JPH01255667A - 基体の上に一様な厚さプロフイールを有する層を製作するための装置 - Google Patents
基体の上に一様な厚さプロフイールを有する層を製作するための装置Info
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- JPH01255667A JPH01255667A JP1038511A JP3851189A JPH01255667A JP H01255667 A JPH01255667 A JP H01255667A JP 1038511 A JP1038511 A JP 1038511A JP 3851189 A JP3851189 A JP 3851189A JP H01255667 A JPH01255667 A JP H01255667A
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- substrate
- coating chamber
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
- C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
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- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は基体の上に一様な厚さプロフィールを有する層
を製作するための装置であって、被覆室と、該被覆室内
に定置に保持されたス・やツｐ １７７グカソードと、
被覆室を通って該ス・９ツタリングカソードに対して横
方向に運動可能で、レール内に及び（又は）滑動又は転
動体の間に保持されかつ案内された基体往復台とを有し
ている形式のものに関する。
を製作するための装置であって、被覆室と、該被覆室内
に定置に保持されたス・やツｐ １７７グカソードと、
被覆室を通って該ス・９ツタリングカソードに対して横
方向に運動可能で、レール内に及び（又は）滑動又は転
動体の間に保持されかつ案内された基体往復台とを有し
ている形式のものに関する。
従来技術
西ドイツ国特許出願公開第３３０６８７０号明細書によ
れば、スパッタリングカソードと基体保持体とが共通の
走行台車に配置され、基体保持体が連続的な回転運動を
行ないながら前記走行台車がスｉＪ？ツタリングカソー
ドに対して走行可能である装置が公知である。このため
に走行台車には連行ローラが配置されている。該連行ロ
ーラの回転軸線は走行方向に対して直角に延びている。
れば、スパッタリングカソードと基体保持体とが共通の
走行台車に配置され、基体保持体が連続的な回転運動を
行ないながら前記走行台車がスｉＪ？ツタリングカソー
ドに対して走行可能である装置が公知である。このため
に走行台車には連行ローラが配置されている。該連行ロ
ーラの回転軸線は走行方向に対して直角に延びている。
この場合には、走行方向に対して平行には駆動機構が配
置され、この駆動機構に連行ローラが移動距離の１部で
係合しており、連行ローラは基体保持体と連結されてい
る。駆動機構はエンドレスチェーンとして構成され、走
行方向で相前後して配置された２つのスプロケットを介
して案内されている。該スプロケットは駆動モータによ
って回転させられ、各連行ローラは円錐車伝動装置を介
して基体保持体と協働している。
置され、この駆動機構に連行ローラが移動距離の１部で
係合しており、連行ローラは基体保持体と連結されてい
る。駆動機構はエンドレスチェーンとして構成され、走
行方向で相前後して配置された２つのスプロケットを介
して案内されている。該スプロケットは駆動モータによ
って回転させられ、各連行ローラは円錐車伝動装置を介
して基体保持体と協働している。
この公知の装置はきわめて費用がかかり、嵩高で、しか
も運転の確実性が低いという欠点を有している。
も運転の確実性が低いという欠点を有している。
発明の課題
本発明の課題は機械式の伝動装置なしで働き、特に簡単
な構造を可能にし、点検を不要にし、どんな場合にも被
覆室を開放する必要がない、冒頭に述べた形式の装置を
提供することである。
な構造を可能にし、点検を不要にし、どんな場合にも被
覆室を開放する必要がない、冒頭に述べた形式の装置を
提供することである。
課題を解決するための手段
前記課題は本発明によれば、基体往復台の、カソードに
向いた側に単数又は複数の基体円板が回転可能に支承さ
れ、これらの基体円板の回転軸が基体往復台の運動平面
に対して横方向に配置されており、被覆室内において基
体往復台の、カソードとは反対側に多数の一列に配置さ
れた磁石が定置されており、これらの磁石の磁化方向が
それぞれ基体往復台の運動方向に対して直角に延びてお
シ、この場合、２つの隣接する磁石の磁化がそれぞれ非
平行であり、磁石列が基体往復台の運動平面に対して平
行な平面内を延びておシ、基体円板のボスの上に固定さ
れかつ磁化方向がボス軸線に対して直角に延びる磁石円
板と協働していることにより達成された。
向いた側に単数又は複数の基体円板が回転可能に支承さ
れ、これらの基体円板の回転軸が基体往復台の運動平面
に対して横方向に配置されており、被覆室内において基
体往復台の、カソードとは反対側に多数の一列に配置さ
れた磁石が定置されており、これらの磁石の磁化方向が
それぞれ基体往復台の運動方向に対して直角に延びてお
シ、この場合、２つの隣接する磁石の磁化がそれぞれ非
平行であり、磁石列が基体往復台の運動平面に対して平
行な平面内を延びておシ、基体円板のボスの上に固定さ
れかつ磁化方向がボス軸線に対して直角に延びる磁石円
板と協働していることにより達成された。
前記装置の二者択一的な構成によれば、基体往復台の、
カソードに向いた側に単数又は律数の基体円板が回転可
能に支承され、これらの基体円板の回転軸が基体往復台
の運動平面に対して横方向に配置されており、被覆室内
において基体往復台の、カソードとは反対側に１つの電
磁石が定置されており、この電磁石の磁石ヨークの磁極
シューが基体円板のボスにそれぞれ固定された、磁化方
向がボス軸に対して直角に延びる磁石板と協働し、磁極
シューの互いに向き合った内面が基体往復台の運動方向
に対して平行に配置されている。
カソードに向いた側に単数又は律数の基体円板が回転可
能に支承され、これらの基体円板の回転軸が基体往復台
の運動平面に対して横方向に配置されており、被覆室内
において基体往復台の、カソードとは反対側に１つの電
磁石が定置されており、この電磁石の磁石ヨークの磁極
シューが基体円板のボスにそれぞれ固定された、磁化方
向がボス軸に対して直角に延びる磁石板と協働し、磁極
シューの互いに向き合った内面が基体往復台の運動方向
に対して平行に配置されている。
このためには基体往復台がほぼ方形のプレートとして構
成され、このプレートの上面に複数の基体円板が回転可
能に支承されており、この場合、所属の回転軸がそれぞ
れ基体往復台の支承孔を通して下方へ突出しており、か
つ磁石列の磁石又は電磁石と協働する磁石板と回転不能
に結合されていると有利である。
成され、このプレートの上面に複数の基体円板が回転可
能に支承されており、この場合、所属の回転軸がそれぞ
れ基体往復台の支承孔を通して下方へ突出しており、か
つ磁石列の磁石又は電磁石と協働する磁石板と回転不能
に結合されていると有利である。
有利には各基体円板と所属の各、磁石板との両方がボス
を有し、両者が回転軸を介して回転不能に結合されてお
り、それぞれ１つのボス対が１つのころがり軸受と協働
しており、該ころがり軸受の保持器が基体往復台に保持
されている。
を有し、両者が回転軸を介して回転不能に結合されてお
り、それぞれ１つのボス対が１つのころがり軸受と協働
しており、該ころがり軸受の保持器が基体往復台に保持
されている。
基体円板の回転方向で特に有効な円板電流を生ぜしめる
ためには、基体往復台の運動方向に延びる磁石列は、磁
石板が直接的にかつ僅かな間隔をおいて個々の磁石のそ
ばを被覆室を通って移動するときに通過するように配置
されている。
ためには、基体往復台の運動方向に延びる磁石列は、磁
石板が直接的にかつ僅かな間隔をおいて個々の磁石のそ
ばを被覆室を通って移動するときに通過するように配置
されている。
磁石列はボスと回転する磁石板のすぐ横にかつ基体往復
台のすぐ下にかつ基体往復台に対して平行に配置されて
いると有利である。
台のすぐ下にかつ基体往復台に対して平行に配置されて
いると有利である。
次に図面について本発明を説明するニ
ー様な厚さプロフィールを有する層を製作するための装
置は主として被覆室２を保持する機械フレーム１から構
成されている。この場合、被覆室２はほぼ方形の横断面
を有している。被覆室２内にはスパッタリングカソード
３と互いに平行な２列の支承ブロック生、４’、４“と
が配置され、支承ブロック４ 、４’ 、 ４“の上に
案内ローラ５ 、５’ 、 ５“・・・が回転可能に支
承されている。
置は主として被覆室２を保持する機械フレーム１から構
成されている。この場合、被覆室２はほぼ方形の横断面
を有している。被覆室２内にはスパッタリングカソード
３と互いに平行な２列の支承ブロック生、４’、４“と
が配置され、支承ブロック４ 、４’ 、 ４“の上に
案内ローラ５ 、５’ 、 ５“・・・が回転可能に支
承されている。
これらの案内ローラ５．５’、５“・・・の上には基体
往復台６が案内されている。両側で開いた被覆室２は２
つのスルースゲートと接続している。
往復台６が案内されている。両側で開いた被覆室２は２
つのスルースゲートと接続している。
これらのスルースフ９−トは図示されていないが一方で
は被覆室２内へ又は被覆室２外へ基体往復台６が走入又
は走出することを可能にし、他方では被覆室２の内部を
圧密に閉鎖する。基体往復台６は互いに平行な両方の縦
縁９，９′に形成されたＶ字形の縦溝８．８′でローラ
５．５′…・に接触している。ローラ５，５′…・の上
方の環状縁７，７′には丸味が付けられている。この場
合、基体往復台２の両方の縦縁９，９′の間隔Ａは、互
いに向き合った２つの案内ローラ５，５′の環状縁７，
７′の間の間隔日よりもわずかに大きく選ばれている。
は被覆室２内へ又は被覆室２外へ基体往復台６が走入又
は走出することを可能にし、他方では被覆室２の内部を
圧密に閉鎖する。基体往復台６は互いに平行な両方の縦
縁９，９′に形成されたＶ字形の縦溝８．８′でローラ
５．５′…・に接触している。ローラ５，５′…・の上
方の環状縁７，７′には丸味が付けられている。この場
合、基体往復台２の両方の縦縁９，９′の間隔Ａは、互
いに向き合った２つの案内ローラ５，５′の環状縁７，
７′の間の間隔日よりもわずかに大きく選ばれている。
基体往復台２を矢印Ｃの方向に動かすことはローラ５
、５’ 、 ５“・・・が支承プロソり４ 、４’ 、
４“・・・内に配置された電気モータを介して駆動さ
れることてよって行なわれる。この場合、一方のローラ
列のローラ５，５′…・の回転方向は他方のローラフ１
１のローラ５′、５“の回転方向とは反対である。
、５’ 、 ５“・・・が支承プロソり４ 、４’ 、
４“・・・内に配置された電気モータを介して駆動さ
れることてよって行なわれる。この場合、一方のローラ
列のローラ５，５′…・の回転方向は他方のローラフ１
１のローラ５′、５“の回転方向とは反対である。
第１図に示されているように基体往復台６の下には磁石
１１ 、１１、１３′…が−列に配置されている。これ
らの磁石１１ 、１１、１３′…の磁化方向はそれぞれ
被覆室２の長手方向に対して直角に延びている。磁石列
の内部では隣接する磁石の磁化は非平行である。基体往
復台６が矢印Ｃの方向に運動する間に、基体往復台６の
上に支承された磁石円板１２．１２、１３′…には、磁
石円板１２゜１２′…・と１げス１４ 、 ｌ ４、１
３′…、 ｌ ５ 、 ｌ ５、１３′…を介してこれ
と回転不能に結合された基体円板１３゜１３′…・を矢
印りの方向に回転させる円板電流が形成される。
１１ 、１１、１３′…が−列に配置されている。これ
らの磁石１１ 、１１、１３′…の磁化方向はそれぞれ
被覆室２の長手方向に対して直角に延びている。磁石列
の内部では隣接する磁石の磁化は非平行である。基体往
復台６が矢印Ｃの方向に運動する間に、基体往復台６の
上に支承された磁石円板１２．１２、１３′…には、磁
石円板１２゜１２′…・と１げス１４ 、 ｌ ４、１
３′…、 ｌ ５ 、 ｌ ５、１３′…を介してこれ
と回転不能に結合された基体円板１３゜１３′…・を矢
印りの方向に回転させる円板電流が形成される。
被覆過程の間に、同期的に回転するロー２５゜５′…・
は基体往復台６をゆつくシと矢印Ｃの方向に搬送する。
は基体往復台６をゆつくシと矢印Ｃの方向に搬送する。
この場合には定置の永久磁石１１゜１１′…・で回転さ
せられた磁石円板１２ 、１２、１３′…と共にこれら
に回転不能に支承された基体円板１３ 、１３、１３′
…も駆動される。
せられた磁石円板１２ 、１２、１３′…と共にこれら
に回転不能に支承された基体円板１３ 、１３、１３′
…も駆動される。
前述の装置は、基体円板の上に載置又は固定された工作
物、例えばウェーハ又はコンパクトディスクのすべての
部分が一様な速度で矢印Ｃの方向に被覆室２を通して、
スパツタリングカソード３のそばを移動させられるだけ
ではなく、同時に通過方向Ｃに対して横方向に移動させ
られ、これによって特に一様でかつ回転対称的な層厚さ
が形成されるという利点を有している。
物、例えばウェーハ又はコンパクトディスクのすべての
部分が一様な速度で矢印Ｃの方向に被覆室２を通して、
スパツタリングカソード３のそばを移動させられるだけ
ではなく、同時に通過方向Ｃに対して横方向に移動させ
られ、これによって特に一様でかつ回転対称的な層厚さ
が形成されるという利点を有している。
この装置はきわめて確実にかつ実施において摩耗なく働
く。駆ｉｌ！ｊｉ装置の何らかの部分の潤滑もしくは点
検は不要になる。さらにこの装置はほぼ騒音なしで働く
。何故ならば騒音を発生する歯車伝動装置又は歯付きベ
ルト駆動装置が存在していないからである。被覆過程は
被覆室２の壁に組込まれたのぞき窓を通して正確に監視
することができる。何故ならば磁石列１８は基体往復台
６の下側で磁石保持体２５により保持され、これによっ
て基体に対する自由な見通しが可能であるからである。
く。駆ｉｌ！ｊｉ装置の何らかの部分の潤滑もしくは点
検は不要になる。さらにこの装置はほぼ騒音なしで働く
。何故ならば騒音を発生する歯車伝動装置又は歯付きベ
ルト駆動装置が存在していないからである。被覆過程は
被覆室２の壁に組込まれたのぞき窓を通して正確に監視
することができる。何故ならば磁石列１８は基体往復台
６の下側で磁石保持体２５により保持され、これによっ
て基体に対する自由な見通しが可能であるからである。
本発明の装置の第４図に示された実施例においては、１
つの永久磁石１９が基体往復台６の、カソード３とは反
対側に配置されている。この永久磁石１９はほぼプリズ
ム形の細長い磁石ヨーク２４を有し、この磁石ヨーク２
４には電流の流れる磁石コイル２６が巻付けられ、２つ
のリブ状の磁極シュー２０．２１が設けられている。磁
極シュー２０．２１の内面２２．２３は互いに向き合っ
て形成されている。両方の磁極シュー２０．２１は協働
して細長いギャップ２７を形成しており、このギャップ
２７は基体往復台が矢印Ｃの方向に長手方向に移動する
ときに磁石円板１２ 、１２、１３′…がこのギャップ
２７に沿って走行できるように形成されている。したが
って第４図においては基体往復台６は図平面に対して垂
直方向に移動するように図示されている。唯一の永久磁
石１９０代りに複数の永久磁石が相前後して配置されて
いてもよい。もちろんこの場合には片側の磁極シューは
正確に整合させられ、磁石円板１２．１２、１３′…と
の接触が回避されていなければならない。
つの永久磁石１９が基体往復台６の、カソード３とは反
対側に配置されている。この永久磁石１９はほぼプリズ
ム形の細長い磁石ヨーク２４を有し、この磁石ヨーク２
４には電流の流れる磁石コイル２６が巻付けられ、２つ
のリブ状の磁極シュー２０．２１が設けられている。磁
極シュー２０．２１の内面２２．２３は互いに向き合っ
て形成されている。両方の磁極シュー２０．２１は協働
して細長いギャップ２７を形成しており、このギャップ
２７は基体往復台が矢印Ｃの方向に長手方向に移動する
ときに磁石円板１２ 、１２、１３′…がこのギャップ
２７に沿って走行できるように形成されている。したが
って第４図においては基体往復台６は図平面に対して垂
直方向に移動するように図示されている。唯一の永久磁
石１９０代りに複数の永久磁石が相前後して配置されて
いてもよい。もちろんこの場合には片側の磁極シューは
正確に整合させられ、磁石円板１２．１２、１３′…と
の接触が回避されていなければならない。
図面は本発明の１実施例を示すものであって、第１図は
上方の壁に固定されたス・ぐツタリンダカソードと、カ
ソードの下側でローラの上（Ｃ支承された基体往復台と
、基体往復台と被覆室の下方の壁との間に保持された一
列の永久磁石とを有する被覆室を示した図、第２図は第
１図の基体往復台の１部分２の拡大部分断面図、第３図
は基体往復台の別の１部分の拡大平面図、第４（２）は
磁石ヨークを有し、磁極シューが基体円板のボスに固定
された磁石円板のボスに向き合って配置され、Ｐ、ｉシ
ューの内面が基体往復台の運動方向に対して平行に延び
ている永久磁石を示した図である。 １・・・機械フレーム、２・・・被色室、３・・・ス・
ゼツタリングカソード、４．４’、４“・・・支承ブロ
ック、５ 、５’ 、 ５“・・・冷内ローラ、６・・
・基体往復台、７゜７′…・縁、８．８′…・細溝、９
．９′…・縦線、１１゜１１、１３′…磁石、１２．１
２、１３′…磁石円板、１３．１３′…・基体円板、１
４−、１４’、 １５ 、１５、１３′…ボス、１９・
・・電磁石、２０．２１・・・磁極シュー、２２゜２３
・・・内面、２４・・・磁石ヨーク、２６・・・磁石コ
イル、２７・・・ギャップ。 ＦＩＧ、Ｉ ＦＩＧ、２
上方の壁に固定されたス・ぐツタリンダカソードと、カ
ソードの下側でローラの上（Ｃ支承された基体往復台と
、基体往復台と被覆室の下方の壁との間に保持された一
列の永久磁石とを有する被覆室を示した図、第２図は第
１図の基体往復台の１部分２の拡大部分断面図、第３図
は基体往復台の別の１部分の拡大平面図、第４（２）は
磁石ヨークを有し、磁極シューが基体円板のボスに固定
された磁石円板のボスに向き合って配置され、Ｐ、ｉシ
ューの内面が基体往復台の運動方向に対して平行に延び
ている永久磁石を示した図である。 １・・・機械フレーム、２・・・被色室、３・・・ス・
ゼツタリングカソード、４．４’、４“・・・支承ブロ
ック、５ 、５’ 、 ５“・・・冷内ローラ、６・・
・基体往復台、７゜７′…・縁、８．８′…・細溝、９
．９′…・縦線、１１゜１１、１３′…磁石、１２．１
２、１３′…磁石円板、１３．１３′…・基体円板、１
４−、１４’、 １５ 、１５、１３′…ボス、１９・
・・電磁石、２０．２１・・・磁極シュー、２２゜２３
・・・内面、２４・・・磁石ヨーク、２６・・・磁石コ
イル、２７・・・ギャップ。 ＦＩＧ、Ｉ ＦＩＧ、２
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、基体の上に一様な厚さプロフィールを有する層を製
作するための装置であつて、被覆室と、該被覆室内に定
置に保持されたスパツタリングカソードと、被覆室を通
つて該スパツタリングカソードに対して横方向に運動可
能で、レール内に及び（又は）滑動又は転動体の間に保
持されかつ案内された基体往復台とを有している形式の
ものにおいて、基体往復台（６）の、カソード（３）に
向いた側に単数又は複数の基体円板（１３、１３′…）
が回転可能に支承され、これらの基体円板（１３、１３
′…）の回転軸が基体往復台（６）の運動平面に対して
横方向に配置されており、被覆室（２）内において基体
往復台（６）の、カソード（３）とは反対側に多数の一
列に配置された磁石（１１、１１′…）が定置されてお
り、これらの磁石（１１、１１′…）の磁化方向がそれ
ぞれ基体往復台（６）の運動方向（Ｃ）に対して直角に
延びており、この場合、２つの隣接する磁石（１１、１
１′）の磁化がそれぞれ非平行であり、磁石列（１８）
が基体往復台（６）の運動平面に対して平行な平面内を
延びており、基体円板（１３、１３′…）のボス（１５
、１５′…）の上に固定されかつ磁化方向がボス軸線に
対して直角に延びる磁石円板（１２、１２′…）と協働
していることを特徴とする、基体の上に一様な厚さプロ
フィールを有する層を製作するための装置。 ２、基体の上に一様な厚さプロフィールを有する層を製
作するための装置であつて、被覆室と、該被覆室内に定
置に保持されたスパツタリングカソードと、被覆室を通
つて該スパツタリングカソードに対して横方向に運動可
能で、レール内に及び（又は）滑動又は転動体の間に保
持されかつ案内された基体往復台とを有している形式の
ものにおいて、基体往復台（６）の、カソード（３）に
向いた側に単数又は複数の基体円板（１３、１３′…）
が回転可能に支承され、これらの基体円板（１３、１３
′…）の回転軸が基体往復台（６）の運動平面に対して
横方向に配置されており、被覆室（２）内において基体
往復台（６）の、カソード（３）とは反対側に１つの電
磁石（１９）が定置されており、この電磁石（１９）の
磁石ヨーク（２４）の磁極シュー（２０、２１）が基体
円板（１３、１３′…）のボス（１５、１５′…）にそ
れぞれ固定された、磁化方向がボス軸に対して直角に延
びる磁石板（１２、１２′…）と協働し、磁極シュー（
２０、２１）の互いに向き合つた内面（２２、２３）が
基体往復台（６）の運動方向（Ｃ）に対して平行に配置
されていることを特徴とする、基体の上に一様な厚さプ
ロフィールを有する層を製作するための装置。 ３、基体往復台（６）がほぼ方形のプレートとして構成
され、このプレートの上面に複数の基体円板（１３、１
３′…）が回転可能に支承されており、この場合、所属
の回転軸（１６、１６′…）がそれぞれ基体往復台（６
）の支承孔を通つて下方へ突出しており、かつ磁石列（
１８）の磁石（１１、１１′…）又は電磁石（１９）と
協働する磁石板（１２、１２′…）と回転不能に結合さ
れている、請求項１又は２記載の装置。 ４、各基体円板（１３、１３′…）と所属の各磁石板（
１２、１２′…）との両方がボス（１４、１４′…もし
くは１５、１５′…）を有し、両者が回転軸（１６、１
６′…）を介して回転不能に結合されており、それぞれ
１つのボス対が１つのころがり軸受（１７、１７′…）
と協働しており、該ころがり軸受の保持器が基体往復台
（６）に保持されている、請求項１から３までのいずれ
か１項記載の装置。 ５、基体往復台（６）の運動方向（Ｃ）に沿つて延びる
磁石列（１８）が、磁石板（１２、１２′…）が直接的
にかつ僅かな間隔で個々の磁石（１１、１１′…）のそ
ばを被覆室（２）を通つて移動するときに通過するよう
に配置されている、請求項１、３又は４のいずれか１項
記載の装置。 ６、磁石列（１８）がボス（１５、１５′…）と回転す
る磁石板（１２、１２′…）のすぐ横にかつ基体往復台
（６）のすぐ下にかつ基体往復台（６）に対して平行に
配置されている、請求項１から５までのいずれか１項記
載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3805380.2 | 1988-02-20 | ||
| DE3805380A DE3805380C2 (de) | 1988-02-20 | 1988-02-20 | Vorrichtung zum Herstellen von Schichten mit gleichmäßigem Dickenprofil auf Substraten durch Kathodenzerstäubung |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01255667A true JPH01255667A (ja) | 1989-10-12 |
Family
ID=6347839
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1038511A Pending JPH01255667A (ja) | 1988-02-20 | 1989-02-20 | 基体の上に一様な厚さプロフイールを有する層を製作するための装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4869802A (ja) |
| JP (1) | JPH01255667A (ja) |
| DE (1) | DE3805380C2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU4652993A (en) | 1992-06-26 | 1994-01-24 | Materials Research Corporation | Transport system for wafer processing line |
| US5705044A (en) * | 1995-08-07 | 1998-01-06 | Akashic Memories Corporation | Modular sputtering machine having batch processing and serial thin film sputtering |
| JPH1021586A (ja) * | 1996-07-02 | 1998-01-23 | Sony Corp | Ｄｃスパッタリング装置 |
| US6770146B2 (en) | 2001-02-02 | 2004-08-03 | Mattson Technology, Inc. | Method and system for rotating a semiconductor wafer in processing chambers |
| EP2415898B1 (en) * | 2009-03-02 | 2020-04-29 | Canon Anelva Corporation | Substrate processing device, manufacturing device of magnetic device |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3039952A (en) * | 1959-03-25 | 1962-06-19 | Western Electric Co | Apparatus for depositing films on article surfaces |
| DE3306870A1 (de) * | 1983-02-26 | 1984-08-30 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Vorrichtung zum herstellen von schichten mit rotationssymmetrischem dickenprofil durch katodenzerstaeubung |
| US4650064A (en) * | 1985-09-13 | 1987-03-17 | Comptech, Incorporated | Substrate rotation method and apparatus |
-
1988
- 1988-02-20 DE DE3805380A patent/DE3805380C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-04-05 US US07/177,969 patent/US4869802A/en not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-02-20 JP JP1038511A patent/JPH01255667A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3805380A1 (de) | 1989-08-31 |
| DE3805380C2 (de) | 1995-11-30 |
| US4869802A (en) | 1989-09-26 |
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