JPH01253930A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
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- JPH01253930A JPH01253930A JP63081487A JP8148788A JPH01253930A JP H01253930 A JPH01253930 A JP H01253930A JP 63081487 A JP63081487 A JP 63081487A JP 8148788 A JP8148788 A JP 8148788A JP H01253930 A JPH01253930 A JP H01253930A
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- H10W72/01—Manufacture or treatment
- H10W72/019—Manufacture or treatment of bond pads
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- H10W72/075—Connecting or disconnecting of bond wires
- H10W72/07541—Controlling the environment, e.g. atmosphere composition or temperature
- H10W72/07551—Controlling the environment, e.g. atmosphere composition or temperature characterised by changes in properties of the bond wires during the connecting
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- H10W90/751—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
- H10W90/756—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体装置に関し、特に電極引き出しに用いる
ボンディングパッド電極およびその製造方法に関する。
ボンディングパッド電極およびその製造方法に関する。
従来の半導体装置のボンディングパッドを第2図を用い
て説明する。半導体基板1の表面にダイオード、トラン
ジスタ等よりなる半導体集積回路を有する半導体装置の
周辺に入出力信号および、電源電圧あるいはクロック信
号を供給する配線引き出しのためのボンディングパッド
を平面に並べて配置していた。
て説明する。半導体基板1の表面にダイオード、トラン
ジスタ等よりなる半導体集積回路を有する半導体装置の
周辺に入出力信号および、電源電圧あるいはクロック信
号を供給する配線引き出しのためのボンディングパッド
を平面に並べて配置していた。
上述した従来の半導体装置は、素子領域の周囲にボンデ
ィングパッドを配置するため、パッド数が増えるに従い
ペレットの面積が増大するという欠点がある。
ィングパッドを配置するため、パッド数が増えるに従い
ペレットの面積が増大するという欠点がある。
本発明の半導体装置は、ペレットの周辺部をエツチング
しボンディングパッドを、ペレットの表面に対し垂直な
平面上に配置するという特徴を有している。
しボンディングパッドを、ペレットの表面に対し垂直な
平面上に配置するという特徴を有している。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例であり、第1図(a)は縦断
面図、第1図(b)は平面図を示す。シリコン基板1の
素子領域の外側周辺をエツチング除去した段部に、アル
ミニウム等の金属電極3を設ける。
面図、第1図(b)は平面図を示す。シリコン基板1の
素子領域の外側周辺をエツチング除去した段部に、アル
ミニウム等の金属電極3を設ける。
第5図(a)〜(r)は、本発明の一実施例の工程断面
図である。シリコン基板1の表面にフィールド絶縁膜2
を形成した後、リソグラフィーにより、フィールド絶縁
膜2の不要要領をエツチング除去し、さらにシリコン基
板1をドライエツチングにより、50〜70μmの深さ
にエツチングする(第5図(a))。次に、CVDによ
り、1μmの絶縁膜6を形成した後金属膜3を高ステッ
プカバレッジ性のたとえばMOCVDで形成する(第5
図(c))。さらに、フォトレジストアで、パッド領域
と配線領域を覆い(第5図(d))不要領域をエツチン
グする(第5図(e))。次にワイヤーにてスクライブ
線をカットする。
図である。シリコン基板1の表面にフィールド絶縁膜2
を形成した後、リソグラフィーにより、フィールド絶縁
膜2の不要要領をエツチング除去し、さらにシリコン基
板1をドライエツチングにより、50〜70μmの深さ
にエツチングする(第5図(a))。次に、CVDによ
り、1μmの絶縁膜6を形成した後金属膜3を高ステッ
プカバレッジ性のたとえばMOCVDで形成する(第5
図(c))。さらに、フォトレジストアで、パッド領域
と配線領域を覆い(第5図(d))不要領域をエツチン
グする(第5図(e))。次にワイヤーにてスクライブ
線をカットする。
第3図は本発明の半導体装置のボンディング後の縦断面
図を示す。リードフレームのアイランド8にベレットを
載せ、ボンディングワイヤー10によりボンディングパ
ッド3とステッチ9を結ぶ。
図を示す。リードフレームのアイランド8にベレットを
載せ、ボンディングワイヤー10によりボンディングパ
ッド3とステッチ9を結ぶ。
この実施例ではペレットが縮小できることにより、アイ
ランド8が小さくでき、封入形態も小さくなる利点があ
る。
ランド8が小さくでき、封入形態も小さくなる利点があ
る。
第4図は、本発明の半導体装置のTAB (TapeA
utomated Bonding)に適用した実施例
を示す。半導体ペレットは、はんだバンブ12によりポ
リイミドテープ側のインナーリード11に接続され熱圧
着により結合する。エポキシ樹脂13によりペレットの
吸湿を防止する。本実施例においてもベレットが縮小で
きるため、実装密度が上がる。
utomated Bonding)に適用した実施例
を示す。半導体ペレットは、はんだバンブ12によりポ
リイミドテープ側のインナーリード11に接続され熱圧
着により結合する。エポキシ樹脂13によりペレットの
吸湿を防止する。本実施例においてもベレットが縮小で
きるため、実装密度が上がる。
以上説明したように本発明は、半導体装置のボンディン
グパッドを、垂直に削ったエツチング面に配置すること
により。ボンディングパッドを70μ、ベレットサイズ
を3mmX3mmとした場合およそ10%のベレットサ
イズの縮小が可能である。このため、モールド形成、T
AB等の実装において実装密度を上げることができる効
果がある。
グパッドを、垂直に削ったエツチング面に配置すること
により。ボンディングパッドを70μ、ベレットサイズ
を3mmX3mmとした場合およそ10%のベレットサ
イズの縮小が可能である。このため、モールド形成、T
AB等の実装において実装密度を上げることができる効
果がある。
第1図は本発明のボンディングパッドを適用した半導体
装置一実施例であり、第1図(a)は縦断面図、第1図
(b)は平面図である。第2図は従来のボンディングパ
ッドによる半導体装置で、第2図(a)は縦断面図、第
2図(b)は平面図を示す。第3図はボンディングワイ
ヤーによりリードフレームとボンディングを行った後の
本発明適用の一実施例の縦断面図。第4図はTABに適
用した本発明実施例の縦断面図である。第5図(a)〜
(f)は本発明の実施例を示す図である。 1・・・・・・シリコン基板、2・・・・・・フィール
ド絶縁膜、3・・・・・・ボンデインクパッド、4・・
・・・・シリコンエツチング面、5・・・・・・ダイシ
ング面、6・・・・・・絶縁膜、7・・・・・・フォト
レジスト、8・・・・・・リードフレームアイランド、
9・・・・・・リードフレームスイッチ、10・・・・
・・ボンディングワイヤー、11・・・・・・インナー
リード、12・・・・・・バンプ、13・・・・・・エ
ポキシ樹脂。 代理人 弁理士 内 原 晋 (a) 、3 第7図 第2g 第3 図 (C)3 第57 (i) (f) 第5図
装置一実施例であり、第1図(a)は縦断面図、第1図
(b)は平面図である。第2図は従来のボンディングパ
ッドによる半導体装置で、第2図(a)は縦断面図、第
2図(b)は平面図を示す。第3図はボンディングワイ
ヤーによりリードフレームとボンディングを行った後の
本発明適用の一実施例の縦断面図。第4図はTABに適
用した本発明実施例の縦断面図である。第5図(a)〜
(f)は本発明の実施例を示す図である。 1・・・・・・シリコン基板、2・・・・・・フィール
ド絶縁膜、3・・・・・・ボンデインクパッド、4・・
・・・・シリコンエツチング面、5・・・・・・ダイシ
ング面、6・・・・・・絶縁膜、7・・・・・・フォト
レジスト、8・・・・・・リードフレームアイランド、
9・・・・・・リードフレームスイッチ、10・・・・
・・ボンディングワイヤー、11・・・・・・インナー
リード、12・・・・・・バンプ、13・・・・・・エ
ポキシ樹脂。 代理人 弁理士 内 原 晋 (a) 、3 第7図 第2g 第3 図 (C)3 第57 (i) (f) 第5図
Claims (1)
- 半導体装置において、ボンディング用パッド電極を半
導体主表面に対し垂直あるいは傾斜した面に形成してな
る半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63081487A JPH01253930A (ja) | 1988-04-01 | 1988-04-01 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63081487A JPH01253930A (ja) | 1988-04-01 | 1988-04-01 | 半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01253930A true JPH01253930A (ja) | 1989-10-11 |
Family
ID=13747761
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63081487A Pending JPH01253930A (ja) | 1988-04-01 | 1988-04-01 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01253930A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2023174895A (ja) * | 2018-11-05 | 2023-12-08 | ローム株式会社 | 半導体素子および半導体装置 |
-
1988
- 1988-04-01 JP JP63081487A patent/JPH01253930A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2023174895A (ja) * | 2018-11-05 | 2023-12-08 | ローム株式会社 | 半導体素子および半導体装置 |
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