JPH01265205A

JPH01265205A - 偏光板

Info

Publication number: JPH01265205A
Application number: JP9337988A
Authority: JP
Inventors: Shinji Suzuki; 伸治鈴木; Tatsuya Numa; 達也沼; Hideo Danjo; 檀上　秀夫; Junji Toda; 順治戸田
Original assignee: Nippon Kayaku Co Ltd
Current assignee: Nippon Kayaku Co Ltd
Priority date: 1988-04-18
Filing date: 1988-04-18
Publication date: 1989-10-23
Anticipated expiration: 2012-01-08
Also published as: JP2568882B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野本発明は染料で塗布されてなる偏光板に関し更に詳しく
は任意の方向に偏光性を与え、かつその偏光部分が連続
的にパターン化された偏光板に関する。

従来の技術従来、偏光板を製造する代表的な方法としては、延伸ポ
リビニルアルコール膜をヨウ素で着色したのち透明基板
に貼着する方法がある。この種の偏光板は高い偏光度、
透過率の均一性、材質の安定性において優れている。し
かし、この偏光板は、ポリビニルアルコール膜の延伸方
向にのみ偏光性が得られるものであり、この延伸が通常
一方向にしか出来ないため、偏光方向も一方向に限定さ
れ、円状、放射状、波状等の偏光板を製造することが出
来ないという欠点がある。

従って、この種の偏光板を用いて例えば偏光軸が放射状
に伸びた偏光板を得るには、扇状形に切断された、半径
方向に偏光性を有する多数の偏光板を円状に貼着する等
の方法を採用しなければならないため、製作も困難であ
り、高価なものとなり、且つ連続的な偏光軸をもった偏
光板が得られにくいという欠点がある。

一方、ガラス、有機膜等に偏光性を直接形成させろ方法
としては、例えば米国特許第２．４００，８７７号等に
記載されている方法がある。

この方法は、ガラス、或いは有機膜を予め、布、紙、パ
フ等でラビングしておき、その後、二色性色素をコーテ
ィングしてラビングされた方向に二色性色素を配向させ
る方法である。この方法は、二色性色素をコーティング
する前に、ガラス、或いは有機膜にラビング処理を行い
、このラビング方向に二色性色素を配向させるもの・で
あり、ラビング方向を任意に変えることにより、連続的
にパターン化された、むらの少ない偏光板を形成するこ
とが出来る。しかし、該米国！持許記載の二色性色素を
用い、ガラス、或いは有機膜に偏光性を直接形成させた
場合、偏光能が低く、コントラストが優れな（・と−・
う欠点がある。

発明が解決しようとする課題偏光能が高く、コントラストに優れ、任意の方向に偏光
性を与え、偏光部分が連続的にパターン化された、むら
の少ない偏光板が望まれている。

課題を解決するための手段染料を用いた偏光板において、偏光軸が任意の方向であ
って、偏光能力が高く、コントラストの優れた偏光板を
得るべく鋭意研発を重ねた結果本発明に至った。

即ち、本発明は式（１）〔式（１１において、ＡＩは低級アルキル基、低級アル
コキシ基又はスルホン酸基で置換されてし・てもよいフ
ェニル基を、　Ａ２はスルホン酸基で置換されていても
よいフェニル基を、Ｒ３とＲ４は水素原子、水酸基又は
低級アルコキシ基を、Ｒ２＊　１１３１Ｒｓ、１１ａは
それぞれ独立に水素原子、水酸基又はスルホン酸基を、
Ｒ７は水素原子、メチル基又は置換されていてもよいフ
ェニル基をそれぞれ表す。〕で表される化合物と下記式（ＩＩ）及び／′又は（Ｉｎ
）〔式（１１）において、Ｒ，、ＩＩ、は互いに独立し
て水素原子、メチル基、メトキシ基又はスルホン酸基を
、Ｂは水酸基、スルホン酸基又はアミノ基で置換された
ナフチル基をそれぞれ表す。〕〔式（ＩＩ）において、
Ｃは水酸基、アミノ基又はスルホン酸基で置換さ扛てい
てもよいナフチル基を、Ｄは低級アルキル基、低級アル
コキシ基、水酸基若しくはスルホン酸基で置換されそい
てもよいフェニレン基又はナフチレン基を、Ｒ＋ｏハ水
素原子、メチル基、アセチル基、カルバモイル基、置換
されていてもよいフェニル基又はベンゾイル基をそれぞ
れ表す。〕で表される化合物との混合物を塗布してなる
偏光板を提供する。

本発明で用いる式（１）で表される化合物は、−膜内に
は次の方法によって製造出来る。即ち、式ＧＶ）ＡＩ　　Ｎｌ２　　　　　ＧＶ）〔式（ＩＶ）において、　ＡＩは低級アルキル基、低級
アルコキシ基又はスルボン酸基で置換されていてもよい
フェニル基を表す。〕で表される化合物を常法によりジ
アゾ化し、弐ＭＲ１〔式（■において、ＲＩは水素原子、水酸基又は低級ア
ルコキシ基を、　Ｒ２とＲ３はそれぞれ独立に水素原子
、水酸基又はスルホン酸基を表す。〕で表される化合物
にカップリングし、式（７）〔式（■中、ＡＩ、ＲＩ、
Ｒ２及び亀は前記と同じ意味を表す。〕で表される化合
物を製造する。更に式例の化合物を常法によりジアゾ化
して式（■１）ｐ。

〔式（ｖＩＩ）において、Ｒ４は水素原子、水酸基又は
低級アルコキシ基を、Ｒ５と凡はそれぞれ独立に水素原
子、水酸基又はスルホン酸基を表す。〕で表される化合
物にカップリングし、式（Ｖｌｌｌ）〔式（Ｖｌｌｌ）
中、ん、　Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５及び＆は前記
と同じ意味を表す。〕で表される化合物を製造する。

次いで、別途に、式（ＩＸ）ん−Ｎｌ２（ＩＸ）〔式（ＩＸ）中、Ａ２はスルホン酸基で置換されていて
もよいフェニル基を表す。〕で表される化合物を常法に
よりジアゾ化し、式（Ｘ）〔式（１）において、Ｒ７は
水素原子、メチル基又は置換されていてもよいフェニル
基を表ｔ。〕で表される化合物と酸性下でカップリング
し、式（ＸＩ）Ｎ＝Ｎ　Ａ２〔式（ＸＩ）中、ん及びＲ７は前記と同じ意味を表す。

〕で表される化合物を得る。次いで、式（Ｖメで表さ扛
る化合物を常法によりジアゾ化し、ピリジン水溶液中で
式（ＸＩ）で表される化合物とカップリングすることに
よって製造する。もちろん、これり外の製造ルートによ
っても式（１）で表される化合物を製造することが出来
る。

式（ＩＶ）で表される化合物の具体例としては、等を挙
げることが出来る。（式中「Ｓ」はｒＳＯＪ−ｊＪを意
味する。以下同じ。）弐Ｍ及び（Ｖｌ）で表される化合物の具体例とじては。

ＯＨ等を挙げることが出来る。

式（Ｘ）で表される化合物の具体例としては、０、■１等を挙げることが出来る。

文武（ＩＸ）で表される化合物の具体例としては等を挙
げることが出来る。

本発明で用いる式（ロ）で表される化合物は、−膜内に
は次の方法によって製造出来る。即ち、式（ＸＩＩ）Ｂ−ＮＨ２（ＸＩＩ）〔式（Ｘｌｌ　）において、Ｂは水酸基、スルホン酸基
、又はアミノ基で置換さ扛たナフチル基を表す。〕で表
される化合物を常法によりジアゾ化し、式（■）〔式（■）において、Ｒ８，Ｒ９は互いに独立して水素
原子。メチル基、メトキシ基又はスルホン酸基を表す。

〕で表される化合物とカップリングすることによって得
らｎた化合物２モルを、塩基の存在下で、ホスゲン１モ
ルと縮合することによって製造する。もちろん、これ以
外の製造ルートによっても弐（ＩＩ）で表される化合物
を製造することが出来る。

式（Ｘｌｌ）で表される化合物の具体例としては、等を
挙げることが出来る。

式（■）で表さ扛る化合物の具体例としては、等を挙げ
ることが出来る。

本発明で用いる式（１）で表される化合物は、−膜内に
は次の方法によって製造出来る。即ち、式（ＸＩＶ）ｃ　−Ｎｌｌ２（ＸＩＶ）〔式（′ｙＪＶ）において、Ｃは水酸基、アミノ基又は
スルホン酸基で置換されていてもよいナフチル基を表す
。〕で表される化合物を常法によりジアゾ化し、式（Ｘ
Ｖ）Ｄ　−ＮＦ２（ＸＶ）〔式（ＸＶ）において、Ｄは低級アルキル基、低級アル
コキシ基、水酸基若しくはスルホン酸基で置換されてい
てもよいフェニレン基又はナフチレン基を表す。〕で表
される化合物にカップリングし、式■）Ｃ−Ｎ＝Ｎ−Ｄ−ＮＦ２　　　　　（ＸＶＩ）〔式（Ｘ
ＶＩ）中、Ｃ及びＤは前記と同じ意味を表す。〕で表さ
れる化合物を製造する。更に、式（ＸＶＩ）の化合物を
常法によりジアゾ化して式（ＸＶＩＩ）Ｈ〔式（Ｘ１１１１）において、１１１Ｇは水素原子、メ
チル基、アセチル基、カルバモイル基、置換すれていて
もよいフェニル基又はベンゾイル基を表す。〕で表され
る化合物とカップリングすることによって製造する。も
ちろん、これ以外の製造ルートによっても式（ＩＩ）で
表される化合物を製造することが出来る。

式（ｘｒｖ）で表される化合物の具体例としては、等を
挙げることが出来る。

式（ＸＶ）で表される化合物の具体例としては、等を挙
げることが出来る。

式（ＸＶｌｌ）で表される化合物の具体例としては、等
を挙げることが出来る。

式（１）、（Ｉｌｌ、（Ｉ［）で表される化合物は通常
す）　ＩＪウム塩として利用するが、それらは遊離酸と
して、或いは、カリウム塩、リチウム塩、アンモニウム
塩、アルキルアミン類、エタノールアミン類の塩として
も利用することが出来る。

弐（１１、（■）、（ＩＩ）で表される化合物はそれぞ
れ単独で用いた場合においても偏光能を有するが、二種
又は三種を配合することにより、単独の場合よりも優れ
た偏光能を有する偏光板を製造出来る。更に、弐（１）
、　（ｆｌｌ、（ＩＩＩ）の配合比を変えることにより
種々の色相を有する偏光板を製造することが出来る。

本発明の偏光板は、−膜内には予めラビング処理を施し
た基材上に、式（１）で表される化合物と（Ｕ）及び／
′又はｆ、ＩＩ、ｌで表される化合物とを含有した溶液
を塗布することにより得られる。　　　　“本発明の偏
光板に用いられる基材としては、ガラスの他、トリアセ
チルセルローズフィルム（以下ＴＡＣフィルムという）
、ジアセチルセルローズフィルム、セルローズアセテー
トフィルム、ポリエステルフィルム、塩化ビニールフィ
ルム、ポリスチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム
、ポリアミドフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリエ
ーテルスルホンフィルム、アク’Ｊ　ル系フィルム等が
用いられるが、これらのうち好ましいものは、Ｔへ〇フ
ィルム、ポリエステルフィルム等を挙ケろことができる
。これらの基材は場合により、コロナ処理、シランカッ
プリング処理等の表面処理を行ってから用いることが出
来る。

ラビング剤としては、布、紙、皮革、綿、フェルト、パ
フ等を、場合によりクレー、ジルコニア、アルミナ等の
研磨剤と共に用いることが出来る。また、ラビングの程
度はラビング剤によって異なるが、ラビングの回数は１
〜３０回が望ましい。

式（１）で表される化合物と式（ＩＩ）及び／又は式（
１）で表される化合物を溶かすための溶剤としては水及
び水と混合しうる有機溶剤類が適し、その具体例として
は、水、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプ
ロピルアルコール、エチレングリコール等のアルコール
類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソル
ブ類、アセトン、ジメチルホルムアミド等の単独又は二
種以上の混合溶剤を挙げることが出来る。

式（１）で表される化合物と式（ＩＩ）及び／又は式（
Ｍｌで表される化合物を溶解すべき濃度は溶媒忙より異
なるが、０．５〜１０％が望ましい。更に、場合により
界面活性剤等の添加剤を加えることが出来る。

式（１）で表される化合物と式（ｉｔ）及び／′又は式
（Ｉｆｆ）で表される化合物溶液を基材に塗布する塗布
法としては例えば、バーコーター、スプレー、ロール等
のコート法にて塗布出来る。コート時の温度は通常Ｏ〜
８０℃、好ましくは２５〜４０℃である。乾燥温度は２
５〜１２０℃、好ましくは５０〜８０℃である。

このようにして製造された偏光板はそのまま使用される
他、耐久性を要求される分野においてはポリエステル、
塩化ビニール、トリアセチルセルローズ、アクリル樹脂
、ポリエーテルスルホン等の支持フィルムを接着したり
、特殊アクリル樹脂等でコーティングして高耐久性の偏
光板として使用に供される。

本発明の偏光板は各種デイスプレィ、装飾材料、透過防
止、フィルター等に用いることができる。

以下実施例により本発明を更に詳しく説明する。尚、実
施例において部は重量部をあられしスルホン酸基は遊離
酸の形で表すものとする。

また、ＳはＳ　０３　Ｈを表すものとする。なお波長３
８０〜７０００ｍの範囲で求めた三刺激値のＹ値で表し
、単板の場合なＹ＋　（視感透過率）、二枚を平行位に
配した場合をＹ／／、二枚を直行位に配した場合をＹ工
で表すと、平均偏光率ρはＹ／／、ＹＬを用いて次式に
よって定義される。

実施例１゜水１００部に非イオン性界面活性剤エマルゲン９２０（化工アトラス
社製）０．０５部を加え、加熱溶解後冷却し、濾過して
不溶解分を除去することにより染料溶液を得た。

ＴＡＣフィルム（厚さ８０μ）の全面を縦方向にフェル
トで１０回ラビングし、その後一定間隔で横方向に２０
回ラビングした後、水洗、乾燥した。

得られたフィルム上に前記染料溶液をバーコーターで塗
布した後、６０℃で乾燥することによって偏光板を得た
。このものはデイスプレーとして用いられる。

得られた偏光板の視感透過率Ｙｄ家３６．０％、平均偏
光率ρは８０．０％であった。

実施例２゜水９５部、インプロビルアルコール５部の混合溶媒に非イオン性界面活性剤エマルゲン９２０（化工アトラス
社製）０．０５部を加え、加熱溶解後冷却し、濾過して
不溶解分を除去することにより染料溶液を得た。

ＴＡＣフィルム（厚さ８０μ）の全面を縦方向に工業用
ワイピング材キムワイプ（十條キンバリー社製、ワイパ
ーＳ−２００）でラビングし、その後一定間隔で横方向
にラビングした後、水洗、乾燥した。得られたフィルム
上に前記染料溶液をバーコーターで塗布した後、６０℃
で乾燥することによって偏光板を得た。

得られた偏光板の視感透過率Ｙ１は３７．３％、平均偏
光率ρは８１．０％であった。

実施例３゜水１００部に非イオン性界面活性剤エマルゲンＬ−７０（化工アトラ
ス社製）０．０５部を加え、加熱溶解後冷却し濾過して
不溶解分を除去することにより染料溶液を得た。

ＴＡＣフィルム（厚さ８０μ）の全面を実施例２と同様
にラビングした後、水洗、乾燥した。得られたフィルム
上に前記染料溶液をバーコーターで塗布した後、熱風ド
ライヤーで４０℃で乾燥することによって偏光板を得た
。

得られた偏光板の視感透過率Ｙ、は４１．０％、平均偏
光率ρは８３．０％であった。

実施例４水１００部にＳ　　　　　　　　　　　　　Ｓ非イオン性界面活性剤エマルゲンＬ−７０（化工アトラ
ス社製）０．０５部を加え、加熱溶解後冷却し濾過して
不溶尊公を除去することにより染料溶液を得た。

ＴＡＣフィルム（厚さ８０μ）の全面を実施例２と同様
にラビングした後、水洗、乾燥した。得られたフィルム
上に前記染料溶液をバーコーターで塗布した後、６０℃
で乾燥することによって偏光板を得た。

得られた偏光板の視感透過率Ｙ、は４００％、平均偏光
率ρは８３．５％であった。

実施例５〜実施例１９゜・実施例３において使用する染料の種類及びそれらの使
用量を表に示された「染料構造」及び「使用量」に代え
る他は実施例３と同様に処理して偏光板を得た。そして
それら視感透過率及び平均偏光率をそれぞれ「透過率」
及び「偏光率」として表に示した。

発明の効果偏光軸が任意の方向に、かつ連続的にパターン化された
高い偏光率を有する偏光板が容易にかつ安価に製作出来
るようになった。

Claims

【特許請求の範囲】１、下記式（１） ▲数式、化学式、表等があります▼（１）〔式（１）において、Ａ＿１は低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基又はスルホン酸基で置換されていてもよいフ
ェニル基を、Ａ＿２はスルホン酸基で置換されていても
よいフェニル基を、Ｒ＿１とＲ＿４は水素原子、水酸基
又は低級アルコキシ基を、Ｒ＿２、Ｒ＿３、Ｒ＿５、Ｒ
＿６はそれぞれ独立に水素原子、水酸基又はスルホン酸
基を、Ｒ＿７は水素原子、メチル基又は置換されていて
もよいフェニル基をそれぞれ表す。〕で表される化合物と下記式（II）及び／又は（III）▲
数式、化学式、表等があります▼（II）〔式（II）において、Ｒ＿８、Ｒ＿９は互いに独立して
水素原子、メチル基、メトキシ基又はスルホン酸基を、
Ｂは水酸基、スルホン酸基又はアミノ基で置換されたナ
フチル基をそれぞれ表す。〕 ▲数式、化学式、表等があります▼（III）〔式（III）において、Ｃは水酸基、アミノ基又はスル
ホン酸基で置換されていてもよいナフチル基を、Ｄは低
級アルキル基、低級アルコキシ基、水酸基若しくはスル
ホン酸基で置換されていてもよいフェニレン基又はナフ
チレン基を、Ｒ＿１＿０は水素原子、メチル基、アセチ
ル基、カルバモイル基、置換されていてもよいフェニル
基又はベンゾイル基をそれぞれ表す。〕で表される化合
物との混合物を塗布してなる偏光板。