JPH012645A - Structure of artificial bone implant - Google Patents
Structure of artificial bone implantInfo
- Publication number
- JPH012645A JPH012645A JP62-156471A JP15647187A JPH012645A JP H012645 A JPH012645 A JP H012645A JP 15647187 A JP15647187 A JP 15647187A JP H012645 A JPH012645 A JP H012645A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- porous layer
- implant
- implant body
- artificial bone
- fitted
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は人工骨インプラントの構造に関するものである
。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Field of Application) The present invention relates to the structure of an artificial bone implant.
（従来技術）
生体骨からの骨組織成長によって骨とインプラントとを
結合させる手段として、インプラント表面に多孔質層を
設ける場合、その焼結工程でインプラント本体の材質低
下を避ける必要がある。(Prior Art) When providing a porous layer on the surface of an implant as a means of bonding bone and implant by bone tissue growth from living bone, it is necessary to avoid deterioration of the material quality of the implant body during the sintering process.
従来インプラント表面に多孔質層を設ける方法として、
次のようなものがしられている。Conventionally, as a method of providing a porous layer on the implant surface,
The following are known.
１）Ｃｏ−Ｃｒ合金製インプラント本体に同村の粉末（
ビーズ）を焼結して多孔質層とする方法。1) Powder from the same village (
A method of sintering beads) into a porous layer.
この方法は焼結時に結晶粒が粗大化して疲労強度が低下
するという欠点がある。This method has the disadvantage that the crystal grains become coarse during sintering, resulting in a decrease in fatigue strength.
２）Ｔｉ−６ＡＱ−４Ｖ合金製インプラント本体にチタ
ン細線をおしかためたパッドをインプラント表面に拡散
接合して多孔質層とする方法。この方法はＴｉ−６ＡＩ
２−４Ｖと同村の細線の入手が容易ではない。2) A method in which a Ti-6AQ-4V alloy implant body is diffusion-bonded with a pad made of thin titanium wires on the implant surface to form a porous layer. This method uses Ti-6AI
It is not easy to obtain 2-4V and thin wire from the same village.
３）Ｔｉ−６ＡＱ−４Ｖ合金製インプラント本体に同村
の粉末をブラビティシンタリングし多孔質層とする方法
、この方法では焼結温度は１ｌｏｏ℃〜１３００℃を必
要とする。高温の方が焼結がよくすすむが、そうすると
本体の結晶粒粗大化を招き延性が低下する。3) A method in which the Ti-6AQ-4V alloy implant body is subjected to bulvitty sintering of the same powder to form a porous layer; this method requires a sintering temperature of 1loooC to 1300C. Sintering progresses better at high temperatures, but this leads to coarsening of the crystal grains of the main body and reduces ductility.
（発明の解決しようとする問題点）
本発明は多孔質層をインプラント本体の表面に設けるに
際し、多孔質層を直接本体に接合することに起因するイ
ンプラント本体の材質低下を避けることができる人工骨
インプラントの構造を提供しようとするものである。(Problems to be Solved by the Invention) The present invention provides an artificial bone that can avoid deterioration in the material quality of the implant body caused by directly bonding the porous layer to the implant body when providing the porous layer on the surface of the implant body. It attempts to provide the structure of the implant.
（発明による解決手段）
多孔質層とこれを固定したバックアップ板とからなるセ
グメントをインプラント本体に設けた多孔質層セグメン
ト電層用穴に嵌めたのち、前記多孔質層が嵌る開口を有
する多孔質層固定板を前記多孔質層セグメント上に被冠
したのち、インプラント本体の前記セグメント嵌挿用穴
の上部に設けた穴に嵌め、周縁をインプラント本体に対
し固着し、多孔質層がインプラント本体に直接固定しな
いようにした。(Solution by the Invention) After fitting a segment consisting of a porous layer and a backup plate to which the porous layer is fixed into a porous layer segment electrode layer hole provided in an implant body, a porous layer having an opening into which the porous layer is fitted is inserted. After the layer fixing plate is placed on the porous layer segment, it is fitted into the hole provided above the segment insertion hole of the implant body, the peripheral edge is fixed to the implant body, and the porous layer is attached to the implant body. I tried not to fix it directly.
（実施例）
第１図は人工骨で、１はインプラント本体、２はチタン
合金製の多孔質層固定板、３はチタン合金ビーズ等より
なる多孔質層である。多孔質層３とこれが接合された多
孔質層固定板２とで多孔質層セグメントａを構成してい
る。(Example) FIG. 1 shows an artificial bone, where 1 is an implant body, 2 is a porous layer fixing plate made of titanium alloy, and 3 is a porous layer made of titanium alloy beads. The porous layer segment a is composed of the porous layer 3 and the porous layer fixing plate 2 to which the porous layer 3 is bonded.
第２図は第１図の■−■断面を示す。インプラント本体
１の表裏面には第５図に示すような２段の穴５ａ、 ５
ｂが設けられインプラント本体１の表面に近い方の穴５
ａの方がインプラント本体１の芯に近い方の穴５ｂより
面積が大である。そして穴５ｂ内にチタン合金ビーズ製
多孔質層３のチタン合金製バックアップ板４が嵌り、穴
５ａに多孔質層固定板２が嵌る。FIG. 2 shows a cross section taken along the line ■-■ in FIG. On the front and back surfaces of the implant body 1, there are two holes 5a, 5 as shown in FIG.
b is provided in the hole 5 which is closer to the surface of the implant body 1.
The area of hole a is larger than that of hole 5b which is closer to the core of implant body 1. The titanium alloy backup plate 4 of the titanium alloy bead porous layer 3 is fitted into the hole 5b, and the porous layer fixing plate 2 is fitted into the hole 5a.
多孔質層固定板２には複数の開口６が穿設され、該開口
６にチタン合金製ビーズよりなる多孔質層３が嵌るよう
になっている。′多孔質層３をバックアップ板４に固定
するにはグラビテイシンタリングや加圧焼結等積々の方
法を採用することができる。なおバックアップ板４も多
孔質粉末で製作することができる。A plurality of openings 6 are formed in the porous layer fixing plate 2, and the porous layer 3 made of titanium alloy beads is fitted into the openings 6. 'In order to fix the porous layer 3 to the backup plate 4, various methods such as gravity sintering and pressure sintering can be adopted. Note that the backup plate 4 can also be made of porous powder.
バックアップ板４に取付けられた多孔質層３をインプラ
ント本体１に取付けるには、多孔質層３のバックアップ
板４を穴５ｂに嵌め、しかるのち多孔質層固定板２を穴
５ａに嵌めたのち、その周囲を電子ビーム溶接７等でイ
ンプラント本体１に固着する。To attach the porous layer 3 attached to the backup plate 4 to the implant body 1, the backup plate 4 of the porous layer 3 is fitted into the hole 5b, and then the porous layer fixing plate 2 is fitted into the hole 5a, and then, The periphery thereof is fixed to the implant main body 1 by electron beam welding 7 or the like.
（効果）
１）多孔質層３はインプラント本体１より完全に独立し
ているため、多孔質層３を設けることにより懸念される
インプラント本体１の疲労強度の低下をなくすことがで
きる。又仮に多孔質層３が破損してもインプラント本体
１まで影響を及ぼさない。(Effects) 1) Since the porous layer 3 is completely independent from the implant body 1, the provision of the porous layer 3 can eliminate the fear of a decrease in the fatigue strength of the implant body 1. Furthermore, even if the porous layer 3 is damaged, the implant main body 1 will not be affected.
２）多孔質層３およびバックアップ板４は完全にインプ
ラント本体１と分離されているため、インプラント本体
１に発生する応力は直接多孔質層３およびバックアップ
板４に伝えられず、多孔質層およびバックアップ板４に
は大きな応力が発生しない、したがって多孔質層３およ
びバックアップ板４の破壊が生じにくい。2) Since the porous layer 3 and backup plate 4 are completely separated from the implant body 1, the stress generated in the implant body 1 is not directly transmitted to the porous layer 3 and backup plate 4, and the stress generated in the implant body 1 is not directly transmitted to the porous layer 3 and backup plate 4. No large stress is generated in the plate 4, so the porous layer 3 and the backup plate 4 are less likely to be destroyed.
３）インプラント本体側は高品位の機械特性を備えたも
のを使用するが、多孔質層３を設ける際に高温の熱履歴
を受けることがないため、高品位の機械特性が損なわれ
ることがない。3) The implant body side uses a material with high-grade mechanical properties, but since it is not subjected to high-temperature thermal history when providing the porous layer 3, the high-grade mechanical properties are not impaired. .
４）多孔質層３とバックアップ板４とよりなる多孔質層
セグメントを各種寸法とり揃えて製作し、インプラント
本体１の各種寸法のものに組み合せて一体化するシステ
ムを取ることができ、製造コストを下げることができる
。4) It is possible to create a system in which the porous layer segments consisting of the porous layer 3 and the backup plate 4 are manufactured in various sizes, and are combined and integrated with the implant body 1 of various sizes, which reduces manufacturing costs. Can be lowered.
第１図は人工骨の斜視図。
第２図は第１図のｕ−ｎ断面図。
第３図は多孔質層固定板の斜視図。
第４図は多孔質層とこれを取付けたバックアップ板の斜
視図。
第５図はインプラント本体に設けた取付穴の断面図。
図において；
ａ 多孔質層セグメント
１ インプラント本体２ 多孔質層固定板３ 多孔質層
４ バックアップ板５ａ、５ｂ穴
６ （多孔質層取付固定板に設けた）開ロア 電子ビー
ム溶接
以上
出願人 住友重機械工業株式会社
復代理人 弁理士 大 橋 勇
第１図
第２０Figure 1 is a perspective view of the artificial bone. FIG. 2 is a sectional view taken along the line u-n in FIG. 1. FIG. 3 is a perspective view of the porous layer fixing plate. FIG. 4 is a perspective view of a porous layer and a backup board to which it is attached. FIG. 5 is a sectional view of a mounting hole provided in the implant body. In the figure: a Porous layer segment 1 Implant body 2 Porous layer fixing plate 3 Porous layer 4 Backup plates 5a, 5b holes 6 Open lower (provided on the porous layer attachment fixing plate) Electron beam welding Applicant: Sumitomo Heavy Industries, Ltd. Kikai Kogyo Co., Ltd. Sub-Agent Patent Attorney Isamu Ohashi Figure 1 Figure 20
Claims (1)
る多孔質層セグメントをインプラント本体に設けた多孔
質層セグメント嵌挿用穴に嵌めたのち、前記多孔質層が
嵌る開口を有する多孔質層固定板を前記セグメント上に
被冠したのちインプラント本体の前記多孔質層セグメン
ト嵌挿用穴の上部に設けた穴に嵌め、周縁をインプラン
ト本体に対し固着したことを特徴とする人工骨インプラ
ントの構造。 ２）多孔質層とバックアップ板との接合をグラビティシ
ンタリング、加圧焼結等で行うことを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載の人工骨インプラントの構造。 ３）多孔質層固定板のインプラント本体への固定を電子
ビーム溶接で行うことを特徴とする特許請求の範囲第１
項及び第２項記載の人工骨インプラントの構造。[Claims] 1) After a porous layer segment consisting of a porous layer and a backup plate to which the porous layer is fixed is fitted into a porous layer segment insertion hole provided in the implant body, the porous layer is fitted. A porous layer fixing plate having an opening is placed over the segment, and then fitted into a hole provided above the hole for inserting the porous layer segment in the implant main body, and the peripheral edge is fixed to the implant main body. Structure of artificial bone implant. 2) The structure of the artificial bone implant according to claim 1, wherein the porous layer and the backup plate are joined by gravity sintering, pressure sintering, or the like. 3) Claim 1, characterized in that the porous layer fixing plate is fixed to the implant body by electron beam welding.
Structure of the artificial bone implant according to Items 1 and 2.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62-156471A JPH012645A (en) | 1987-06-25 | Structure of artificial bone implant |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62-156471A JPH012645A (en) | 1987-06-25 | Structure of artificial bone implant |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS642645A JPS642645A (en) | 1989-01-06 |
| JPH012645A true JPH012645A (en) | 1989-01-06 |
Family
ID=
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