JPH0125657B2 - - Google Patents
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- JPH0125657B2 JPH0125657B2 JP13016780A JP13016780A JPH0125657B2 JP H0125657 B2 JPH0125657 B2 JP H0125657B2 JP 13016780 A JP13016780 A JP 13016780A JP 13016780 A JP13016780 A JP 13016780A JP H0125657 B2 JPH0125657 B2 JP H0125657B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- machining
- electrode
- state
- workpiece
- speed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H7/00—Processes or apparatus applicable to both electrical discharge machining and electrochemical machining
- B23H7/26—Apparatus for moving or positioning electrode relatively to workpiece; Mounting of electrode
- B23H7/28—Moving electrode in a plane normal to the feed direction, e.g. orbiting
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電極と被加工物の一方を他方に対し
て押し込まれる方向に送られる動きを与える装置
とともに、上記方向に垂直な方向をもつた動きを
与える装置とを備えた放電加工装置の改良に関す
る。
て押し込まれる方向に送られる動きを与える装置
とともに、上記方向に垂直な方向をもつた動きを
与える装置とを備えた放電加工装置の改良に関す
る。
従来、例えば放電加工装置において、電極が被
加工物に押し込まれる方向に電極と被加工物に相
対的な動きを与え、通常その方向に対して上記電
極と被加工物との距離が一定となるようにサーボ
をとりながら加工を行なつている。ここで、通常
放電加工においては、荒加工の後、同様な形状で
かつ若干寸法の異なる複数の電極を用いて仕上加
工を行なつていた。これは、荒加工においては加
工速度は高いが加工面が荒く、一方仕上加工にお
いては加工面は細かいが加工速度が低く、また電
極と被加工物との側面ギヤツプは仕上加工の方が
狭いことに起因している。そのため、一本の電極
で荒加工から仕上加工まで加工する目的で次のよ
うな装置が提案されている。すなわち、荒加工が
終了した後、電極あるいは被加工物に通常の送り
方向と垂直な要素をもつた動き、例えば公転円運
動を与え、見掛上寸法が大きい電極を用いたと同
様に、荒加工に使用した電極と同一の電極で仕上
加工を行うものである。これは、例えば第1図に
示すようなもので、電極10と被加工物12とを
絶縁液中で対向させ、パルス電流供給装置14よ
り供給されるパルス電流を加工間隙に通電するこ
とにより、被加工物12を加工する。その時、電
極10は、電圧差動回路16、増巾器18からな
るサーボ回路及び該回路の出力信号により駆動さ
れる油圧サーボバルブ20、油圧シリンダ22か
らなるサーボ機構により、被加工物12に対して
押し込まれる方向(Z軸方向)に、例えば加工間
隙の電圧Vdが平均的に基準値Vsと一致するよう
に送り込まれ、加工が進行する。ここで最終所望
深さより少し手前に設定された深さまで荒加工が
終了した後、パルス電流供給装置14の1パルス
のエネルギーを小さくなるように変更し、更に電
極運動制御装置24により既知の方法でサーボモ
ータ26,28を動かし、これによりX−Yクロ
ステーブル30,32に連続した円運動を行なわ
せる。この場合、サーボモータ26,28には位
相がπ/2異なり、振巾は上記荒加工と仕上加工
の側面ギヤツプの差の分に対応する電圧を有する
正弦波を加えればよい。そして、このように電極
10と被加工物12とを相対的に公転円運動させ
ながら再度所望深さまで加工を行なう。この場
合、相対的な公転円運動の直径に当る寸法だけ電
極10の直径が拡大されたのと等価な効果をもつ
ため、先に行なつた荒加工による荒い加工面は除
去されるというものである。ここで、この方法で
第2図に示すような楕円断面を有する電極10を
用いて、それに対応する穴を被加工物12上に加
工する場合に、公転円運動の軌跡の各部分に対し
て被加工物12の除去されるべき量は、電極10
が大きな曲率半径を有している部分では小さな曲
率半径を有している部分に比べて非常に小さい、
そのため、加工が進行するにつれて、その曲率半
径が大きい部分の加工された深さと 曲率半径の
小さな部分の加工された深さとが、第3図に示す
様に大きな差をもつてくる。従つて、このような
装置においては、深穴の加工になると、先に行な
つた荒加工による荒い加工面を充分取り去ること
はできないし、仕上加工の際の電極の到達する深
さが、電極の形状により各部分毎に差ができると
いう大きな欠点を有している。
加工物に押し込まれる方向に電極と被加工物に相
対的な動きを与え、通常その方向に対して上記電
極と被加工物との距離が一定となるようにサーボ
をとりながら加工を行なつている。ここで、通常
放電加工においては、荒加工の後、同様な形状で
かつ若干寸法の異なる複数の電極を用いて仕上加
工を行なつていた。これは、荒加工においては加
工速度は高いが加工面が荒く、一方仕上加工にお
いては加工面は細かいが加工速度が低く、また電
極と被加工物との側面ギヤツプは仕上加工の方が
狭いことに起因している。そのため、一本の電極
で荒加工から仕上加工まで加工する目的で次のよ
うな装置が提案されている。すなわち、荒加工が
終了した後、電極あるいは被加工物に通常の送り
方向と垂直な要素をもつた動き、例えば公転円運
動を与え、見掛上寸法が大きい電極を用いたと同
様に、荒加工に使用した電極と同一の電極で仕上
加工を行うものである。これは、例えば第1図に
示すようなもので、電極10と被加工物12とを
絶縁液中で対向させ、パルス電流供給装置14よ
り供給されるパルス電流を加工間隙に通電するこ
とにより、被加工物12を加工する。その時、電
極10は、電圧差動回路16、増巾器18からな
るサーボ回路及び該回路の出力信号により駆動さ
れる油圧サーボバルブ20、油圧シリンダ22か
らなるサーボ機構により、被加工物12に対して
押し込まれる方向(Z軸方向)に、例えば加工間
隙の電圧Vdが平均的に基準値Vsと一致するよう
に送り込まれ、加工が進行する。ここで最終所望
深さより少し手前に設定された深さまで荒加工が
終了した後、パルス電流供給装置14の1パルス
のエネルギーを小さくなるように変更し、更に電
極運動制御装置24により既知の方法でサーボモ
ータ26,28を動かし、これによりX−Yクロ
ステーブル30,32に連続した円運動を行なわ
せる。この場合、サーボモータ26,28には位
相がπ/2異なり、振巾は上記荒加工と仕上加工
の側面ギヤツプの差の分に対応する電圧を有する
正弦波を加えればよい。そして、このように電極
10と被加工物12とを相対的に公転円運動させ
ながら再度所望深さまで加工を行なう。この場
合、相対的な公転円運動の直径に当る寸法だけ電
極10の直径が拡大されたのと等価な効果をもつ
ため、先に行なつた荒加工による荒い加工面は除
去されるというものである。ここで、この方法で
第2図に示すような楕円断面を有する電極10を
用いて、それに対応する穴を被加工物12上に加
工する場合に、公転円運動の軌跡の各部分に対し
て被加工物12の除去されるべき量は、電極10
が大きな曲率半径を有している部分では小さな曲
率半径を有している部分に比べて非常に小さい、
そのため、加工が進行するにつれて、その曲率半
径が大きい部分の加工された深さと 曲率半径の
小さな部分の加工された深さとが、第3図に示す
様に大きな差をもつてくる。従つて、このような
装置においては、深穴の加工になると、先に行な
つた荒加工による荒い加工面を充分取り去ること
はできないし、仕上加工の際の電極の到達する深
さが、電極の形状により各部分毎に差ができると
いう大きな欠点を有している。
このため、上記欠点を解決する目的で、次のよ
うな加工方法を採用する装置が提案されている。
第4図はこの装置を説明した図である。上記第2
図に示したような加工において、指摘の欠点の要
因は、Z軸からみたX−Y平面上の取代の差異に
よることは明らかであり、これを解決するために
は、X−Yクロステーブル30,32に与える円
運動の半径を最初から所定の取代に相当する量と
せず0から徐々に増加させれば、いかに深い加工
であつても、電極は最初から最深位置にあり、こ
の状態から拡大していくことになり、第3図に示
したような状況は起こりえない。すなわち、第4
図に示す螺線円は、上記方法による電極10と被
加工物12との相対移動軌跡を示した図で、1周
毎の取代増加量を公転円運動の拡大値ΔRとして
示している。ΔRをきわめて小さくすれば、毎回
当りの取代がきわめて小さくなり、加工エネルギ
に余裕があるということは加工能力以下で加工が
進行することであり、当然のことながら加工時間
は長くかかり、加工能率は低下する。これを防ぐ
ためにΔRを大きくすれば、取代が増すことにな
り、加工能力以上の取代の場合には、やはり前述
の第3図に示されたような状況が発生して不具合
である。従つて、加工状態に応じた取代増加量
ΔRの調整を随時行なう必要がある。また、この
ような加工方法においては、公転円運動による加
工間隙の開離・短縮を利用した加工粉、スラツジ
の排出作用が期待され、短絡等により加工状態が
悪化した際には加工間隙の開離巾を拡大し公転速
度を高め加工粉、スラツジ等の排出を早める必要
がある。しかし、あまり公転速度を上げると、装
置の制御系への追従が困難となり加工精度が悪化
するので、単純に速度を上げるのは好ましくな
い。
うな加工方法を採用する装置が提案されている。
第4図はこの装置を説明した図である。上記第2
図に示したような加工において、指摘の欠点の要
因は、Z軸からみたX−Y平面上の取代の差異に
よることは明らかであり、これを解決するために
は、X−Yクロステーブル30,32に与える円
運動の半径を最初から所定の取代に相当する量と
せず0から徐々に増加させれば、いかに深い加工
であつても、電極は最初から最深位置にあり、こ
の状態から拡大していくことになり、第3図に示
したような状況は起こりえない。すなわち、第4
図に示す螺線円は、上記方法による電極10と被
加工物12との相対移動軌跡を示した図で、1周
毎の取代増加量を公転円運動の拡大値ΔRとして
示している。ΔRをきわめて小さくすれば、毎回
当りの取代がきわめて小さくなり、加工エネルギ
に余裕があるということは加工能力以下で加工が
進行することであり、当然のことながら加工時間
は長くかかり、加工能率は低下する。これを防ぐ
ためにΔRを大きくすれば、取代が増すことにな
り、加工能力以上の取代の場合には、やはり前述
の第3図に示されたような状況が発生して不具合
である。従つて、加工状態に応じた取代増加量
ΔRの調整を随時行なう必要がある。また、この
ような加工方法においては、公転円運動による加
工間隙の開離・短縮を利用した加工粉、スラツジ
の排出作用が期待され、短絡等により加工状態が
悪化した際には加工間隙の開離巾を拡大し公転速
度を高め加工粉、スラツジ等の排出を早める必要
がある。しかし、あまり公転速度を上げると、装
置の制御系への追従が困難となり加工精度が悪化
するので、単純に速度を上げるのは好ましくな
い。
本発明は、前述した従来の課題に鑑みなされた
ものであり、その目的は、電極と被加工物の一方
を他方に対し公転的に運動させる際、加工状態に
応じて加工間隙の開離巾を適切に制御し1周毎の
取代増加量ΔRを最適に制御するとともに公転速
度を最適に制御することにより、能率よく良好な
加工を行なうことができ、加工状態が悪化した際
には、加工精度に影響を与えることなく加工粉、
スラツジ等を効果的に排出することができる放電
加工装置を提供することにある。
ものであり、その目的は、電極と被加工物の一方
を他方に対し公転的に運動させる際、加工状態に
応じて加工間隙の開離巾を適切に制御し1周毎の
取代増加量ΔRを最適に制御するとともに公転速
度を最適に制御することにより、能率よく良好な
加工を行なうことができ、加工状態が悪化した際
には、加工精度に影響を与えることなく加工粉、
スラツジ等を効果的に排出することができる放電
加工装置を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明は、電極と
被加工物の一方を他方に対して略公転運動させる
とともにその運動経路を所定量づつ次第に拡大ま
たは縮小させ加工間隙の開離巾を制御しつつ放電
加工を行う放電加工装置において、上記電極−被
加工物間の検出電圧から開離巾を検出し上記公転
運動中に上記電極が上記被加工物に対し加工可能
状態にあるか加工不可能状態にあるかあるいは加
工悪化状態にあるかを検出する判別装置と、上記
加工間隙の開離巾を減少させる縮小の速さが少な
くとも2種設定されるとともに上記開離巾を増加
させる拡大の速さが少なくとも1種設定され、上
記判別装置が加工可能状態を検出した際には上記
縮小の速さの小さい方を選択し加工不可能状態を
検出した際には大きい方を選択し加工悪化状態を
検出した際には上記拡大の速さを選択して主加工
送りに対し略垂直な平面に沿つた上記公転運動の
経路の拡大または縮小を制御する運動経路決定装
置と、上記公転運動の公転速度が少なくとも2種
設定され上記判別装置が加工悪化状態を検出した
際には早い方の公転速度を選択しこれ以外の状態
を検出した際には遅い方の公転速度を選択して上
記公転運動の公転速度を制御する公転速度決定装
置とを備えたことを特徴とする。
被加工物の一方を他方に対して略公転運動させる
とともにその運動経路を所定量づつ次第に拡大ま
たは縮小させ加工間隙の開離巾を制御しつつ放電
加工を行う放電加工装置において、上記電極−被
加工物間の検出電圧から開離巾を検出し上記公転
運動中に上記電極が上記被加工物に対し加工可能
状態にあるか加工不可能状態にあるかあるいは加
工悪化状態にあるかを検出する判別装置と、上記
加工間隙の開離巾を減少させる縮小の速さが少な
くとも2種設定されるとともに上記開離巾を増加
させる拡大の速さが少なくとも1種設定され、上
記判別装置が加工可能状態を検出した際には上記
縮小の速さの小さい方を選択し加工不可能状態を
検出した際には大きい方を選択し加工悪化状態を
検出した際には上記拡大の速さを選択して主加工
送りに対し略垂直な平面に沿つた上記公転運動の
経路の拡大または縮小を制御する運動経路決定装
置と、上記公転運動の公転速度が少なくとも2種
設定され上記判別装置が加工悪化状態を検出した
際には早い方の公転速度を選択しこれ以外の状態
を検出した際には遅い方の公転速度を選択して上
記公転運動の公転速度を制御する公転速度決定装
置とを備えたことを特徴とする。
次に、本発明の好適な実施例を、図面に基づき
説明する。なお、前述した従来装置と対応する箇
所には同一符号を付しその説明は省略する。
説明する。なお、前述した従来装置と対応する箇
所には同一符号を付しその説明は省略する。
第5図には、本発明の放電加工装置の実施例が
示されている。
示されている。
ここにおいて、電極運動制御装置24からの信
号により、サーボモータ26,28を駆動するこ
とにより、X−Yクロステーブル30,32を動
作させ、電極10と被加工物12との間に相対的
に公転円運動を与えることは、第1図に示す従来
装置と同様である。34は差動トランスである。
この差動トランス34は、そのコイル部分が機械
の固定側に固定され、その可動鉄芯が電極10と
同様な動きをするよう構成され、電極10の高
さ、すなわちZ軸方向の位置が検出される。ま
た、36は例えば特公昭53−32112号公報の第1
図12と同様の回路で、加工間隙の電圧Vdと基
準電圧Vsとの差電圧Vd−Vsと、差動トランス3
4の出力とのうち、低い方を優先的に選択するた
めの比較選択回路である。ここで、比較選択回路
36の動作は、上記特公昭53−32112号公報中に
詳述してある如く、機械の固定側に固定された差
動トランス34のコイル部の位置をあらかじめ設
定しておけば、電極10がその設定位置より上に
ある場合には加工間隙での電圧Vdと基準電圧Vs
との差電圧Vd−Vsに従い電極10の位置は制御
され、また電極10が上記設定位置まで下降する
と差動トランス34の出力が優先的に選択される
こととなり、サーボバルブ20と油圧シリンダ2
2からなるサーボ機構によつてその位置以下に
は、電極10が降下しないように制御される。
号により、サーボモータ26,28を駆動するこ
とにより、X−Yクロステーブル30,32を動
作させ、電極10と被加工物12との間に相対的
に公転円運動を与えることは、第1図に示す従来
装置と同様である。34は差動トランスである。
この差動トランス34は、そのコイル部分が機械
の固定側に固定され、その可動鉄芯が電極10と
同様な動きをするよう構成され、電極10の高
さ、すなわちZ軸方向の位置が検出される。ま
た、36は例えば特公昭53−32112号公報の第1
図12と同様の回路で、加工間隙の電圧Vdと基
準電圧Vsとの差電圧Vd−Vsと、差動トランス3
4の出力とのうち、低い方を優先的に選択するた
めの比較選択回路である。ここで、比較選択回路
36の動作は、上記特公昭53−32112号公報中に
詳述してある如く、機械の固定側に固定された差
動トランス34のコイル部の位置をあらかじめ設
定しておけば、電極10がその設定位置より上に
ある場合には加工間隙での電圧Vdと基準電圧Vs
との差電圧Vd−Vsに従い電極10の位置は制御
され、また電極10が上記設定位置まで下降する
と差動トランス34の出力が優先的に選択される
こととなり、サーボバルブ20と油圧シリンダ2
2からなるサーボ機構によつてその位置以下に
は、電極10が降下しないように制御される。
第6図は、X−Yクロステーブル30,32の
制御装置24の説明図である。ここにおいて、4
0は2相発振器であり、90゜位相の異なる正弦波
eX、eYを出力している。42は極間電圧検出信号
Vdに基づいて上記eX、eYの出力を制御し、所望
の偏芯半径に相当する電圧EX、EYを取り出すた
めの制御回路である。該EX、EYの電圧は加算点
44,46にそれぞれ印加され、この加算点出力
はモータ駆動増巾器47,48で増巾されX、Y
軸モータ26,28を動かす。X−Yクロステー
ブル30,32には直線ポテンジヨメータRX,
RYがはられており、電極10のX−Y平面にお
ける位置検出に用いられている。上記直線ポテン
ジヨメータRX,RYの出力電圧は、前述の加算点
44,46にフイードバツクされるので、加算点
44,46の出力電圧が0になるまでモータ2
6,28が動き、テーブル位置は前記制御回路4
2の出力EX、EYに等しくなるように制御される。
制御装置24の説明図である。ここにおいて、4
0は2相発振器であり、90゜位相の異なる正弦波
eX、eYを出力している。42は極間電圧検出信号
Vdに基づいて上記eX、eYの出力を制御し、所望
の偏芯半径に相当する電圧EX、EYを取り出すた
めの制御回路である。該EX、EYの電圧は加算点
44,46にそれぞれ印加され、この加算点出力
はモータ駆動増巾器47,48で増巾されX、Y
軸モータ26,28を動かす。X−Yクロステー
ブル30,32には直線ポテンジヨメータRX,
RYがはられており、電極10のX−Y平面にお
ける位置検出に用いられている。上記直線ポテン
ジヨメータRX,RYの出力電圧は、前述の加算点
44,46にフイードバツクされるので、加算点
44,46の出力電圧が0になるまでモータ2
6,28が動き、テーブル位置は前記制御回路4
2の出力EX、EYに等しくなるように制御される。
第7図は、前記2相発振器40の詳細説明図で
ある。この2相発振器40は、オペアンプQ1、
抵抗R、コンデンサCで構成される積分回路と、
オペアンプQ2、抵抗R、コンデンサC、電圧制
御用ツエナダイオードZD1,ZD2で構成される
制限反転積分器とを、次の微分方程式を与えるフ
イードバツクループの中でカスケード接続して形
成されている。
ある。この2相発振器40は、オペアンプQ1、
抵抗R、コンデンサCで構成される積分回路と、
オペアンプQ2、抵抗R、コンデンサC、電圧制
御用ツエナダイオードZD1,ZD2で構成される
制限反転積分器とを、次の微分方程式を与えるフ
イードバツクループの中でカスケード接続して形
成されている。
RCd/dteX=eY ……(1)
RCd/dteY=−eX ……(2)
そして、該回路において時定数R1C1は故意に
RCより大きく設定され、回路を若干不安定にし
ている。また、電圧制限用ツエナダイオードZD
1,ZD2はeX、eYの波形が歪むことを防止して
振巾を安定化する。そして、このようにして得ら
れる2つの出力eX、eYは90゜位相が異なり、次式
で表わされる。
RCより大きく設定され、回路を若干不安定にし
ている。また、電圧制限用ツエナダイオードZD
1,ZD2はeX、eYの波形が歪むことを防止して
振巾を安定化する。そして、このようにして得ら
れる2つの出力eX、eYは90゜位相が異なり、次式
で表わされる。
eX=Esin t/RC ……(3)
eY=Ecos t/RC ……(4)
ここにおいて、Eは電圧制限用ツエナダイオー
ドZD1,ZD2の電圧である。また、該回路には
周波数の設定のため、抵抗Rの両端に外付の端子
が設けられ、この外付端子に外部抵抗50,52
が接続されている。そして、この外部抵抗50,
52の抵抗値を設整することにより、外部から周
波数制御を行うことができる。なお、本実施例に
おいて、この外部抵抗50,52には光導電セル
が用いられており、外部からの光により上記周波
数の制御は行なわれる。
ドZD1,ZD2の電圧である。また、該回路には
周波数の設定のため、抵抗Rの両端に外付の端子
が設けられ、この外付端子に外部抵抗50,52
が接続されている。そして、この外部抵抗50,
52の抵抗値を設整することにより、外部から周
波数制御を行うことができる。なお、本実施例に
おいて、この外部抵抗50,52には光導電セル
が用いられており、外部からの光により上記周波
数の制御は行なわれる。
第8図は、制御回路42の詳細説明図である。
一般に、電極10と被加工物12との間で順調に
放電加工が行なわれている間は、極間電圧検出信
号V′dは一定の範囲内にある。そして、放電間隙
の開離巾が増大するにつれ上記信号V′dは大きく
なり、放電間隙の開離巾が一定以上になると良好
な放電が不可能な状態となる。このときの検出信
号を加工可能電圧V1と規定する。また、放電加
工の途中で短絡が生ずると、上記検出信号V′dは
低下し一定値以下となる。このときの検出信号を
短絡検出電圧V2と規定する。すると、上記加工
可能電圧V1と短絡検出電圧V2とをあらかじめ設
定しておき、これと検出信号V′dとを比較するこ
とにより、放電加工が適正になされているか否か
を判別することができる。まず、検出信号V′dは
コンパレータ60において加工可能電圧V1と比
較され、電圧V1よりも検出信号V′dが大きければ
電極10と被加工物12との間隙長は放電がなさ
れない程度まで広がつている加工不可能状態と判
別される。そしてコンパレータ60は論理レベル
“0”を出力し、ANDゲート62のゲートは閉
じられ、反転器64を介して接続されたANDゲ
ート66は開かれる。これらANDゲート62,
66には、発振器68による一定時間毎のクロツ
クパルスCPあるいは前記2相発振器40の出力
の発振周期に同期したクロツクパルスCPが印加
されており、このため加工不可能状態の時は第1
のカウンタ70の加算入力端子にこのクロツクパ
ルスCPがORゲート72を介して入力される。ま
た、検出信号V′dが加工可能電圧V1より低い時、
間隙長は充分に放電し得る距離であり、加工可能
状態と判断される。このとき、コンパレータ60
は論理レベル“1”を出力し、ANDゲート62
は開き、第2のカウンタ74の加算入力端子にク
ロツクパルスCPが入力される。これらカウンタ
70,74はカスケードに接続されており、カウ
ンタ74でカウントされた出力がカウンタ70で
更にカウントされる。また、検出信号V′dはコン
パレータ76において短絡検出電圧V2と比較さ
れる。そして、検出信号V′dが短絡検出電圧V2に
より低下すると、短絡現象等の加工悪化状態が生
じたと判別され、コンパレータ76は論理レベル
0を出力し、ANDゲート62,66を閉じると
ともに、反転器76aを介してANDゲート76
bを開く、このANDゲート76bには前述した
と同様なクロツクパルスCPが印加されており、
このため加工悪化状態にあるときには、このクロ
ツクパルスがこのANDゲートを介して第2のカ
ウンタ70の減算入力端子Uに入力される。この
ようにして、電極10が被加工物12に対し加工
可能状態にあるか否かを判別するとともに加工状
態が悪化しているか否かをも判別する判別装置が
構成される。なお、上記回路構成でも明らかな如
く、加工可能状態にあるときにはANDゲート6
2のみが開かれ、第1および第2のカウンタ7
0,74の出力はクロツクパルスCP1つに対し
て、1単位づつカウントアツプされていく。また
加工不可能状態にあるときにはANDゲート66
のみが開かれ、70,74の出力はクロツクパル
スCP1つに対して4単位ずつカウントアツプされ
ていく。また、加工悪化状態にあるときには、
ANDゲート76bのみが開かれてカウンタ70,
74の出力は、クロツクパルスCP1つに対応して
4単位ずつカウントダウンされていく。
一般に、電極10と被加工物12との間で順調に
放電加工が行なわれている間は、極間電圧検出信
号V′dは一定の範囲内にある。そして、放電間隙
の開離巾が増大するにつれ上記信号V′dは大きく
なり、放電間隙の開離巾が一定以上になると良好
な放電が不可能な状態となる。このときの検出信
号を加工可能電圧V1と規定する。また、放電加
工の途中で短絡が生ずると、上記検出信号V′dは
低下し一定値以下となる。このときの検出信号を
短絡検出電圧V2と規定する。すると、上記加工
可能電圧V1と短絡検出電圧V2とをあらかじめ設
定しておき、これと検出信号V′dとを比較するこ
とにより、放電加工が適正になされているか否か
を判別することができる。まず、検出信号V′dは
コンパレータ60において加工可能電圧V1と比
較され、電圧V1よりも検出信号V′dが大きければ
電極10と被加工物12との間隙長は放電がなさ
れない程度まで広がつている加工不可能状態と判
別される。そしてコンパレータ60は論理レベル
“0”を出力し、ANDゲート62のゲートは閉
じられ、反転器64を介して接続されたANDゲ
ート66は開かれる。これらANDゲート62,
66には、発振器68による一定時間毎のクロツ
クパルスCPあるいは前記2相発振器40の出力
の発振周期に同期したクロツクパルスCPが印加
されており、このため加工不可能状態の時は第1
のカウンタ70の加算入力端子にこのクロツクパ
ルスCPがORゲート72を介して入力される。ま
た、検出信号V′dが加工可能電圧V1より低い時、
間隙長は充分に放電し得る距離であり、加工可能
状態と判断される。このとき、コンパレータ60
は論理レベル“1”を出力し、ANDゲート62
は開き、第2のカウンタ74の加算入力端子にク
ロツクパルスCPが入力される。これらカウンタ
70,74はカスケードに接続されており、カウ
ンタ74でカウントされた出力がカウンタ70で
更にカウントされる。また、検出信号V′dはコン
パレータ76において短絡検出電圧V2と比較さ
れる。そして、検出信号V′dが短絡検出電圧V2に
より低下すると、短絡現象等の加工悪化状態が生
じたと判別され、コンパレータ76は論理レベル
0を出力し、ANDゲート62,66を閉じると
ともに、反転器76aを介してANDゲート76
bを開く、このANDゲート76bには前述した
と同様なクロツクパルスCPが印加されており、
このため加工悪化状態にあるときには、このクロ
ツクパルスがこのANDゲートを介して第2のカ
ウンタ70の減算入力端子Uに入力される。この
ようにして、電極10が被加工物12に対し加工
可能状態にあるか否かを判別するとともに加工状
態が悪化しているか否かをも判別する判別装置が
構成される。なお、上記回路構成でも明らかな如
く、加工可能状態にあるときにはANDゲート6
2のみが開かれ、第1および第2のカウンタ7
0,74の出力はクロツクパルスCP1つに対し
て、1単位づつカウントアツプされていく。また
加工不可能状態にあるときにはANDゲート66
のみが開かれ、70,74の出力はクロツクパル
スCP1つに対して4単位ずつカウントアツプされ
ていく。また、加工悪化状態にあるときには、
ANDゲート76bのみが開かれてカウンタ70,
74の出力は、クロツクパルスCP1つに対応して
4単位ずつカウントダウンされていく。
即ち、発振器68によるクロツクパルスCPに
応じて所定単位づつカウントアツプ又はダウンさ
れ、電極10の公転半径の拡大または縮小の速さ
が決まることになり、2相発振器40の出力の発
振周期に同期したクロツクパルスCPの場合は、
電極10の公転半径の拡大値または縮小値が決ま
ることになる。また、上記カウンタ70,74の
出力は、乗算型DAコンバータ78X,78Yに
入力され、前記2相発振器40の出力eX、eYの値
とカウンタ70,74の計数値との乗算が行なわ
れ、その乗算値のアナログ量がEX、EYとして出
力される。このような乗算型DAコンバータとし
ては、米国アナログデバイス社のAD7520などが
公知である。以上の構成によつて、乗算型ADコ
ンバータ78X,78Yの出力EX、EYのピーク
値は、加工可能状態においてクロツクパルスCP
の入力に応じ1単位づつわずかに増加し、また加
工間隙が広く加工不可能状態においてはクロツク
パルスCPの入力に応じ4単位づつ増加する。ま
た、短絡等の加工悪化状態が検出された場合に
は、上記出力EX、EYのピーク値は、クロツクパ
ルスCPの入力に応じ4単位づつ減少する。この
ように、乗算型ADコンバータ78X,78Yは
カウンタ70,74とともに運動経路決定装置と
して機能する。
応じて所定単位づつカウントアツプ又はダウンさ
れ、電極10の公転半径の拡大または縮小の速さ
が決まることになり、2相発振器40の出力の発
振周期に同期したクロツクパルスCPの場合は、
電極10の公転半径の拡大値または縮小値が決ま
ることになる。また、上記カウンタ70,74の
出力は、乗算型DAコンバータ78X,78Yに
入力され、前記2相発振器40の出力eX、eYの値
とカウンタ70,74の計数値との乗算が行なわ
れ、その乗算値のアナログ量がEX、EYとして出
力される。このような乗算型DAコンバータとし
ては、米国アナログデバイス社のAD7520などが
公知である。以上の構成によつて、乗算型ADコ
ンバータ78X,78Yの出力EX、EYのピーク
値は、加工可能状態においてクロツクパルスCP
の入力に応じ1単位づつわずかに増加し、また加
工間隙が広く加工不可能状態においてはクロツク
パルスCPの入力に応じ4単位づつ増加する。ま
た、短絡等の加工悪化状態が検出された場合に
は、上記出力EX、EYのピーク値は、クロツクパ
ルスCPの入力に応じ4単位づつ減少する。この
ように、乗算型ADコンバータ78X,78Yは
カウンタ70,74とともに運動経路決定装置と
して機能する。
また、検出信号V′dの低い状態が、抵抗80お
よびコンデンサ82で構成される一次遅れ時定数
より長く続く場合には、コンパレータ76は論理
レベル“0”を出力し続けるため、コンデンサ8
2の電荷は抵抗80を介して放電され、コンデン
サ82のチヤージ電圧は基準電圧V3より低下す
る。これにより、コンパレータ84は論理レベル
“1”を出力し、トランジスタ88をオンしてラ
ンプ86を点灯する。このランプ86は密閉ケー
ス90の中で均質に前記光導電セル50,52を
照射しその抵抗値を低下させ、その結果前記2相
発振器40の出力eX、eYの発振周波数を高める。
このようにして、抵抗80、コンデンサ82、コ
ンパレータ84、ランプ86、トランジスタ8
8、光導電セル50,52は公転速度決定装置と
して機能する。
よびコンデンサ82で構成される一次遅れ時定数
より長く続く場合には、コンパレータ76は論理
レベル“0”を出力し続けるため、コンデンサ8
2の電荷は抵抗80を介して放電され、コンデン
サ82のチヤージ電圧は基準電圧V3より低下す
る。これにより、コンパレータ84は論理レベル
“1”を出力し、トランジスタ88をオンしてラ
ンプ86を点灯する。このランプ86は密閉ケー
ス90の中で均質に前記光導電セル50,52を
照射しその抵抗値を低下させ、その結果前記2相
発振器40の出力eX、eYの発振周波数を高める。
このようにして、抵抗80、コンデンサ82、コ
ンパレータ84、ランプ86、トランジスタ8
8、光導電セル50,52は公転速度決定装置と
して機能する。
本発明の実施例は以上の構成からなり、以下に
その作用を、電極10を用いて被加工物12に穴
を加工する場合を例に採り説明する。
その作用を、電極10を用いて被加工物12に穴
を加工する場合を例に採り説明する。
まず、所定の加工位置において、電極10が被
加工物12に向け垂直に下降するようサーボ機
構、すなわち油圧サーボバルブ20および油圧シ
リンダ22が駆動され、荒加工工程が開始され
る。ここにおいて、電極10と被加工物12との
間の加工電圧Vdが常に良好な放電加工を行ない
うる範囲内にあるようサーボ機構は次のように制
御される。まず、加工電圧Vdが低下して短絡等
の危険があるときには、当然に比較選択回路36
に入力される電圧Vdも低下し、この回路36お
よび増巾器18を介して油圧サーボバルブ20に
入力される電圧Vd−Vsも低下する。これによ
り、電極10の下降速度は減少され、電極10と
被加工物12との加工間隙は広くなり、良好な放
電加工が行なわれる程度にまで制御される。そし
て、短絡等の危険が解消されると電圧Vdも上昇
し適正に放電加工を行ない得る値に復帰するた
め、電極10の下降速度は増加する。また、何ら
かの原因で加工間隙が広くなりすぎ放電不能とな
つた場合には、加工電圧Vdが上昇し油圧サーボ
バルブ20に入力される電圧Vd−Vsは増加す
る。これにより、電極10の下降速度は早めら
れ、上記加工間隙は良好な放電加工を開始する程
度にまでせばめられるよう制御される。そして良
好な放電加工が開始されると、加工電圧Vdは低
下し、電極10の下降速度は減少する。このよう
にして、電極10と被加工物12との加工間隙は
常に最適の状態に維持されつつ放電加工は進行す
る。そして、電極10が一定の深さに達すると、
差動トランス34がこれを検出する。すると、差
動トランス34の出力は、前記Vd−Vsの値を下
まわり、比較選択回路36はこの差動トランス3
4の出力を選択する。これにより、増巾器18を
介してサーボバルブ20に与えられる入力は0と
なり、電極10の下降は停止される。以上によ
り、荒加工工程は終了する。
加工物12に向け垂直に下降するようサーボ機
構、すなわち油圧サーボバルブ20および油圧シ
リンダ22が駆動され、荒加工工程が開始され
る。ここにおいて、電極10と被加工物12との
間の加工電圧Vdが常に良好な放電加工を行ない
うる範囲内にあるようサーボ機構は次のように制
御される。まず、加工電圧Vdが低下して短絡等
の危険があるときには、当然に比較選択回路36
に入力される電圧Vdも低下し、この回路36お
よび増巾器18を介して油圧サーボバルブ20に
入力される電圧Vd−Vsも低下する。これによ
り、電極10の下降速度は減少され、電極10と
被加工物12との加工間隙は広くなり、良好な放
電加工が行なわれる程度にまで制御される。そし
て、短絡等の危険が解消されると電圧Vdも上昇
し適正に放電加工を行ない得る値に復帰するた
め、電極10の下降速度は増加する。また、何ら
かの原因で加工間隙が広くなりすぎ放電不能とな
つた場合には、加工電圧Vdが上昇し油圧サーボ
バルブ20に入力される電圧Vd−Vsは増加す
る。これにより、電極10の下降速度は早めら
れ、上記加工間隙は良好な放電加工を開始する程
度にまでせばめられるよう制御される。そして良
好な放電加工が開始されると、加工電圧Vdは低
下し、電極10の下降速度は減少する。このよう
にして、電極10と被加工物12との加工間隙は
常に最適の状態に維持されつつ放電加工は進行す
る。そして、電極10が一定の深さに達すると、
差動トランス34がこれを検出する。すると、差
動トランス34の出力は、前記Vd−Vsの値を下
まわり、比較選択回路36はこの差動トランス3
4の出力を選択する。これにより、増巾器18を
介してサーボバルブ20に与えられる入力は0と
なり、電極10の下降は停止される。以上によ
り、荒加工工程は終了する。
そして、この荒加工工程の終了と同時に、パル
ス電流供給装置14の1パルス当りのエネルギを
小さく制御し、電極運動制御装置24によりX−
Yクロステーブル30,32に連続した公転円運
動を与える仕上加工工程が開始される。ここにお
いて、X−Yクロステーブル30,32に与えら
れる公転円運動の半径は、第4図に示す如く0か
ら徐々にΔRづつ増加していくよう制御される。
そして、この増加量ΔRは、装置の加工能力の範
囲内でかつその加工能率が最大となるよう制御さ
れる。 まず、2相発振器40から90゜位相が異
なる正弦波eX、eYが出力される。この出力eX、eY
は制御回路42の乗算型DAコンバータ78X,
78Yにおいてカウンタ70,74の出力と乗算
され、サーボモータ26,28の駆動電圧EX、
EYとして出力される。そして、この出力EX、EY
の電圧ピーク値によりX−Yクロステーブル3
0,32の公転円運動の半径、すなわち電極10
の被加工物12に対する公転円運動の半径が与え
られる。 ここにおいて、上記公転円運動の半径
は次のように漸次増加していく。まず、仕上加工
の開始時にあつては、カウンタ70,74の出力
は0であるため、乗算型DAコンバータ78X,
78Yの出力EX、EYも0である。従つて、公転
円運動は半径が0の地点から開始される。そし
て、加工電圧検出信号V′dが、V1>V′d>V2の範
囲にあるときには、放電加工が良好に行なわれて
いる加工可能状態にあるとコンパレータ60,7
6で判断される。そして、コンパレータ60,7
6はともに論理レベル“1”を出力し、ANDゲ
ート62は開かれ、このANDゲート62を介し
てカウンタ74,70はクロツクパルスCPのカ
ウントを開始する。すると、乗算型ADコンバー
タ78X,78Yは、カウンタ70,74に入力
されるクロツクパルスCPに応じ1単位づつEX、
EYのピーク値を増加させ、公転円運動の半径も
漸次ΔR1づつ増加する。 また、加工電圧検出信
号V′dが、V′d>V1の範囲にあるときには、加工
間隙が広すぎ放電が良好に行なわれていない加工
不可能状態にあるとコンパレータ60で判断され
る。そして、コンパレータ60は論理レベル
“0”を出力し、ANDゲート62を閉じ、AND
ゲート66を開き、カウンタ70に直接クロツク
パルスCPのカウントを行なわせる。すると、図
面からも明らかな如く、カウンタ70,74は前
記加工可能状態にあるときに比し、1つのクロツ
クパルスCPを4倍の割合でカウントしていく。
従つて、乗算型DAコンバータ78X,78Y
は、カウンタ70,74に入力されるクロツクパ
ルスCPに応じ4単位づつEX、EYのピーク値を増
加させ、電極10の公転円運動の半径は、前記加
工可能状態にあるとき比し4倍の増加量ΔR2
(ΔR2=4ΔR1)をもつて漸次増加する。これによ
り、電極10と被加工物12との加工間隙は放電
加工が可能となる範囲まで急速に狭まる。そし
て、加工可能状態に入ると加工電圧検出信号V′d
はV1>V′dとなり、前述した加工可能状態の動作
に切替わる。
ス電流供給装置14の1パルス当りのエネルギを
小さく制御し、電極運動制御装置24によりX−
Yクロステーブル30,32に連続した公転円運
動を与える仕上加工工程が開始される。ここにお
いて、X−Yクロステーブル30,32に与えら
れる公転円運動の半径は、第4図に示す如く0か
ら徐々にΔRづつ増加していくよう制御される。
そして、この増加量ΔRは、装置の加工能力の範
囲内でかつその加工能率が最大となるよう制御さ
れる。 まず、2相発振器40から90゜位相が異
なる正弦波eX、eYが出力される。この出力eX、eY
は制御回路42の乗算型DAコンバータ78X,
78Yにおいてカウンタ70,74の出力と乗算
され、サーボモータ26,28の駆動電圧EX、
EYとして出力される。そして、この出力EX、EY
の電圧ピーク値によりX−Yクロステーブル3
0,32の公転円運動の半径、すなわち電極10
の被加工物12に対する公転円運動の半径が与え
られる。 ここにおいて、上記公転円運動の半径
は次のように漸次増加していく。まず、仕上加工
の開始時にあつては、カウンタ70,74の出力
は0であるため、乗算型DAコンバータ78X,
78Yの出力EX、EYも0である。従つて、公転
円運動は半径が0の地点から開始される。そし
て、加工電圧検出信号V′dが、V1>V′d>V2の範
囲にあるときには、放電加工が良好に行なわれて
いる加工可能状態にあるとコンパレータ60,7
6で判断される。そして、コンパレータ60,7
6はともに論理レベル“1”を出力し、ANDゲ
ート62は開かれ、このANDゲート62を介し
てカウンタ74,70はクロツクパルスCPのカ
ウントを開始する。すると、乗算型ADコンバー
タ78X,78Yは、カウンタ70,74に入力
されるクロツクパルスCPに応じ1単位づつEX、
EYのピーク値を増加させ、公転円運動の半径も
漸次ΔR1づつ増加する。 また、加工電圧検出信
号V′dが、V′d>V1の範囲にあるときには、加工
間隙が広すぎ放電が良好に行なわれていない加工
不可能状態にあるとコンパレータ60で判断され
る。そして、コンパレータ60は論理レベル
“0”を出力し、ANDゲート62を閉じ、AND
ゲート66を開き、カウンタ70に直接クロツク
パルスCPのカウントを行なわせる。すると、図
面からも明らかな如く、カウンタ70,74は前
記加工可能状態にあるときに比し、1つのクロツ
クパルスCPを4倍の割合でカウントしていく。
従つて、乗算型DAコンバータ78X,78Y
は、カウンタ70,74に入力されるクロツクパ
ルスCPに応じ4単位づつEX、EYのピーク値を増
加させ、電極10の公転円運動の半径は、前記加
工可能状態にあるとき比し4倍の増加量ΔR2
(ΔR2=4ΔR1)をもつて漸次増加する。これによ
り、電極10と被加工物12との加工間隙は放電
加工が可能となる範囲まで急速に狭まる。そし
て、加工可能状態に入ると加工電圧検出信号V′d
はV1>V′dとなり、前述した加工可能状態の動作
に切替わる。
また、例えば加工間隙が狭すぎる等の理由によ
り電極10と被加工物12との間に短絡が生じる
と、検出信号V′dはV2>V′dとなりコンパレータ
76で検出され、コンパレータ76は論理レベル
“0”を出力する。すると、ANDゲート62,
66は閉じられANDゲート76bが開かれる。
これにより、カウンタ70,74の出力はクロツ
クパルスCPの入力に応じ4単位づつEX、EYのピ
ーク値を減少させ、電極10の公転円運動の半径
は漸次ΔR2づつ減少される。このようにして、加
工間隙が充分に開離し短絡が自然に除去されると
加工電圧検出信号V′dはV′d>V2に復帰し、前述
した加工可能状態あるいは加工不可能状態の動作
に切替わる。また、加工間隙が充分に開離したに
もかかわらず上記短絡が持続すると、抵抗80を
介してコンデンサ82の電荷の放電がすすみ、コ
ンデンサ82のチヤージ電圧が設定電圧V3より
低下する。すると、コンパレータ84は論理レベ
ル“1”を出力しトランジスタ88をオンしてラ
ンプ86を点灯するので、光導電セル50,52
の抵抗値が下がり、2相発振器40の出力eX、eY
の発振周波数が増加する。これにより電極10の
公転周期とともに周速度が増加し、加工粉、スラ
ツジの排出効果が著しく増加する。更に公転半径
を減少して公転するので加工精度を悪化させるよ
うなオーバカツト現象はなく、加工精度は低速度
で公転していた値を維持することができる。この
ようにして、加工粉、スラツジを効率よく排出し
短絡状態を迅速に解消し、再び前記加工可能状態
または加工不可能状態に切替わる。
り電極10と被加工物12との間に短絡が生じる
と、検出信号V′dはV2>V′dとなりコンパレータ
76で検出され、コンパレータ76は論理レベル
“0”を出力する。すると、ANDゲート62,
66は閉じられANDゲート76bが開かれる。
これにより、カウンタ70,74の出力はクロツ
クパルスCPの入力に応じ4単位づつEX、EYのピ
ーク値を減少させ、電極10の公転円運動の半径
は漸次ΔR2づつ減少される。このようにして、加
工間隙が充分に開離し短絡が自然に除去されると
加工電圧検出信号V′dはV′d>V2に復帰し、前述
した加工可能状態あるいは加工不可能状態の動作
に切替わる。また、加工間隙が充分に開離したに
もかかわらず上記短絡が持続すると、抵抗80を
介してコンデンサ82の電荷の放電がすすみ、コ
ンデンサ82のチヤージ電圧が設定電圧V3より
低下する。すると、コンパレータ84は論理レベ
ル“1”を出力しトランジスタ88をオンしてラ
ンプ86を点灯するので、光導電セル50,52
の抵抗値が下がり、2相発振器40の出力eX、eY
の発振周波数が増加する。これにより電極10の
公転周期とともに周速度が増加し、加工粉、スラ
ツジの排出効果が著しく増加する。更に公転半径
を減少して公転するので加工精度を悪化させるよ
うなオーバカツト現象はなく、加工精度は低速度
で公転していた値を維持することができる。この
ようにして、加工粉、スラツジを効率よく排出し
短絡状態を迅速に解消し、再び前記加工可能状態
または加工不可能状態に切替わる。
以上の如く、電極10と被加工物12との加工
間隙が常に適正な値に維持されつつ仕上加工が行
なわれる。
間隙が常に適正な値に維持されつつ仕上加工が行
なわれる。
なお、上記実施例では、工具電極の公転運動の
半径が漸次拡大する加工について説明したが、こ
れに限らず、工具電極が被加工物の外周を加工す
るような場合にも用いることができる。この場合
には、工具電極の公転運動の半径が漸次縮少する
こととなるが、使用するカウンタを加算から減算
型にすれば足りる。
半径が漸次拡大する加工について説明したが、こ
れに限らず、工具電極が被加工物の外周を加工す
るような場合にも用いることができる。この場合
には、工具電極の公転運動の半径が漸次縮少する
こととなるが、使用するカウンタを加算から減算
型にすれば足りる。
また、実施例においては、被加工物を固定し、
工具電極を公転運動させたものを示したが、逆に
工具電極を固定し被加工物を公転運動させても同
様の効果を得ることができる。
工具電極を公転運動させたものを示したが、逆に
工具電極を固定し被加工物を公転運動させても同
様の効果を得ることができる。
以上の如く、本発明によれば、電極と被加工物
の一方を他方に対し公転的に運動させる際、加工
状態に応じて加工間隙の開離巾を適切に制御する
ため、能率よく良好な加工を行なうことができる
とともに、公転運動の公転速度を少なくとも2種
設定しているので、設定された公転速度のいずれ
かを選択して加工を行なうように制御することが
でき公転速度の制御構成の簡単化が計れ、しかも
加工悪化状態を検出した際には速い方の公転速度
を選択して公転速度を制御しているので、加工間
隙の開離巾を拡大する制御とこの公転速度制御と
により、加工精度に影響を与えることなく、加工
粉、スラツジ等を効果的に排出することができ、
極めて短時間で良好な加工状態に復帰させること
ができ、加工精度と加工効率を向上できるという
効果がある。
の一方を他方に対し公転的に運動させる際、加工
状態に応じて加工間隙の開離巾を適切に制御する
ため、能率よく良好な加工を行なうことができる
とともに、公転運動の公転速度を少なくとも2種
設定しているので、設定された公転速度のいずれ
かを選択して加工を行なうように制御することが
でき公転速度の制御構成の簡単化が計れ、しかも
加工悪化状態を検出した際には速い方の公転速度
を選択して公転速度を制御しているので、加工間
隙の開離巾を拡大する制御とこの公転速度制御と
により、加工精度に影響を与えることなく、加工
粉、スラツジ等を効果的に排出することができ、
極めて短時間で良好な加工状態に復帰させること
ができ、加工精度と加工効率を向上できるという
効果がある。
第1図は従来の放電加工装置の説明図、第2図
はその電極構造の一例を示す説明図、第3図は第
2図に示す電極を用いた場合の不具合を示す加工
説明図、第4図は電極に自動的に半径が拡大する
公転円運動を与えた場合の軌跡を示す説明図、第
5図は本発明の放電加工装置の一実施例を示す説
明図、第6図はそのX−Yクロステーブルの制御
装置の説明図、第7図はその2相発振器の回路
図、第8図はその制御回路の回路図である。 各図中同一部材には同一符号を付し、10は工
具電極、12は被加工物、40は2相発振器、5
0,52は光導電セル、60,76,84はコン
パレータ、62,66,76bはANDゲート、
64,76aは反転器、68は発振器、70,7
4はカウンタ、78X,78Yは乗算型DAコン
パータ、80は抵抗、82はコンデンサ、86は
ランプ、88はトランジスタである。
はその電極構造の一例を示す説明図、第3図は第
2図に示す電極を用いた場合の不具合を示す加工
説明図、第4図は電極に自動的に半径が拡大する
公転円運動を与えた場合の軌跡を示す説明図、第
5図は本発明の放電加工装置の一実施例を示す説
明図、第6図はそのX−Yクロステーブルの制御
装置の説明図、第7図はその2相発振器の回路
図、第8図はその制御回路の回路図である。 各図中同一部材には同一符号を付し、10は工
具電極、12は被加工物、40は2相発振器、5
0,52は光導電セル、60,76,84はコン
パレータ、62,66,76bはANDゲート、
64,76aは反転器、68は発振器、70,7
4はカウンタ、78X,78Yは乗算型DAコン
パータ、80は抵抗、82はコンデンサ、86は
ランプ、88はトランジスタである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 電極と被加工物の一方を他方に対して略公転
運動させるとともにその運動経路を所定量づつ次
第に拡大または縮小させ加工間隙の開離巾を制御
しつつ放電加工を行う放電加工装置において、 上記電極−被加工物間の検出電圧から開離巾を
検出し上記公転運動中に上記電極が上記被加工物
に対し加工可能状態にあるか加工不可能状態にあ
るかあるいは加工悪化状態にあるかを検出する判
別装置と、 上記加工間隙の開離巾を減少させる縮小の速さ
が少なくとも2種設定されるとともに上記開離巾
を増加させる拡大の速さが少なくとも1種設定さ
れ、上記判別装置が加工可能状態を検出した際に
は上記縮小の速さの小さい方を選択し加工不可能
状態を検出した際には大きい方を選択し加工悪化
状態を検出した際には上記拡大の速さを選択して
主加工送りに対して略垂直な平面に沿つた上記公
転運動の経路の拡大または縮小を制御する運動経
路決定装置と、 上記公転運動の公転速度が少なくとも2種設定
され上記判別装置が加工悪化状態を検出した際に
は速い方の公転速度を選択しこれ以外の状態を検
出した際には遅い方の公転速度を選択して上記公
転運動の公転速度を制御する公転速度決定装置と
を備えたことを特徴とする放電加工装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13016780A JPS5754030A (ja) | 1980-09-19 | 1980-09-19 | Kakokikai |
| US06/300,864 US4491712A (en) | 1980-09-10 | 1981-09-10 | Fabricating machine |
| CH5861/81A CH659018A5 (de) | 1980-09-10 | 1981-09-10 | Verfahren und bearbeitungseinrichtung zum elektroerosiven bearbeiten eines werkstueckes. |
| DE19813135918 DE3135918A1 (de) | 1980-09-10 | 1981-09-10 | "fabrikationsmaschine" |
| US06/672,005 US4628173A (en) | 1980-09-10 | 1984-11-16 | Fabricating machine |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13016780A JPS5754030A (ja) | 1980-09-19 | 1980-09-19 | Kakokikai |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5754030A JPS5754030A (ja) | 1982-03-31 |
| JPH0125657B2 true JPH0125657B2 (ja) | 1989-05-18 |
Family
ID=15027613
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13016780A Granted JPS5754030A (ja) | 1980-09-10 | 1980-09-19 | Kakokikai |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5754030A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07102484B2 (ja) * | 1986-04-28 | 1995-11-08 | 株式会社井上ジャパックス研究所 | 放電加工装置 |
| KR102804851B1 (ko) * | 2019-10-09 | 2025-05-09 | 트리나미엑스 게엠베하 | 광전도체 판독 회로 |
-
1980
- 1980-09-19 JP JP13016780A patent/JPS5754030A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5754030A (ja) | 1982-03-31 |
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