JPS6411409B2 - - Google Patents
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- JPS6411409B2 JPS6411409B2 JP12986880A JP12986880A JPS6411409B2 JP S6411409 B2 JPS6411409 B2 JP S6411409B2 JP 12986880 A JP12986880 A JP 12986880A JP 12986880 A JP12986880 A JP 12986880A JP S6411409 B2 JPS6411409 B2 JP S6411409B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- machining
- electrode
- workpiece
- voltage
- separation width
- Prior art date
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- Expired
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H7/00—Processes or apparatus applicable to both electrical discharge machining and electrochemical machining
- B23H7/26—Apparatus for moving or positioning electrode relatively to workpiece; Mounting of electrode
- B23H7/28—Moving electrode in a plane normal to the feed direction, e.g. orbiting
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電極と被加工物の一方を他方に対し
押し込まれる方向に送られる動きを与える装置と
ともに、上記方向に垂直な方向をもつた動きを与
える装置とを備えた放電加工装置の改良に関す
る。
押し込まれる方向に送られる動きを与える装置と
ともに、上記方向に垂直な方向をもつた動きを与
える装置とを備えた放電加工装置の改良に関す
る。
従来、例えば放電加工装置において、電極が被
加工物に押し込まれる方向に電極と被加工物に相
対的な動きを与え、通常その方向に対して上記電
極と被加工物との距離が一定となるようにサーボ
をとりながら加工を行なつている。ここで、通常
放電加工において、荒加工物の後、同様な形状で
かつ若干寸法の異なる複数の電極を用いて仕上加
工を行なつていた。これは、荒加工においては加
工速度は高いが加工面が荒く、一方仕上加工にお
いては加工面は細かいが加工速度が低く、また電
極と被加工物との側面ギヤツプは仕上加工の方が
狭いことに起因している。そのため、一本の電極
で荒加工から仕上加工まで加工する目的で次のよ
うな装置が提案されている。すなわち、荒加工が
終了した後、電極あるいは被加工物に通常の送り
方向と垂直な要素をもつた動き、例えば公転円運
動を与え、見掛上寸法が大きい電極を用いたと同
様に、荒加工に使用した電極と同一の電極で仕上
加工も行うものである。これは、例えば第1図に
示すようなもので、電極10と被加工物12とを
絶縁液中で対向させ、パルス電流供給装置14よ
り供給されるパルス電流を加工間隙に通過するこ
とにより、被加工物12を加工する。その時、電
極10は、電圧差動回路16、増巾器18からな
るサーボ回路及び該回路の出力信号により駆動さ
れる油圧サーボバルブ20、油圧シリンダ22か
らなるサーボ機構により、被加工物12に対して
押し込まれる方向(Z軸方向)に、例えば加工間
隙の電圧Vdが平均的に基準値Vsと一致するよう
に送り込まれ、加工が進行する。ここで最終所望
深さより少し手前に設定された深さまで荒加工が
終了した後、パルス電流供給装置14の1パルス
のエネルギーを小さくなるように変更し、更に電
極運動制御装置24により既知の方法でサーボモ
ータ26,28を動かし、これによりX―Yクロ
ステーブル30,32に連続した円運動を行なわ
せる。この場合、サーボモータ26,28には位
相がπ/2異なり、振巾は上記荒加工と仕上加工
の側面ギヤツプの差の分に対応する電圧を有する
正弦波を加えればよい。そして、このように電極
10と被加工物12とを相対的に公転円運動させ
ながら再度所望深さまで加工を行なう。この場
合、相対的な公転円運動の直径に当る寸法だけ電
極10の直径が拡大されたのと等価な効果をもつ
ため、先に行なつた荒加工による荒い加工面は除
去されるというものである。ここで、この方法で
第2図に示すよう楕円断面を有する電極10を用
いて、それに対応する穴を被加工物12上に加工
する場合に、公転円運動の軌跡の各部分に対して
被加工物12の除去されるべき量は、電極10が
大きな曲率半径を有している部分では小さな曲率
半径を有している部分に比べて非常に小きい。そ
のため、加工が進行するにつれて、その曲率半径
が大きい部分の加工された深さと、曲率半径の小
さな部分の加工された深さとが、第3図に示す様
に大きな差をもつてくる。従つて、このような装
置においては、深穴の加工になると、先に行なつ
た荒加工による荒い加工面を充分取り去ることは
できないし、仕上加工物の際の電極の到達する深
さが、電極の形状により各部分毎に差ができると
いう大きな欠点を有している。
加工物に押し込まれる方向に電極と被加工物に相
対的な動きを与え、通常その方向に対して上記電
極と被加工物との距離が一定となるようにサーボ
をとりながら加工を行なつている。ここで、通常
放電加工において、荒加工物の後、同様な形状で
かつ若干寸法の異なる複数の電極を用いて仕上加
工を行なつていた。これは、荒加工においては加
工速度は高いが加工面が荒く、一方仕上加工にお
いては加工面は細かいが加工速度が低く、また電
極と被加工物との側面ギヤツプは仕上加工の方が
狭いことに起因している。そのため、一本の電極
で荒加工から仕上加工まで加工する目的で次のよ
うな装置が提案されている。すなわち、荒加工が
終了した後、電極あるいは被加工物に通常の送り
方向と垂直な要素をもつた動き、例えば公転円運
動を与え、見掛上寸法が大きい電極を用いたと同
様に、荒加工に使用した電極と同一の電極で仕上
加工も行うものである。これは、例えば第1図に
示すようなもので、電極10と被加工物12とを
絶縁液中で対向させ、パルス電流供給装置14よ
り供給されるパルス電流を加工間隙に通過するこ
とにより、被加工物12を加工する。その時、電
極10は、電圧差動回路16、増巾器18からな
るサーボ回路及び該回路の出力信号により駆動さ
れる油圧サーボバルブ20、油圧シリンダ22か
らなるサーボ機構により、被加工物12に対して
押し込まれる方向(Z軸方向)に、例えば加工間
隙の電圧Vdが平均的に基準値Vsと一致するよう
に送り込まれ、加工が進行する。ここで最終所望
深さより少し手前に設定された深さまで荒加工が
終了した後、パルス電流供給装置14の1パルス
のエネルギーを小さくなるように変更し、更に電
極運動制御装置24により既知の方法でサーボモ
ータ26,28を動かし、これによりX―Yクロ
ステーブル30,32に連続した円運動を行なわ
せる。この場合、サーボモータ26,28には位
相がπ/2異なり、振巾は上記荒加工と仕上加工
の側面ギヤツプの差の分に対応する電圧を有する
正弦波を加えればよい。そして、このように電極
10と被加工物12とを相対的に公転円運動させ
ながら再度所望深さまで加工を行なう。この場
合、相対的な公転円運動の直径に当る寸法だけ電
極10の直径が拡大されたのと等価な効果をもつ
ため、先に行なつた荒加工による荒い加工面は除
去されるというものである。ここで、この方法で
第2図に示すよう楕円断面を有する電極10を用
いて、それに対応する穴を被加工物12上に加工
する場合に、公転円運動の軌跡の各部分に対して
被加工物12の除去されるべき量は、電極10が
大きな曲率半径を有している部分では小さな曲率
半径を有している部分に比べて非常に小きい。そ
のため、加工が進行するにつれて、その曲率半径
が大きい部分の加工された深さと、曲率半径の小
さな部分の加工された深さとが、第3図に示す様
に大きな差をもつてくる。従つて、このような装
置においては、深穴の加工になると、先に行なつ
た荒加工による荒い加工面を充分取り去ることは
できないし、仕上加工物の際の電極の到達する深
さが、電極の形状により各部分毎に差ができると
いう大きな欠点を有している。
このため、上記欠点を解決する目的で、次のよ
うな加工方法を採用する装置が提案されている。
第4図はこの装置を説明した図である。上記第2
図に示したような加工において、指摘の欠点の要
因は、Z軸からみたX―Y平面上の取代の差異に
よることは明らかであり、これを解決するために
は、X―Yクロステーブル30,32に与える円
運動の半径を最初から所定の取代に相当する量と
せず、0から徐々に増加させれば、いかに深い加
工であつても、電極は最初から最深位置にあり、
この状態から拡大していくことになり、第3図に
示したような状況は起こりえない。すなわち、第
4図に示す螺線円は、上記方法による電極10と
被加工物12との相対移動軌跡を示した図で、1
周毎の取代増加量を△Rとして示している。しか
しながら、深穴加工などで、単純に△Rを増加し
ていくのは、加工代の少ない場合はよいが、大き
い場合には前記第3図に示す問題が発生する他、
最もまずいこととして、電極10が被加工物12
と短絡したままで被加工物12とこすり合う状態
で上昇する現象が生ずる。一般に放電加工用の電
極10は、銅やグラフアイトの如き傷つきやすい
材料を使用しているので、このような場合電極1
0は確実に破損する。よつて、電極10と被加工
物12との加工間隙の開離巾が狭いときには、公
転速度を遅くして充分電極10が上へ逃げる時間
を確保し、上記加工間隙の開離巾が広いときには
その間隙に存する加工粉やスラツジを排出しやす
いよう公転速度を速めるのが望ましい。また、短
絡や異常放電の発生の場合には、公転半径を縮小
させて、スラツジ等の排出のため公転速度を速め
る必要がある。しかし、従来の装置にあつては、
このような複雑な制御が行えなかつた。
うな加工方法を採用する装置が提案されている。
第4図はこの装置を説明した図である。上記第2
図に示したような加工において、指摘の欠点の要
因は、Z軸からみたX―Y平面上の取代の差異に
よることは明らかであり、これを解決するために
は、X―Yクロステーブル30,32に与える円
運動の半径を最初から所定の取代に相当する量と
せず、0から徐々に増加させれば、いかに深い加
工であつても、電極は最初から最深位置にあり、
この状態から拡大していくことになり、第3図に
示したような状況は起こりえない。すなわち、第
4図に示す螺線円は、上記方法による電極10と
被加工物12との相対移動軌跡を示した図で、1
周毎の取代増加量を△Rとして示している。しか
しながら、深穴加工などで、単純に△Rを増加し
ていくのは、加工代の少ない場合はよいが、大き
い場合には前記第3図に示す問題が発生する他、
最もまずいこととして、電極10が被加工物12
と短絡したままで被加工物12とこすり合う状態
で上昇する現象が生ずる。一般に放電加工用の電
極10は、銅やグラフアイトの如き傷つきやすい
材料を使用しているので、このような場合電極1
0は確実に破損する。よつて、電極10と被加工
物12との加工間隙の開離巾が狭いときには、公
転速度を遅くして充分電極10が上へ逃げる時間
を確保し、上記加工間隙の開離巾が広いときには
その間隙に存する加工粉やスラツジを排出しやす
いよう公転速度を速めるのが望ましい。また、短
絡や異常放電の発生の場合には、公転半径を縮小
させて、スラツジ等の排出のため公転速度を速め
る必要がある。しかし、従来の装置にあつては、
このような複雑な制御が行えなかつた。
本発明は、このような従来の課題に鑑みなされ
たものであり、その目的は、電極と被加工物の一
方を他方に対し略公転運動させその運動経路を次
第に拡大またはは縮小しつつ加工を行なう放電加
工装置において、上記運動経路の拡大または縮小
量、および公転速度の増減を加工状態に応じて最
適に制御することの可能な加工機械を提供するも
のである。
たものであり、その目的は、電極と被加工物の一
方を他方に対し略公転運動させその運動経路を次
第に拡大またはは縮小しつつ加工を行なう放電加
工装置において、上記運動経路の拡大または縮小
量、および公転速度の増減を加工状態に応じて最
適に制御することの可能な加工機械を提供するも
のである。
上記目的を達成するため、本発明は、電極と被
加工物の一方を他方に対して略公転運動させると
ともにその運動経路を次第に拡大または縮小しつ
つ加工を行なう放電加工装置において、電極−被
加工物間の検出電圧から上記公転運動中に上記電
極の上記被加工物に対する加工間隙の開離巾およ
び加工状態を検出する判別装置と、上記判別装置
が検出する加工状態に基づいて上記加工間隙の開
離巾を減少させる方向に上記運動経路を拡大また
は縮小させるとともに上記判別装置の検出する加
工間隙の開離巾が異常に狭くなつた際には主加工
送りに対し略垂直な平面に沿つて開離巾を増加さ
せる方向に上記運動経路を拡大または縮小させる
運動経路決定装置と、上記判別装置が検出する加
工間隙の開離巾に基づき上記公転運動の公転速度
を制御するとともに、上記判別装置が検出する加
工間隙の開離巾が異常に狭くなつた際には上記開
離巾を増加させた後に上記公転速度を高める公転
速度決定装置とを備えたことを特徴とする。
加工物の一方を他方に対して略公転運動させると
ともにその運動経路を次第に拡大または縮小しつ
つ加工を行なう放電加工装置において、電極−被
加工物間の検出電圧から上記公転運動中に上記電
極の上記被加工物に対する加工間隙の開離巾およ
び加工状態を検出する判別装置と、上記判別装置
が検出する加工状態に基づいて上記加工間隙の開
離巾を減少させる方向に上記運動経路を拡大また
は縮小させるとともに上記判別装置の検出する加
工間隙の開離巾が異常に狭くなつた際には主加工
送りに対し略垂直な平面に沿つて開離巾を増加さ
せる方向に上記運動経路を拡大または縮小させる
運動経路決定装置と、上記判別装置が検出する加
工間隙の開離巾に基づき上記公転運動の公転速度
を制御するとともに、上記判別装置が検出する加
工間隙の開離巾が異常に狭くなつた際には上記開
離巾を増加させた後に上記公転速度を高める公転
速度決定装置とを備えたことを特徴とする。
次に、本発明の好適な実施例を、図面に基づき
説明する。なお、前述した従来装置と対応する箇
所には同一符号を付しその説明は省略する。
説明する。なお、前述した従来装置と対応する箇
所には同一符号を付しその説明は省略する。
第5図には、本発明の放電加工装置の実施例が
示されている。
示されている。
ここにおいて、電極運動制御装置24からの信
号により、サーボモータ26,28を駆動するこ
とにより、X―Yクロステーブル30,32を動
作させ、電極10と被加工物12との間に相対的
に公転円運動を与えることは、第1図に示す従来
装置と同様である。34は差動トランスである。
この差動トランス34は、そのコイル部分が機械
の固定側に固定され、その可動鉄心が電極10と
同様な動きをするよう構成され、電極10の高
さ、すなわちZ軸方向の位置が検出される。ま
た、36は、例えば特公昭53―32112号公報の第
1図12と同様の回路で、加工間隙の電圧Vdと
基準電圧Vsとの差電圧Vd―Vsと、差動トランス
34の出力とのうち、低い方を優先的に選択する
ための比較選択回路である。ここで、比較選択回
路36の動作は、上記特公昭53―32112号公報中
に詳述してある如く、機械の固定側に固定された
差動トランス34のコイル部の位置をあらかじめ
設定しておけば、電極10がその設定位置より上
にある場合には加工間隙ででの電圧Vdと基準電
圧Vsとの差電圧Vd―Vsに従い電極10の位置は
制御され、また電極10が上記設定位置まで下降
すると差動トランス34の出力が優先的に選択さ
れることとなり、サーボバルブ20と油圧シリン
ダ22からなるサーボ機構によつてその位置以下
には電極10が降下しないように制御される。
号により、サーボモータ26,28を駆動するこ
とにより、X―Yクロステーブル30,32を動
作させ、電極10と被加工物12との間に相対的
に公転円運動を与えることは、第1図に示す従来
装置と同様である。34は差動トランスである。
この差動トランス34は、そのコイル部分が機械
の固定側に固定され、その可動鉄心が電極10と
同様な動きをするよう構成され、電極10の高
さ、すなわちZ軸方向の位置が検出される。ま
た、36は、例えば特公昭53―32112号公報の第
1図12と同様の回路で、加工間隙の電圧Vdと
基準電圧Vsとの差電圧Vd―Vsと、差動トランス
34の出力とのうち、低い方を優先的に選択する
ための比較選択回路である。ここで、比較選択回
路36の動作は、上記特公昭53―32112号公報中
に詳述してある如く、機械の固定側に固定された
差動トランス34のコイル部の位置をあらかじめ
設定しておけば、電極10がその設定位置より上
にある場合には加工間隙ででの電圧Vdと基準電
圧Vsとの差電圧Vd―Vsに従い電極10の位置は
制御され、また電極10が上記設定位置まで下降
すると差動トランス34の出力が優先的に選択さ
れることとなり、サーボバルブ20と油圧シリン
ダ22からなるサーボ機構によつてその位置以下
には電極10が降下しないように制御される。
第6図は、X―Yクロステーブル30,32の
制御装置24の説明図である。ここにおいて、4
0は2相発振器であり、90゜位相の異なる正弦波
ex,eyを出力している。42は極間電圧検出信号
Vdに基づいて上記ex,eyの出力を制御し、所望
の偏芯半径に相当する電圧Ex、Eyを取り出すた
めの制御回路である。該Ex、Eyの電圧加算点4
4,46にそれぞれ印加され、この加算点出力は
モータ駆動増巾器47,48で増巾されX,Y軸
モータ26,28を動かす。X―Yクロステーブ
ル30,32には直線ポテンシヨメータRx,Ry
がはられており、電極10のX―Y平面における
位置検出に用いられている。上記直線ポテンシヨ
メータRx,Ryの出力電圧は、前述の加算点44,
46にフイードバツクされるので、加算点44,
46の出力電圧が0になるまでモータ26,28
が動き、テーブル位置は前記制御回路42の出力
Ex,Eyに等しくなるように制御される。
制御装置24の説明図である。ここにおいて、4
0は2相発振器であり、90゜位相の異なる正弦波
ex,eyを出力している。42は極間電圧検出信号
Vdに基づいて上記ex,eyの出力を制御し、所望
の偏芯半径に相当する電圧Ex、Eyを取り出すた
めの制御回路である。該Ex、Eyの電圧加算点4
4,46にそれぞれ印加され、この加算点出力は
モータ駆動増巾器47,48で増巾されX,Y軸
モータ26,28を動かす。X―Yクロステーブ
ル30,32には直線ポテンシヨメータRx,Ry
がはられており、電極10のX―Y平面における
位置検出に用いられている。上記直線ポテンシヨ
メータRx,Ryの出力電圧は、前述の加算点44,
46にフイードバツクされるので、加算点44,
46の出力電圧が0になるまでモータ26,28
が動き、テーブル位置は前記制御回路42の出力
Ex,Eyに等しくなるように制御される。
第7図は、前記2相発振器40の詳細説明図で
ある。この2相発振器40は、オペアンプQ1、
抵抗R、コンデンサCで構成される積分回路と、
オペアンプQ2、抵抗R、コンデンサC、電圧制
御用ツエナダイオードZD1,ZD2で構成される
制御反転積分器とを、次の微分方程式を与えるフ
イードバツクループの中でカスケード接続して形
成されている。
ある。この2相発振器40は、オペアンプQ1、
抵抗R、コンデンサCで構成される積分回路と、
オペアンプQ2、抵抗R、コンデンサC、電圧制
御用ツエナダイオードZD1,ZD2で構成される
制御反転積分器とを、次の微分方程式を与えるフ
イードバツクループの中でカスケード接続して形
成されている。
RCd/dtex=ey ……(1)
RCd/dtey=−ex ……(2)
そして、該回路において時定数R1C1は故意に
RCより大きく設定され、回路を若干不安定にし
ている。また、電圧制御用ツエナーダイオード
ZD1,ZD2またはex,eyの波形が歪むことを防
止して振巾を安定化する。そして、このようにし
て得られる2つの出力ex,eyは90゜位相が異なり、
次式で表わされる。
RCより大きく設定され、回路を若干不安定にし
ている。また、電圧制御用ツエナーダイオード
ZD1,ZD2またはex,eyの波形が歪むことを防
止して振巾を安定化する。そして、このようにし
て得られる2つの出力ex,eyは90゜位相が異なり、
次式で表わされる。
ex=Esint/RC ……(3)
ey=Ecost/RC ……(4)
ここにおいて、Eは電圧制限用ツエナダイオー
ドZD1,ZD2の電圧である。また、該回路には
周波数の設定のため、抵抗Rの両端に外付の端子
が設けられ、この外付端子に外部抵抗50,52
が接続されている。そして、この外部抵抗50,
52の抵抗値を設整することにより、外部から周
波数制御を行うことができる。なお、本実施例に
おいて、この外部抵抗50,52には光導電セル
が用いられており、外部からの光により上記周波
数の制御は行なわれる。
ドZD1,ZD2の電圧である。また、該回路には
周波数の設定のため、抵抗Rの両端に外付の端子
が設けられ、この外付端子に外部抵抗50,52
が接続されている。そして、この外部抵抗50,
52の抵抗値を設整することにより、外部から周
波数制御を行うことができる。なお、本実施例に
おいて、この外部抵抗50,52には光導電セル
が用いられており、外部からの光により上記周波
数の制御は行なわれる。
第8図は、制御回路42の詳細説明図である。
一般に、電極10と被加工物12との間で順調に
放電加工が行なわれている間は、極間電圧検出信
号V′dは一定の範囲内にある。そして、放電間隙
の開離巾が増大するにつれて上記信号V′dは大き
くなり、放電間隙の開離巾が一定以上になると良
好な放電が不可能な状態となる。このときの検出
信号を加工可能電圧V1と規定する。また、放電
加工の途中で短絡が生ずと、上記検出信号V′dは
低下し一定値以下となる。このときの検出信号を
短絡検出電圧V2と規定する。すると、上記加工
可能電圧V1と短絡検出電圧V2とをあらかじめ設
定しておき、これと検出信号V′dとを比較するこ
とにより、放電加工が適正になされているか否か
を判別することができる。まず、検出信号V′dは
コンパレータ60において加工可能電圧V1と比
較され、電圧V1よりも検出信号V′dが大きければ
電極10と被加工物12との間隙長は放電がなさ
れない程度まで広がつている加工不可能状態と判
別される。そしてコンパレータ60は論理レベル
“O”を出力し、ANDゲート62のゲートは閉じ
られ、反転器64を介して接続されたANDゲー
ト66は開かれる。これらANDゲート62,6
6には、発振器68による一定時間毎のクロツク
パルスCPあるいは前記2相発振器40の出力の
発振周期に同期したクロツクパルスCPが印加さ
れており、このため加工不可能状態の時は第1の
カウンタ70の加算入力端子にこのクロツクパル
スCPがORゲート72を介して入力される。ま
た、検出信号V′dが加工可能電圧V1より低い時、
間隙長は充分に放電し得る距離であり、加工可能
状態と判断される。このとき、コンパレータ60
は論理レベル“1”を出力し、ANDゲート62
は開き、第2のカウンタ74の加算入力端子にク
ロツクパルスCPが入力される。これらカウンタ
70,74はカスケードに接続されており、カウ
ンタ74でカウントされた出力がカウンタ70で
更にカウントされる。また、検出信号V′dはコン
パレータ76において短絡検出電圧V2と比較さ
れる。そして、検出信号V′dが短絡検出電圧V2に
より低下すると、短絡現象等の加工悪化状態が生
じたと判別され、コンパレータ76は論理レベル
“0”を出力し、ANDゲート62,66を閉じる
とともに、反転器76aを介してANDゲート7
6bを開く。このANDゲート76bには前述し
たと同様なクロツクパルスCPが印加されており、
このため加工悪化状態にあるときには、このクロ
ツクパルスがこのANDゲートを介して第2のカ
ウンタ70の減算入力端子(U)に入力される。
このようにして、電極10が被加工物12に対し
加工可能状態にあるか否かを判別するとともに加
工状態が悪化しているか否かをも判別する判別装
置が構成される。なお、上記回路構成でも明らか
な如く、加工可能状態にあるときにはANDゲー
ト62のみが開かれ、第1および第2のカウンタ
70,74の出力はクロツクパルスCP1つに対し
て、1単位づつカウントアツプされていく。また
加工不可能状態にあるときにはANDゲート66
のみが開かれ、70,74の出力はクロツクパル
スCP1つに対して4単位ずつカウントアツプされ
ていく。また、加工悪化状態にあるときには、
ANDゲート76bのみが開かれカウンタ70,
74の出力は、クロツクパルスCP1つに対応して
4単位ずつカウントダウンされていく。また、上
記カウンタ70,74の出力は、乗算型DAコン
バータ78X,78Yに入力され、前記2相発振
器40の出力ex,eyの値とカウンタ70,74の
計数値との乗算が行なわれ、その乗算値のアナロ
グ量がEx,Eyとして出力される。このような乗
算型DAコンバータとしては、米国アナログデバ
イス社のAD7520などが公知である。以上の
構成によつて、乗算型ADコンバータ78X,7
8Yの出力ExEyのピーク値は、加工可能状態に
おいてクロツクパルスCPの入力に応じ1単位づ
つわずかに増加し、また加工間隙が広く加工不可
能状態においてはクロツクパルスCPの入力に応
じ4単位づつ増加する。また、短絡等の加工悪化
状態が検出された場合には、上記出力Ex,Eyの
ピーク値は、クロツクパルスCPの入力に応じ4
単位づつ減少する。このように、乗算型ADコン
バータ78X,78Yはカウンタ70,74とと
もに運動経路決定装置として機能する。
一般に、電極10と被加工物12との間で順調に
放電加工が行なわれている間は、極間電圧検出信
号V′dは一定の範囲内にある。そして、放電間隙
の開離巾が増大するにつれて上記信号V′dは大き
くなり、放電間隙の開離巾が一定以上になると良
好な放電が不可能な状態となる。このときの検出
信号を加工可能電圧V1と規定する。また、放電
加工の途中で短絡が生ずと、上記検出信号V′dは
低下し一定値以下となる。このときの検出信号を
短絡検出電圧V2と規定する。すると、上記加工
可能電圧V1と短絡検出電圧V2とをあらかじめ設
定しておき、これと検出信号V′dとを比較するこ
とにより、放電加工が適正になされているか否か
を判別することができる。まず、検出信号V′dは
コンパレータ60において加工可能電圧V1と比
較され、電圧V1よりも検出信号V′dが大きければ
電極10と被加工物12との間隙長は放電がなさ
れない程度まで広がつている加工不可能状態と判
別される。そしてコンパレータ60は論理レベル
“O”を出力し、ANDゲート62のゲートは閉じ
られ、反転器64を介して接続されたANDゲー
ト66は開かれる。これらANDゲート62,6
6には、発振器68による一定時間毎のクロツク
パルスCPあるいは前記2相発振器40の出力の
発振周期に同期したクロツクパルスCPが印加さ
れており、このため加工不可能状態の時は第1の
カウンタ70の加算入力端子にこのクロツクパル
スCPがORゲート72を介して入力される。ま
た、検出信号V′dが加工可能電圧V1より低い時、
間隙長は充分に放電し得る距離であり、加工可能
状態と判断される。このとき、コンパレータ60
は論理レベル“1”を出力し、ANDゲート62
は開き、第2のカウンタ74の加算入力端子にク
ロツクパルスCPが入力される。これらカウンタ
70,74はカスケードに接続されており、カウ
ンタ74でカウントされた出力がカウンタ70で
更にカウントされる。また、検出信号V′dはコン
パレータ76において短絡検出電圧V2と比較さ
れる。そして、検出信号V′dが短絡検出電圧V2に
より低下すると、短絡現象等の加工悪化状態が生
じたと判別され、コンパレータ76は論理レベル
“0”を出力し、ANDゲート62,66を閉じる
とともに、反転器76aを介してANDゲート7
6bを開く。このANDゲート76bには前述し
たと同様なクロツクパルスCPが印加されており、
このため加工悪化状態にあるときには、このクロ
ツクパルスがこのANDゲートを介して第2のカ
ウンタ70の減算入力端子(U)に入力される。
このようにして、電極10が被加工物12に対し
加工可能状態にあるか否かを判別するとともに加
工状態が悪化しているか否かをも判別する判別装
置が構成される。なお、上記回路構成でも明らか
な如く、加工可能状態にあるときにはANDゲー
ト62のみが開かれ、第1および第2のカウンタ
70,74の出力はクロツクパルスCP1つに対し
て、1単位づつカウントアツプされていく。また
加工不可能状態にあるときにはANDゲート66
のみが開かれ、70,74の出力はクロツクパル
スCP1つに対して4単位ずつカウントアツプされ
ていく。また、加工悪化状態にあるときには、
ANDゲート76bのみが開かれカウンタ70,
74の出力は、クロツクパルスCP1つに対応して
4単位ずつカウントダウンされていく。また、上
記カウンタ70,74の出力は、乗算型DAコン
バータ78X,78Yに入力され、前記2相発振
器40の出力ex,eyの値とカウンタ70,74の
計数値との乗算が行なわれ、その乗算値のアナロ
グ量がEx,Eyとして出力される。このような乗
算型DAコンバータとしては、米国アナログデバ
イス社のAD7520などが公知である。以上の
構成によつて、乗算型ADコンバータ78X,7
8Yの出力ExEyのピーク値は、加工可能状態に
おいてクロツクパルスCPの入力に応じ1単位づ
つわずかに増加し、また加工間隙が広く加工不可
能状態においてはクロツクパルスCPの入力に応
じ4単位づつ増加する。また、短絡等の加工悪化
状態が検出された場合には、上記出力Ex,Eyの
ピーク値は、クロツクパルスCPの入力に応じ4
単位づつ減少する。このように、乗算型ADコン
バータ78X,78Yはカウンタ70,74とと
もに運動経路決定装置として機能する。
また、検出信号V′dの短絡検出電圧V2より低い
状態が、抵抗80およびコンデンサ82で構成さ
れる一次遅れ時定数より長く続く場合には、コン
パレータ76は論理レベル“0”を出力し続ける
ため、コンデンサ82の電荷は抵抗80を介して
放電され、コンデンサのチヤージ電圧は基準電圧
V3より低下する。これにより、コンパレータ8
4は論理レベル“1”を出力し、トランジスタ8
8をオンしてランプ86を点灯する。このランプ
86は密閉ケース90の中で均質に前記光導電セ
ル50,52を照射しその抵抗値を低下させ、そ
の結果前記2相発振器40の出力ex,eyの発振周
波数を高める。
状態が、抵抗80およびコンデンサ82で構成さ
れる一次遅れ時定数より長く続く場合には、コン
パレータ76は論理レベル“0”を出力し続ける
ため、コンデンサ82の電荷は抵抗80を介して
放電され、コンデンサのチヤージ電圧は基準電圧
V3より低下する。これにより、コンパレータ8
4は論理レベル“1”を出力し、トランジスタ8
8をオンしてランプ86を点灯する。このランプ
86は密閉ケース90の中で均質に前記光導電セ
ル50,52を照射しその抵抗値を低下させ、そ
の結果前記2相発振器40の出力ex,eyの発振周
波数を高める。
また、検出信号V′dが短絡検出電圧V2以上であ
ると、その検出信号はV′dはトランジスタ92を
抵抗制御し、ランプ94の発光状態を制御する。
このランプ94もランプ86と同様密閉ケース9
0の中で均質に前記光導電セル50,52を照射
する。従つて、検出信号V′dが高いと前記2相発
振器40の出力ex,eyの発振周期は高まり、信号
V′dが低いと上記出力ex,eyの発振周期は低下す
る。このようにして、抵抗80、コンデンサ8
2、コンパレータ84、ランプ86,94、トラ
ンジスタ88,92、光導電セル50,52は公
転速度決定装置として機能する。
ると、その検出信号はV′dはトランジスタ92を
抵抗制御し、ランプ94の発光状態を制御する。
このランプ94もランプ86と同様密閉ケース9
0の中で均質に前記光導電セル50,52を照射
する。従つて、検出信号V′dが高いと前記2相発
振器40の出力ex,eyの発振周期は高まり、信号
V′dが低いと上記出力ex,eyの発振周期は低下す
る。このようにして、抵抗80、コンデンサ8
2、コンパレータ84、ランプ86,94、トラ
ンジスタ88,92、光導電セル50,52は公
転速度決定装置として機能する。
本発明の実施例は以上の構成からなり、以下に
その作用を、電極10を用いて被加工物12に穴
を加工する場合を例に採り説明する。
その作用を、電極10を用いて被加工物12に穴
を加工する場合を例に採り説明する。
まず、所定の加工位置において、電極10が被
加工物12に向け垂直に下降するようサーボ機
構、すなわち油圧サーボバルブ20および油圧シ
リンダ22が駆動され、荒可工工程が開始され
る。ここにおいて、電極10と被加工物12との
間の加工電圧Vdが常に良好な放電加工を行ない
うる範囲内にあるようサーボ機構は次のように制
御される。まず、加工電圧Vdが低下して短絡等
の危険があるときには、当然に比較選択回路36
に入力される電圧Vdも低下し、この回路36お
よび増巾器18を介して油圧サーボバルブ20に
入力される電圧Vd―Vsも低下する。これによ
り、電極10の下降速度は減少され、電極10と
被加工物12との加工間隙は広くなり、良好な放
電加工が行なわれる程度にまで制御される。そし
て、短絡等の危険が解消されると、電圧Vdも上
昇し適正に放電加工を行ない得る値に復帰するた
め、電極10の下降速度は増加する。また、何ら
かの原因で加工間隙が広くなりすぎ、放電不能と
なつた場合には加工電圧Vdが上昇し、油圧サー
ボバルブ20に入力される電圧Vd―Vsは増加す
る。これにより、電極10の下降速度は早めら
れ、上記加工間隙は良好な放電加工を開始する程
度にまでせばめられよう制御される。そして、良
好な放電加工が開始されると、加工電圧Vdは低
下し、電極10の下降速度は減少する。このよう
にして、電極10と被加工物12との加工間隙は
常に最適の状態に維持されつつ放電加工は進行す
る。そして、電極10が一定の深さに達すると、
差動トランス34がこれを検出する。すると、差
動トランス34の出力は、前記Vd―Vsの値を下
まわり、比較選択回路36はこの差動トランス3
4の出力を選択する。これにより、増巾器18を
介してサーボバルブ20に与えられる入力は0と
なり、電極10の下降は停止される。以上により
荒加工工程は終了する。
加工物12に向け垂直に下降するようサーボ機
構、すなわち油圧サーボバルブ20および油圧シ
リンダ22が駆動され、荒可工工程が開始され
る。ここにおいて、電極10と被加工物12との
間の加工電圧Vdが常に良好な放電加工を行ない
うる範囲内にあるようサーボ機構は次のように制
御される。まず、加工電圧Vdが低下して短絡等
の危険があるときには、当然に比較選択回路36
に入力される電圧Vdも低下し、この回路36お
よび増巾器18を介して油圧サーボバルブ20に
入力される電圧Vd―Vsも低下する。これによ
り、電極10の下降速度は減少され、電極10と
被加工物12との加工間隙は広くなり、良好な放
電加工が行なわれる程度にまで制御される。そし
て、短絡等の危険が解消されると、電圧Vdも上
昇し適正に放電加工を行ない得る値に復帰するた
め、電極10の下降速度は増加する。また、何ら
かの原因で加工間隙が広くなりすぎ、放電不能と
なつた場合には加工電圧Vdが上昇し、油圧サー
ボバルブ20に入力される電圧Vd―Vsは増加す
る。これにより、電極10の下降速度は早めら
れ、上記加工間隙は良好な放電加工を開始する程
度にまでせばめられよう制御される。そして、良
好な放電加工が開始されると、加工電圧Vdは低
下し、電極10の下降速度は減少する。このよう
にして、電極10と被加工物12との加工間隙は
常に最適の状態に維持されつつ放電加工は進行す
る。そして、電極10が一定の深さに達すると、
差動トランス34がこれを検出する。すると、差
動トランス34の出力は、前記Vd―Vsの値を下
まわり、比較選択回路36はこの差動トランス3
4の出力を選択する。これにより、増巾器18を
介してサーボバルブ20に与えられる入力は0と
なり、電極10の下降は停止される。以上により
荒加工工程は終了する。
そして、この荒加工工程の終了と同時に、パル
ス電流供給装置14の1パルス当りのエネルギを
小さく制御し、電極運動制御装置24によりX―
Yクロステーブル30,32に連続した公転円運
動を与える仕上加工工程が開始される。ここにお
いて、X―Yクロステーブル30,32に与えら
れれる公転円運動の半径は、第4図に示す如く0
から徐々に△Rづつ増加していくよう制御され
る。そして、この増加量△Rは、装置の加工能力
の範囲内でかつその加工能率が最大となるよう制
御される。
ス電流供給装置14の1パルス当りのエネルギを
小さく制御し、電極運動制御装置24によりX―
Yクロステーブル30,32に連続した公転円運
動を与える仕上加工工程が開始される。ここにお
いて、X―Yクロステーブル30,32に与えら
れれる公転円運動の半径は、第4図に示す如く0
から徐々に△Rづつ増加していくよう制御され
る。そして、この増加量△Rは、装置の加工能力
の範囲内でかつその加工能率が最大となるよう制
御される。
まず、2相発振器40から90゜位相が異なる正
弦波ex,eyが出力される。この出力ex,eyは制御
回路42の乗算型DAコンバータ78X,78Y
においてカウンタ70,74の出力と乗算され、
サーボモータ26,28の駆動電圧Ex,Eyとし
て出力される。そして、この出力Ex,Eyの電圧
ピーク値によりX―Yクロステーブル30,32
の公転円運動の半径、すなわち電極10の被加工
物12に対する公転円運動の半径が与えられる。
弦波ex,eyが出力される。この出力ex,eyは制御
回路42の乗算型DAコンバータ78X,78Y
においてカウンタ70,74の出力と乗算され、
サーボモータ26,28の駆動電圧Ex,Eyとし
て出力される。そして、この出力Ex,Eyの電圧
ピーク値によりX―Yクロステーブル30,32
の公転円運動の半径、すなわち電極10の被加工
物12に対する公転円運動の半径が与えられる。
ここにおいて、上記公転円運動の半径は次のよ
うに漸次増加していく。まず、仕上加工の開始時
にあつては、カウンタ70,74の出力は0であ
るため、乗算型DAコンバータ78X,78Yの
出力Ex,Eyも0である。従つて、公転円運動は
半径が0の地点から開始される。そして、加工電
圧検出信号V′dが、V1〉V′d〉V2の範囲にあると
きには、放電加工が良好に行なわれている加工加
能状態にあるとコンパレタ60,76で判断され
る。そして、コンパレータ60,76はともに論
理レベル“1”を出力し、ANDゲート62は開
かれ、このANDゲート62を介してカウンタ7
4,70はクロツクパルスCPのカウントを開始
する。すると、乗算型ADコンバータ78X,7
8Yは、カウンタ70,74に入力されるクロツ
クパルスCPに応じ1単位づつEx,Eyのピーク値
を増加させ、公転円運動の半径も漸次△R1づつ
増加する。
うに漸次増加していく。まず、仕上加工の開始時
にあつては、カウンタ70,74の出力は0であ
るため、乗算型DAコンバータ78X,78Yの
出力Ex,Eyも0である。従つて、公転円運動は
半径が0の地点から開始される。そして、加工電
圧検出信号V′dが、V1〉V′d〉V2の範囲にあると
きには、放電加工が良好に行なわれている加工加
能状態にあるとコンパレタ60,76で判断され
る。そして、コンパレータ60,76はともに論
理レベル“1”を出力し、ANDゲート62は開
かれ、このANDゲート62を介してカウンタ7
4,70はクロツクパルスCPのカウントを開始
する。すると、乗算型ADコンバータ78X,7
8Yは、カウンタ70,74に入力されるクロツ
クパルスCPに応じ1単位づつEx,Eyのピーク値
を増加させ、公転円運動の半径も漸次△R1づつ
増加する。
また、加工電圧検出信号V′dが、V′d〉V1の範
囲にあるときには、加工間隙が広すぎ放電が良好
に行なわれていない加工不可能状態にあるとコン
パレータ60で判断される。そして、コンパレー
タ60は論理レベル“0”を出力し、ANDゲー
ト62を閉じ、ANDゲート66を開き、カウン
タ70に直接クロツクパルスCPのカウントを行
なわせる。すると、図面からも明らかな如く、カ
ウンタ70,74は、前記加工可能状態にあると
きに比し、1つのクロツクパルスCPを4倍の割
合でカウントしていく。従つて、乗算型DAコン
バータ78X,78Yは、カウンタ70,74に
入力されるクロツクパルスCPに応じ4単位づつ
Ex,Eyのピーク値を増加させ、電極10の公転
円運動の半径は、前記加工可能状態にあるときに
比し4倍の増加量△R2(△R2=4△R1)をもつて
漸次増加する。これにより、電極10と被加工物
12との加工間鎖隙は放電加工が可能となる範囲
まで急速に狭まる。そして、加工可能状態に入る
と、加工電圧検出信号V′dはV1〉V′dとなり、前
述した加工可能状態の動作に切換わる。
囲にあるときには、加工間隙が広すぎ放電が良好
に行なわれていない加工不可能状態にあるとコン
パレータ60で判断される。そして、コンパレー
タ60は論理レベル“0”を出力し、ANDゲー
ト62を閉じ、ANDゲート66を開き、カウン
タ70に直接クロツクパルスCPのカウントを行
なわせる。すると、図面からも明らかな如く、カ
ウンタ70,74は、前記加工可能状態にあると
きに比し、1つのクロツクパルスCPを4倍の割
合でカウントしていく。従つて、乗算型DAコン
バータ78X,78Yは、カウンタ70,74に
入力されるクロツクパルスCPに応じ4単位づつ
Ex,Eyのピーク値を増加させ、電極10の公転
円運動の半径は、前記加工可能状態にあるときに
比し4倍の増加量△R2(△R2=4△R1)をもつて
漸次増加する。これにより、電極10と被加工物
12との加工間鎖隙は放電加工が可能となる範囲
まで急速に狭まる。そして、加工可能状態に入る
と、加工電圧検出信号V′dはV1〉V′dとなり、前
述した加工可能状態の動作に切換わる。
このような、加工可能状態、加工不可能状態に
おいて、電極10の公転速度は次のように制御さ
れる。まず、加工間隙が狭く検出信号V′dが小さ
い場合にはトランジスタ92の抵抗値は大きくラ
ンプ94への給電量は小さくなる。従つてランプ
94により照射される光導電セル50,52の抵
抗値も高く、2相発振器40の出力ex,eyの発振
周波数は低く、電極10の公転速度は遅くなる。
また、加工間隙が広くなるにつれ検出信号V′dも
高くなるのでトランジスタ92の抵抗値は漸次小
さくなり、ランプ94へ給電量も増える。従つ
て、光導電セル50,52の抵抗値も漸次低下
し、2相発振器40の出力ex,eyの発振周波数も
高くなり、電極10の公転速度は速くなる。この
ように、加工間隙すなわち電極10の加工代に応
じて電極10の公転速度が最適状態に制御され、
例えば加工間隙が狭く短絡等が発生しやすい場合
には、公転速度を遅くして電極10が上に逃げる
に充分な時間を確保でき、電極10と被加工物1
2とがこすり合うことはない。また、加工間隙が
広い場合には公転速度が増し、加工間隙に存する
加工粉やスラツジが排出される。
おいて、電極10の公転速度は次のように制御さ
れる。まず、加工間隙が狭く検出信号V′dが小さ
い場合にはトランジスタ92の抵抗値は大きくラ
ンプ94への給電量は小さくなる。従つてランプ
94により照射される光導電セル50,52の抵
抗値も高く、2相発振器40の出力ex,eyの発振
周波数は低く、電極10の公転速度は遅くなる。
また、加工間隙が広くなるにつれ検出信号V′dも
高くなるのでトランジスタ92の抵抗値は漸次小
さくなり、ランプ94へ給電量も増える。従つ
て、光導電セル50,52の抵抗値も漸次低下
し、2相発振器40の出力ex,eyの発振周波数も
高くなり、電極10の公転速度は速くなる。この
ように、加工間隙すなわち電極10の加工代に応
じて電極10の公転速度が最適状態に制御され、
例えば加工間隙が狭く短絡等が発生しやすい場合
には、公転速度を遅くして電極10が上に逃げる
に充分な時間を確保でき、電極10と被加工物1
2とがこすり合うことはない。また、加工間隙が
広い場合には公転速度が増し、加工間隙に存する
加工粉やスラツジが排出される。
また、例えば加工間隙が狭すぎる等の理由によ
り電極10と被加工物12との間に短絡が生じる
と、検出信号V′bはV2〉V′dとなりコンパレータ
76で検出され、コンパレータ76は論理レベル
“0”を出力する。すると、ANゲート62,6
6はは閉じられANDゲート76bが開かれる。
これにより、カウンタ70,74の出力はクロツ
クパルスCPの入力に応じて4単位づつEx,Eyの
ピーク値を減少させ、電極10の公転円運動の半
径は漸次△R2づつ減少される。このようにして、
加工間隙が充分に開離し短絡が自然に除去される
と、加工電圧検出信号はV′dはV′d〉V2に復帰
し、前述した加工可能状態あるい加工不可能状能
の動作に切替わる。また、加工間隙が充分に開離
したにもかかわらず上記短絡が自続すると、抵抗
80を介してコンデンサ82の電荷の放電がすす
み、コンデンサ82のチヤージ電圧が設定電圧
V3より低下する。すると、コンパレータ84は
論理レベル“1”を出力しトランジスタ88をオ
ンしてランプ86を点灯するので、光導電セル5
0,52の抵抗値が下がり、2相発振器40の出
力ex,eyの発振周波数が増加する。これにより電
極10の公転周期とともに周速度が増加し、加工
粉、スラツジの排出効果が著しく増加する。更
に、公転半径を減少して公転するので加工精度を
悪化させるようなオーバカツト現象はなく、加工
精度は低速度で公転していた値を維持することが
できる。このようにして、加工粉、スラツジを効
率よく排出し短絡状態を迅速に解消し、再び前記
加工可能状態また加工不可能状態に切替わる。
り電極10と被加工物12との間に短絡が生じる
と、検出信号V′bはV2〉V′dとなりコンパレータ
76で検出され、コンパレータ76は論理レベル
“0”を出力する。すると、ANゲート62,6
6はは閉じられANDゲート76bが開かれる。
これにより、カウンタ70,74の出力はクロツ
クパルスCPの入力に応じて4単位づつEx,Eyの
ピーク値を減少させ、電極10の公転円運動の半
径は漸次△R2づつ減少される。このようにして、
加工間隙が充分に開離し短絡が自然に除去される
と、加工電圧検出信号はV′dはV′d〉V2に復帰
し、前述した加工可能状態あるい加工不可能状能
の動作に切替わる。また、加工間隙が充分に開離
したにもかかわらず上記短絡が自続すると、抵抗
80を介してコンデンサ82の電荷の放電がすす
み、コンデンサ82のチヤージ電圧が設定電圧
V3より低下する。すると、コンパレータ84は
論理レベル“1”を出力しトランジスタ88をオ
ンしてランプ86を点灯するので、光導電セル5
0,52の抵抗値が下がり、2相発振器40の出
力ex,eyの発振周波数が増加する。これにより電
極10の公転周期とともに周速度が増加し、加工
粉、スラツジの排出効果が著しく増加する。更
に、公転半径を減少して公転するので加工精度を
悪化させるようなオーバカツト現象はなく、加工
精度は低速度で公転していた値を維持することが
できる。このようにして、加工粉、スラツジを効
率よく排出し短絡状態を迅速に解消し、再び前記
加工可能状態また加工不可能状態に切替わる。
以上の如く、電極10と被加工物12との加工
間隙が常に適正な値に維持されつつ仕上加工が行
なわれる。
間隙が常に適正な値に維持されつつ仕上加工が行
なわれる。
なお、上記実施例では、工具電極の公転運動の
半径が漸次拡大する加工について説明したが、こ
れに限らず、工具電極が被加工物の外周を加工す
るような場合にも用いることができる。この場合
には、工具電極の公転運動の半径が漸次縮小する
こととなるが、使用するカウンタを計算から減算
型にすれば足りる。
半径が漸次拡大する加工について説明したが、こ
れに限らず、工具電極が被加工物の外周を加工す
るような場合にも用いることができる。この場合
には、工具電極の公転運動の半径が漸次縮小する
こととなるが、使用するカウンタを計算から減算
型にすれば足りる。
また、実施例においては、被加工物を固定し工
具電極を公転運動させたものを示したが、逆に工
具電極を固定し被加工物を公転運動させても同様
の効果を得ることができる。
具電極を公転運動させたものを示したが、逆に工
具電極を固定し被加工物を公転運動させても同様
の効果を得ることができる。
以上の如く、本発明によれば、電極と被加工物
の一方を他方に対し公転運動させる際、加工状態
に応じて加工間隙の開離巾を適切に制御しかつそ
の開離巾に応じて公転速度を適切に制御すること
により、電極と被加工物とのこすれによる電極の
破損を防止し、かつ良好な加工を行なうことがで
き、しかも公転運動によるスラツジや加工粉の排
出を効果的に行なうことができるため、作業能率
を著しく改善することの可能な放電加工装置を得
ることができる。
の一方を他方に対し公転運動させる際、加工状態
に応じて加工間隙の開離巾を適切に制御しかつそ
の開離巾に応じて公転速度を適切に制御すること
により、電極と被加工物とのこすれによる電極の
破損を防止し、かつ良好な加工を行なうことがで
き、しかも公転運動によるスラツジや加工粉の排
出を効果的に行なうことができるため、作業能率
を著しく改善することの可能な放電加工装置を得
ることができる。
第1図は従来の放電加工装置の説明図、第2図
はその電極構造の一例を示す説明図、第3図は第
2図に示す電極を用いた場合の不具合を示す加工
説明図。第4図は電極に自動的に半径が拡大する
公転円運動を与えた場合の軌跡を示す説明図、第
5図は本発明の放電加工装置の実施例を示す説明
図、第6図はそのX―Yクロステーブルの制御装
置の説明図、第7図はその2相発振器の回路図、
第8図はその制御回路の回路図である。 各図中同一部材には同一符号を付し、10は工
具電極、12は被加工物、40は2相発振器、5
0,52は光導電セル、60,76,84はコン
パレータ、62,66,67bはANDゲート、
64,76aは反転器、68は発振器、70,7
4はカウンタ、78X,78Yは乗算型DAコン
バータ、80は抵抗、82はコンデンサ、86,
94はランプ、88,92はトランジスタであ
る。
はその電極構造の一例を示す説明図、第3図は第
2図に示す電極を用いた場合の不具合を示す加工
説明図。第4図は電極に自動的に半径が拡大する
公転円運動を与えた場合の軌跡を示す説明図、第
5図は本発明の放電加工装置の実施例を示す説明
図、第6図はそのX―Yクロステーブルの制御装
置の説明図、第7図はその2相発振器の回路図、
第8図はその制御回路の回路図である。 各図中同一部材には同一符号を付し、10は工
具電極、12は被加工物、40は2相発振器、5
0,52は光導電セル、60,76,84はコン
パレータ、62,66,67bはANDゲート、
64,76aは反転器、68は発振器、70,7
4はカウンタ、78X,78Yは乗算型DAコン
バータ、80は抵抗、82はコンデンサ、86,
94はランプ、88,92はトランジスタであ
る。
Claims (1)
- 1 電極と被加工物の一方を他方に対して略公転
運動させるとともにその運動経路を次第に拡大ま
たは縮小しつつ加工を行なう放電加工装置におい
て、電極―被加工物間の検出電圧から上記公転運
動中に上記電極の上記被加工物に対する加工間隙
の開離巾を検出する判別装置と、上記判別装置が
検出する開離巾に基づいて上記加工間隙の開離巾
を減少させる方向に上記運動経路を拡大または縮
小させるとともに上記判別装置の検出する加工間
隙の開離巾が異常に狭くなつた際には主加工送り
に対し略垂直な平面に沿つて開離巾を増加させる
方向に上記運動経路を拡大または縮小させる運動
経路決定装置と、上記判別装置が検出する加工間
隙の開離巾に基づき開離巾が大きくなつた際には
上記公転運動の公転速度を高めるように制御する
とともに、上記判別装置が検出する加工間隙の開
離巾が異常に狭くなつた状態が所定時間継続した
際には上記公転速度を高める公転速度決定装置
と、を備えたことを特徴とする放電加工装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12986880A JPS5754028A (ja) | 1980-09-17 | 1980-09-17 | Kakokikai |
| US06/300,864 US4491712A (en) | 1980-09-10 | 1981-09-10 | Fabricating machine |
| CH5861/81A CH659018A5 (de) | 1980-09-10 | 1981-09-10 | Verfahren und bearbeitungseinrichtung zum elektroerosiven bearbeiten eines werkstueckes. |
| DE19813135918 DE3135918A1 (de) | 1980-09-10 | 1981-09-10 | "fabrikationsmaschine" |
| US06/672,005 US4628173A (en) | 1980-09-10 | 1984-11-16 | Fabricating machine |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12986880A JPS5754028A (ja) | 1980-09-17 | 1980-09-17 | Kakokikai |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5754028A JPS5754028A (ja) | 1982-03-31 |
| JPS6411409B2 true JPS6411409B2 (ja) | 1989-02-23 |
Family
ID=15020271
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12986880A Granted JPS5754028A (ja) | 1980-09-10 | 1980-09-17 | Kakokikai |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5754028A (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH596936A5 (ja) * | 1976-05-05 | 1978-03-31 | Charmilles Sa Ateliers | |
| JPS5948692B2 (ja) * | 1978-07-24 | 1984-11-28 | 石川島播磨重工業株式会社 | ロ−ル支持装置 |
-
1980
- 1980-09-17 JP JP12986880A patent/JPS5754028A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5754028A (ja) | 1982-03-31 |
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