JPH01257301A - グレーズ抵抗体 - Google Patents

グレーズ抵抗体

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JPH01257301A
JPH01257301A JP63255167A JP25516788A JPH01257301A JP H01257301 A JPH01257301 A JP H01257301A JP 63255167 A JP63255167 A JP 63255167A JP 25516788 A JP25516788 A JP 25516788A JP H01257301 A JPH01257301 A JP H01257301A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、非酸化性雰囲気中での焼成で形成することの
できるグレーズ抵抗体に関するものである。このグレー
ズ抵抗体によれば、Cu配線導体等の卑金属配線導体と
厚膜抵抗体とを同一のセラミック基板上に形成すること
ができる0従来の技術 従来、厚膜ハイブリッドIC分野では、配線導体にムg
、ムgPel 、ムgPt等のムg系の貴金属を、抵抗
体にRuO、系をそれぞれ用い、空気中焼成方法により
回路を形成していた。(例えば、「厚膜ICt技術」日
本マイクロエレクトロニクス協会線、工業調査会刊行第
26頁〜第34頁) 発明が解決しようとする課題 最近、厚膜ハイブリッドIC分野では、高密度回路、高
速ディジタル回路への要望が高まっている。しかし、従
来の五g系配線導体では、マイグレーション、回路イン
ピーダンスの問題があり、この要望を十分に満たすこと
ができない。そこで、Cu配線導体を用いた厚膜ハイブ
リッドICが有望視されているが、Cu配線導体は空気
中で焼成すると酸化するため、Cu配線導体に用いる抵
抗体は非酸化性雰囲気中で焼成して形成しなければなら
ない。この条件を満たし、実用可能な特性を持つグレー
ズ抵抗体は、まだ開発されていない。
従って、本発明の目的は、空気中のみならず、Cu配線
導体と組合せることができる非酸化性雰囲気中焼成で形
成可能なグレーズ抵抗体を提供することにある。
課題を解決するための手段 上記目的を達成するための本発明のグレーズ抵抗体は、
金属珪化物と金属硼化物からなる導電成分が4.0〜7
0.0重量パーセント、ガラスが30.0〜96.0重
量パーセントからなり、金属硼化物の占める割合が1.
0〜68.0重量パーセントにあるものである。金属珪
化物と金属硼化物からなる導電成分が70.0重量パー
セントより多くなると抵抗体の焼結性が劣化し、4.0
重量パーセントよυ″少なくなると抵抗体に導電経路が
形成されず、十分な特性が得られない。また、金属硼化
物が68.0重量パーセントより多くなると抵抗体の焼
結性が劣化し、1.0重量パーセントより少ないと添加
効果がなく、十分な特性が得られない0作用 上記組成のグレーズ抵抗体と、樹脂バインダーを溶剤に
溶かしたビークルとで抵抗ペーストをつくり、これをセ
ラミック基板上に印刷し、非酸化性雰囲気中で850〜
950″Cで焼成すれば、実用可能な特性を有する抵抗
体を得ることができる0従って、Cu等の卑金属導体を
形成しているセラミック基板上に厚膜抵抗体を形成する
ことができる0 実施例 (実施例1) 次に、本発明の実施例に係るグレーズ抵抗体について述
べる。ガラスとしては、組成が酸化ホウ素(B20. 
) 36.0重量パーセント、酸化バリウム(BaO)
 38.0重量パーセント、酸化ケイ素(SiO□)9
.0重量パーセント、酸化アルミナ(ム120.)cs
、。
重量パーセント、酸化チタン(Tie、) 4.0重量
パーセント、酸化ジルコニウム(ZrO2) 4.0重
量バーセント、酸化タンタル(Ta205)  2.0
重量パーセント、酸化カルシウム(CaO)2.0重量
パーセント、酸化マグネシウム(MgO) 2.0重量
パーセントから成り、軟化点が約670″Cのものを用
いる。
上記ガラス、TaSi2. TiB、  を第1表に示
す割合で配合したものをビークル(アクリル系樹脂をタ
ーピネオールに溶かしたもの)と混練し、抵抗ペースト
とした。この抵抗ペーストを、Cu厚膜導体を電極とし
た96%アルミナ基板上に250メツシユのスクリーン
を用いて印刷し、120’Cの温度で乾燥させてから、
窒素ガスパージし、最高温度900℃に加熱したトンネ
ル炉を通して焼成し、抵抗体を形成した。この抵抗体の
26°Cにおける面積抵抗値と、26°Cと126℃の
温度間で測定した抵抗温度係数を第1表に示す。負荷寿
命特性(1150mW/−の負荷電力を、周囲温度70
’Cで、1.6時間印加、0.5時間除去を繰り返し1
000時間経過した時の抵抗値変化率で評価)、耐湿特
性(周囲温度85°C1相対湿度86%中で1000時
間経過した時の抵抗値変化率で評価)、熱衝撃特性(周
囲温度−66°C中で30分間放置、周囲温度126°
C中で30分間放置を繰り返し、1000時間経過した
時の抵抗値変化率で評価)は、いずれも抵抗値変化率が
±1%以内であった。
(以下 余 白) (実施例2) 実施例1で示したものと同じガラス、Taxi 2、硼
化物ム(TiB2. ZrB2を等量ずつ混合したもの
)を第2表に示す割合で配合したものをビークル(アク
リル系樹脂をターピネオールに溶かしたもの)と混練し
、抵抗ペーストとした。この抵抗ペーストを実施例1と
同様にして、96%アルミナ基板上に抵抗体を形成した
。この抵抗体の26°Cにおける面積抵抗値と、25°
Cと126℃の温度間で測定した抵抗温度係数を第2表
に示す。負荷寿命特性、耐湿特性、熱衝撃特性は実施例
1と同様に測定し、抵抗値変化率はいずれも±1%以内
であった。
(以下 余 白) (実施例3) 実施例1で示したものと同じガラス、珪化物人(Tax
i2.WSi2.MoSi2.NbSi2.TiSi2
. CrSi、、 。
ZrSi2.WSi2を等量ずつ混合したもの)、Ta
B2を第3表に示す割合で配合したものをビークル(ア
クリル系樹脂をターピネオールに溶かしたもの)と混練
し、抵抗ペーストとした。この抵抗ペーストを実施例1
と同様にして、96%アルミナ基板上に抵抗体を形成し
た。この抵抗体の26°Cにおける面積抵抗値と、26
°Cと126℃の温度間で測定した抵抗温度係数を第3
表に示す。負荷寿命特性、耐湿特性、熱衝撃特性は実施
例1と同様に測定し、抵抗値変化率はいずれも±1%以
内であった。
(以下余 白) (実施例4) 実施例1で示したものと同じガラス、珪化物ム(Tax
i 2 s WSi 2 e MoSi 2 、 Nb
Si 21 TiSi 2 a CrSi 2 *Zr
Si 2. yBl、を等量ずつ混合したもの)、硼化
物人(TiB、 、 ZrB2を等量ずつ混合したもの
)を第4表に示す割合で配合したものをビークル(アク
リル系樹脂をターピネオールに溶かしたもの)と混練し
、抵抗ペーストとした。この抵抗ペーストを実施例1と
同様にして、96%アルミナ基板上に抵抗体を形成した
。この抵抗体の26°Cにおける面積抵抗値と、26°
Cと126℃の温度間で測定した抵抗温度係数を第4表
に示す。負荷寿命特性、耐湿特性、熱衝撃特性は実施例
1と同様に測定し、抵抗値変化率はいずれも±1%以内
であった0 (以下 余 白) (実施例6) ガラスとしては、組成が酸化ホウ素(B20.)36.
0重量パーセント、酸化バリウム(Bad)36.0重
量パーセント、酸化ケイ素(Sin2) 9.0重量パ
ーセント、酸化アルミナ(ム120.)6.0重量パー
セント、酸化タンタル(T 2L 20 s ) 3.
0重量パーセント、酸化ニオブ(Wb205)3.0重
量パーセント、酸化バナジウム(v2o5) s、o重
量パーセント、酸化カルシウム(CaO)3.0重量パ
ーセント、酸化マグネシウム(MgO) 2.0重量パ
ーセントから成シ、軟化点が約640℃のものを用いる
上記ガラス、TiSi□、TaB2 を第5表に示す割
合で配合したものをビークル(アクリル系樹脂をターピ
ネオールに溶かしたもの)と混練し、抵抗ペーストとし
た。この抵抗ペーストを実施例1と同様にして、96%
アルミナ基板上に抵抗体を形成した。この抵抗体の25
°Cにおける面積抵抗値と、26℃と126℃の温度間
で測定した抵抗温度係数を第6表に示す。負荷寿命特性
、耐湿特性。
熱衝撃特性は実施例1と同様に測定し、抵抗値変化率は
いずれも±1%以内であった。
(以下余白) (実施例6) 実施例6で示したものと同じガラス、TaSi 2、硼
化物B (TaB、 、NbB2.VB2.WB 、M
ol 、 OrBを等量ずつ混合したもの)を第6表に
示す割合で配合したものをビークル(アクリル系樹脂を
ターピネオールに溶かしたもの)と混練し、抵抗ペース
トとした。この抵抗ベース(を実施例1と同様にして、
96%アルミナ基板上に抵抗体を形成した。
この抵抗体26℃における面積抵抗値と、25°Cと1
26℃の温度間で測定した抵抗温度係数を第6表に示す
。負荷寿命特性、耐湿特性、熱衝撃特性は実施例1と同
様に測定し、抵抗値変化率はいずれも±1%以内であっ
た。
(以下余白) (実施例7) 実施例1で示したものと同じガラス、珪化物B(TiS
i2. CrSi2. ZrSi2. VSi2  を
等量ずつ混合したもの)、TaB2を第7表に示す割合
で配合したものをビークル(アクリル系樹脂をターピネ
オールに溶かしたもの)と混練し、抵抗ペーストとした
。この抵抗ペーストを実施例1と同様にして、96%ア
ルミナ基板上に抵抗体を形成した。この抵抗体の26°
Cにおける面積抵抗値と、26°Cと126℃の温度間
で測定した抵抗温度係数を第7表に示す。負荷寿命特性
、耐湿特性、熱衝撃特性は実施例1と同様に測定し、抵
抗値変化率はいずれも±1%以内であった。
(以下余 白) (実施例8) 実施例1で示したものと同じガラス、珪化物B(TiS
i2.0rS12. ZrSi、 、 VSi2を等量
ずつ混合したもの)、硼化物B (TaB2. NbB
2. VB2. WB 。
MoB 、 CrBを等量ずつ混合したもの)を第8表
に示す割合で配合したものをビークル(アクリル系樹脂
をターピネオールに溶かしたもの)と混練し、抵抗ベー
スtとした。この抵抗ペーストを実施例1と同様にして
、96%アルミナ基板上に抵抗体を形成した。この抵抗
体の26°Cにおける面積抵抗値と、26°Cと125
℃の温度間で測定した抵抗温度係数を第8表に示す。負
荷寿命特性、耐湿特性、熱衝撃特性は実施例1と同様に
測定し、抵抗値変化率はいずれも±1%以内であった。
(以下余白) (実施例9) 実施例1で示したものと同じガラス、TiSi□、硼化
物B (TaB 2 * NbB 2 、 VB 21
 WB 、 MoB * CrBを等量ずつ混合したも
の)、Ta、05を第9表に示す割合で配合したものを
ビークル(アクリル系樹脂をターピネオールに溶かした
もの)と混練し、抵抗ペーストとした。この抵抗ペース
トを実施例1と同様にして、96%アルミナ基板上に抵
抗体を形成した。この抵抗体の26°Cにおける面積抵
抗値と、26℃と126℃の温度間で測定した抵抗温度
係数を第9表に示す。負荷寿命特性、耐湿特性、熱衝撃
特性は実施例1と同様に測定し、抵抗値変化率はいずれ
も±1%以内であった。
(以下余白) (実施例10) 実施例1で示したものと同じガラス、Ta5iz I硼
化物ム(TiB2. ZrB、を等量ずつ混合したもの
)、添加物ム(Ta205. Wb、05. V2O,
、MoO2,No、 。
ZrO,、Tie、 、 0r20.を等量ずつ混合し
たもの)を第10表に示す割合で配合したものをビーク
ル(アクリル系樹脂をターピネオールに溶かしたもの)
と混練し、抵抗ペーストとした。この抵抗ペーストを実
施例1と同様にして、96%アルミナ基板上に抵抗体を
形成した。この抵抗体の26°Cにおける面積抵抗値と
、26℃と126℃の温度間で測定した抵抗温度係数を
第10表に示す。負荷寿命特性、耐湿特性、熱衝撃特性
は実施例1と同様に測定し、抵抗値変化率はいずれも±
1%以内であった。
(以下余 白) (実施例11) 実施例1で示したものと同じガラス、珪化物ム(TaS
i2.WSi2.MoSi2.NbSi2.TiSi、
 、CrSi2゜ZrSi2. WSi2 を等量ずつ
混合したも)) 、TILB21Siを第11表に示す
割合で配合したものをビークル(アクリル系樹脂をター
ピネオールに溶かしたもの)と混練し、抵抗ペースFと
した。この抵抗ペーストを実施例1と同様にして、96
%アルミナ基板上に抵抗体を形成した。この抵抗体の2
5°Cにおける面積抵抗値と、26°Cと126℃の温
度間で測定した抵抗温度係数を第11表に示す。負荷寿
命特性、耐湿特性、熱衝撃特性は実施例1と同様に測定
し、抵抗値変化率はいずれも±1%以内であった。
(以下金 白) (実施例12) 実施例1で示したものと同じガラス、珪化物B(TiS
i2. CrSi、 、 ZrSi2. WSi2を等
量ずつ混合したもの)、ZrB2、添加物B (Si 
、Si、N4.SiC。
ムlN 、 BN 、 8102 を等量ずつ混合した
もの)を第12表に示す割合で配合したものをビークル
(アクリル系樹脂をターピネオールに溶かしたもの)と
混練し、抵抗ペーストとした。この抵抗ペーストを実施
例1と同様にして、96%アルミナ基板上に抵抗体を形
成した。この抵抗体の26°Cにおける面積抵抗値と、
26°Cと126℃の温度間で測定した抵抗温度係数を
第12表に示す。負荷寿命特性、耐湿特性、熱衝撃特性
は実施例1と同様に測定し、抵抗値変化率はいずれも±
1%以内であった。
(以 下金 白) 第1図〜第3図はそれぞれ本発明によるグレーズ抵抗体
を用いた実施例を示す図で、第1図は混成集積回路装置
に用いた例、第2図はチップ抵抗器に用いた例、第3図
は抵抗ネットワークに用いた例を示すものである。
第1図において、1は抵抗体、2はセラミック基板、3
は電極、4は半導体素子、6はチップ部品、6はオーバ
ーコートである。この第1図に示す例では、セラミック
基板20両面に電極3を所定の配線パターンで形成し、
そしてその電極3間に配設されるように印刷により厚膜
の抵抗体1を形成すると共に、半導体素子4.チップ部
品6を実装したものである。
また、第2図において、11は抵抗体、12はセラミッ
ク基板、13は電極、14はN1メツキ層、16は8n
−pb、7+、キ層、16はオーバーコーFである。こ
の第2図に示す例では、セラミック基板12の上面に抵
抗体11を形成し、かつその抵抗体11の両端に接続さ
れる電極13をセラミツク基板120両端部の上面、側
面及び底面に亘って形成し、さらにその電極13上にN
1メツキ層1a 、 5n−Pbメツキ層16を形成し
たものである。
さらに、第3図において、21は抵抗体、22はセラミ
ック基板、23は電極、24はリード端子、3oはコー
テイング材である。この第3図に示す例では、セラミッ
ク基板21上に所定の配線パターンで電極23を設け、
そしてその電極23によシ配線されるように抵抗体21
を設けたものである。
発明の効果 以上のように、本発明に係わるグレーズ抵抗体は、非酸
化性雰囲気中の焼成により形成することが可能であるた
め、Cu等の卑金属配線導体と共に回路を形成すること
ができる。従って、本発明によればCu配線厚膜ハイブ
リッドICを実現することができ、厚膜ハイブリッドI
Cの高密度化。
高速ディジタル化に寄与することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のグレーズ抵抗体を形成して構成した混
成集積回路装置の実施例の断面図、第2図は同じくチッ
プ抵抗器の実施例の断面図、第3図は同じく抵抗ネット
ワークの実施例の斜視図である。 1.11.21・・・・・・抵抗体、2,12.22・
・・・・・セラミック基板、3,13.23・・・・・
・電極、4・・・・・・半導体素子、5・・・・・・チ
ップ部品、6.16・・・・・・オーバーコート、14
・・・・・・N1メツキ層、16・・・・・・5n−P
bメツキ層、24・・・・・・リード端子、26・・・
・・・コーテイング材。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)金属珪化物と金属硼化物からなる導電成分が4.
    0〜7.00重量パーセント、ガラスが30.0〜96
    .0重量パーセントからなるグレーズ抵抗材料であって
    、金属硼化物の占める割合が1.0〜68.0重量パー
    セントにあることを特徴とするグレーズ抵抗体。
  2. (2)前記ガラスは、非酸化性雰囲気で焼成する際に金
    属化されにくい金属酸化物からなるものであり、軟化点
    が500℃〜800℃の範囲のものである請求項1記載
    のグレーズ抵抗体。
  3. (3)金属珪化物は、珪化タンタル,珪化タングステン
    ,珪化モリブデン,珪化ニオブ,珪化チタン,珪化クロ
    ム,珪化ジルコニウム,珪化バナジウムの内の少なくと
    も1種以上であって、珪化タンタル,珪化タングステン
    ,珪化モリブデン,珪化ニオブ,珪化チタン,珪化クロ
    ム,珪化ジルコニウム,珪化バナジウムはそれぞれ、T
    aSi_2,WSi_2,MoSi_2,NbSi_2
    ,TiSi_2,CrSi_2,ZrSi_2,VSi
    _2が90.0重量パーセント以上である請求項1記載
    のグレーズ抵抗体。
  4. (4)金属硼化物は、硼化タンタル,硼化ニオブ,硼化
    バナジウム,硼化タングステン,硼化モリブデン,硼化
    クロムの内の少なくとも1種である請求項1記載のグレ
    ーズ抵抗体。
  5. (5)金属硼化物は、硼化チタン,硼化ジルコニウムの
    いずれか、または両者の混合物であって、硼化チタン,
    硼化ジルコニウムはそれぞれ TiB_2,ZrB_2が90.0重量パーセント以上
    である請求項1記載のグレーズ抵抗体。
  6. (6)Ta_2O_5,Nb_2O_5,V_2O_5
    ,MoO_5,WO_5,ZrO_2,TiO_2,C
    r_2O_5およびこれらの低次酸化物の内、少なくと
    も1種を添加した請求項1記載のグレーズ抵抗体。
  7. (7)Si,Si_5N_4,SiC,AlN,BN,
    SiO_2の内、少なくとも1種を添加した請求項1記
    載のグレーズ抵抗体。
  8. (8)基板上に、請求項1記載のグレーズ抵抗体を形成
    して構成した混成集積回路装置。
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