所定のコンピュータプログラミングに基づい
てカセットが方向転換手段により選択的に方向転換させ
られる。
り制御されるように設けられていることが望ましい。こ
の場合に、所定のコンピュータプログラミングに基づい
てカセットが方向転換手段により選択的に方向転換させ
られる。
上記挟持手段が、複数の開閉チャック機構を有すること
が好ましい。
が好ましい。
この場合に、2系統の挟持手段を有し、各系統のウェハ
保持用の溝の相互間隔が異なっていることが好ましい。
保持用の溝の相互間隔が異なっていることが好ましい。
以上述べたようにこの実施例によれば、複数枚の被移替
えウェハが収納された第1の被移替えウェハ収納容器か
ら全ウェハを押上げる工程と、この工程により押上げら
れたウェハ列から予め定められた枚数毎にウェハを抜き
取る工程と、この工程により抜き取ったウェハを第2の
ウェハ収納手段に移替える工程と、この第2の被移替え
ウェハ収納容器を180”回転させる工程と、 この工
程により回転した容器から全ウェハを押上げ予め定めら
れた枚数のウェハを抜き取り上記第1のウェハ収納容器
に移替えてフェース・ツー・フェースの配列をする工程
を具備したことにより、ウェハをフェース・ツー・フェ
ースの配列となるように、カセットからボートへ全自動
ローディングすることができる。このため熱処理の仕様
変更に関連してボート上のウェハの配列を種々変更しな
ければならない事態が生じたときに、これに十分に対処
することができるので、この種の装置の用途が拡大され
た。
えウェハが収納された第1の被移替えウェハ収納容器か
ら全ウェハを押上げる工程と、この工程により押上げら
れたウェハ列から予め定められた枚数毎にウェハを抜き
取る工程と、この工程により抜き取ったウェハを第2の
ウェハ収納手段に移替える工程と、この第2の被移替え
ウェハ収納容器を180”回転させる工程と、 この工
程により回転した容器から全ウェハを押上げ予め定めら
れた枚数のウェハを抜き取り上記第1のウェハ収納容器
に移替えてフェース・ツー・フェースの配列をする工程
を具備したことにより、ウェハをフェース・ツー・フェ
ースの配列となるように、カセットからボートへ全自動
ローディングすることができる。このため熱処理の仕様
変更に関連してボート上のウェハの配列を種々変更しな
ければならない事態が生じたときに、これに十分に対処
することができるので、この種の装置の用途が拡大され
た。
また、部品を交換することなく、単一の装置により各種
タイプのボートにウェハを移替えることができる。この
ため、ボートのウェハ保持間隔が3716インチピッチ
から3/32インチピッチに変更されたとしても、同一
の装置によりウェハをカセットからボートへ移替えるこ
とができる。従って、部品交換時間を省略することがで
きるので、装置の稼働率を向上させることができる。
タイプのボートにウェハを移替えることができる。この
ため、ボートのウェハ保持間隔が3716インチピッチ
から3/32インチピッチに変更されたとしても、同一
の装置によりウェハをカセットからボートへ移替えるこ
とができる。従って、部品交換時間を省略することがで
きるので、装置の稼働率を向上させることができる。
第1図は本発明方法の一実施例を説明するための加熱炉
装置の構成図、第2図は第1図の移替え装置説明図、第
3図は第2図移替え装置の一部をなすローディング装置
説明図、第4図は第2図の第1のウェハチャック縦断面
図、第5図は第4図のrV−IV間断面図、第6図は第
4図の■−■間断 。 面図、第7図は第2図の第2のウェハチャック縦断面図
、第8図は第7図の■−■間断面図、第9図は第7図の
■−■間断面図、第10図、第11図。 第12図は第2図移替え装置のカセット回転機構及び押
上1プ部材説明図、第13図乃至第16図は第2図移替
え装置によるウェハ移替え手順説明図である。 10・・・ローディング装置 24.25・・・開閉チ
ャック29・・・カセット回転機構 43・・・カセッ
ト4411.ボート45・・・ウェハ
装置の構成図、第2図は第1図の移替え装置説明図、第
3図は第2図移替え装置の一部をなすローディング装置
説明図、第4図は第2図の第1のウェハチャック縦断面
図、第5図は第4図のrV−IV間断面図、第6図は第
4図の■−■間断 。 面図、第7図は第2図の第2のウェハチャック縦断面図
、第8図は第7図の■−■間断面図、第9図は第7図の
■−■間断面図、第10図、第11図。 第12図は第2図移替え装置のカセット回転機構及び押
上1プ部材説明図、第13図乃至第16図は第2図移替
え装置によるウェハ移替え手順説明図である。 10・・・ローディング装置 24.25・・・開閉チ
ャック29・・・カセット回転機構 43・・・カセッ
ト4411.ボート45・・・ウェハ
Claims (1)
- 複数枚の被移替えウェハが収納された第1の被移替え
ウェハ収納容器から全ウェハを押上げる工程と、この工
程により押上げられたウェハ列から予め定められた枚数
毎にウェハを抜き取る工程と、この工程により抜き取っ
たウェハを第2のウェハ収納手段に移替える工程と、第
2の被移替えウェハ収納容器を180゜回転させる工程
と、この工程により回転した容器から全ウェハを押上げ
予め定められた枚数のウェハを抜き取り上記第1のウェ
ハ収納容器に移替えてフェース・ツー・フェースの配列
をする工程を具備してなるウェハ移替え方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63308577A JP2651858B2 (ja) | 1987-12-07 | 1988-12-06 | ウエハ移替え装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62-308920 | 1987-12-07 | ||
| JP30892087 | 1987-12-07 | ||
| JP63308577A JP2651858B2 (ja) | 1987-12-07 | 1988-12-06 | ウエハ移替え装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01251633A true JPH01251633A (ja) | 1989-10-06 |
| JP2651858B2 JP2651858B2 (ja) | 1997-09-10 |
Family
ID=26565594
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63308577A Expired - Lifetime JP2651858B2 (ja) | 1987-12-07 | 1988-12-06 | ウエハ移替え装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2651858B2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0631147U (ja) * | 1992-09-25 | 1994-04-22 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置における基板の方向変換装置 |
| US5620295A (en) * | 1990-11-17 | 1997-04-15 | Tokyo Electron Limited | Transfer apparatus |
| US6612801B1 (en) * | 1999-08-26 | 2003-09-02 | Tokyo Electron Limited | Method and device for arraying substrates and processing apparatus thereof |
| KR20150061106A (ko) * | 2013-11-25 | 2015-06-04 | 세메스 주식회사 | 이송 유닛, 기판 처리 장치, 기판 처리 설비 및 기판 이송 방법 |
| KR20170139220A (ko) * | 2016-06-08 | 2017-12-19 | 한국과학기술원 | 무선전력 전송장치 |
| CN116313956A (zh) * | 2023-02-14 | 2023-06-23 | 苏州金锐启智能装备科技有限公司 | 一种片状芯片输送定位轨道装置 |
| WO2023116187A1 (zh) * | 2021-12-24 | 2023-06-29 | 宁波芯健半导体有限公司 | 一种晶圆倒片装置 |
| CN119612155A (zh) * | 2024-12-23 | 2025-03-14 | 苏州金辰智能制造有限公司 | 一种具有高效上下料功能的石英舟搬舟机构及搬运控制方法 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5991735U (ja) * | 1982-12-10 | 1984-06-21 | 日本電気ホームエレクトロニクス株式会社 | 半導体ウエ−ハ移し替え装置 |
| JPS6058632A (ja) * | 1983-09-12 | 1985-04-04 | Seiko Epson Corp | 移送方法 |
| JPS60130238U (ja) * | 1984-01-19 | 1985-08-31 | 東京エレクトロン相模株式会社 | ウエハ移し換え用微動移動及び回転装置 |
| JPS61226939A (ja) * | 1985-03-30 | 1986-10-08 | Toshiba Corp | ウエ−ハ移替装置 |
| JPS6228439U (ja) * | 1985-08-02 | 1987-02-20 | ||
| JPS6269633A (ja) * | 1985-09-24 | 1987-03-30 | Toshiba Corp | ウエ−ハ移替装置 |
| JPS6297842U (ja) * | 1985-12-11 | 1987-06-22 |
-
1988
- 1988-12-06 JP JP63308577A patent/JP2651858B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5991735U (ja) * | 1982-12-10 | 1984-06-21 | 日本電気ホームエレクトロニクス株式会社 | 半導体ウエ−ハ移し替え装置 |
| JPS6058632A (ja) * | 1983-09-12 | 1985-04-04 | Seiko Epson Corp | 移送方法 |
| JPS60130238U (ja) * | 1984-01-19 | 1985-08-31 | 東京エレクトロン相模株式会社 | ウエハ移し換え用微動移動及び回転装置 |
| JPS61226939A (ja) * | 1985-03-30 | 1986-10-08 | Toshiba Corp | ウエ−ハ移替装置 |
| JPS6228439U (ja) * | 1985-08-02 | 1987-02-20 | ||
| JPS6269633A (ja) * | 1985-09-24 | 1987-03-30 | Toshiba Corp | ウエ−ハ移替装置 |
| JPS6297842U (ja) * | 1985-12-11 | 1987-06-22 |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5620295A (en) * | 1990-11-17 | 1997-04-15 | Tokyo Electron Limited | Transfer apparatus |
| JPH0631147U (ja) * | 1992-09-25 | 1994-04-22 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板処理装置における基板の方向変換装置 |
| US6612801B1 (en) * | 1999-08-26 | 2003-09-02 | Tokyo Electron Limited | Method and device for arraying substrates and processing apparatus thereof |
| KR20150061106A (ko) * | 2013-11-25 | 2015-06-04 | 세메스 주식회사 | 이송 유닛, 기판 처리 장치, 기판 처리 설비 및 기판 이송 방법 |
| KR20170139220A (ko) * | 2016-06-08 | 2017-12-19 | 한국과학기술원 | 무선전력 전송장치 |
| KR101865852B1 (ko) * | 2016-06-08 | 2018-07-16 | 한국과학기술원 | 무선전력 전송장치 |
| WO2023116187A1 (zh) * | 2021-12-24 | 2023-06-29 | 宁波芯健半导体有限公司 | 一种晶圆倒片装置 |
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