JPH01271909A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH01271909A JPH01271909A JP9943088A JP9943088A JPH01271909A JP H01271909 A JPH01271909 A JP H01271909A JP 9943088 A JP9943088 A JP 9943088A JP 9943088 A JP9943088 A JP 9943088A JP H01271909 A JPH01271909 A JP H01271909A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- perfluorocarbon
- acid resin
- thin film
- magnetic recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims description 26
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 13
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims abstract description 9
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- ZFLIKDUSUDBGCD-UHFFFAOYSA-N parabanic acid Chemical compound O=C1NC(=O)C(=O)N1 ZFLIKDUSUDBGCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 11
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 abstract description 3
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 abstract 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 description 16
- 239000010408 film Substances 0.000 description 14
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 3
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 3
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 229910003481 amorphous carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoroethylene Chemical compound FC(F)=C(F)Cl UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- QIVUCLWGARAQIO-OLIXTKCUSA-N (3s)-n-[(3s,5s,6r)-6-methyl-2-oxo-1-(2,2,2-trifluoroethyl)-5-(2,3,6-trifluorophenyl)piperidin-3-yl]-2-oxospiro[1h-pyrrolo[2,3-b]pyridine-3,6'-5,7-dihydrocyclopenta[b]pyridine]-3'-carboxamide Chemical compound C1([C@H]2[C@H](N(C(=O)[C@@H](NC(=O)C=3C=C4C[C@]5(CC4=NC=3)C3=CC=CN=C3NC5=O)C2)CC(F)(F)F)C)=C(F)C=CC(F)=C1F QIVUCLWGARAQIO-OLIXTKCUSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018104 Ni-P Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018536 Ni—P Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001096 P alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910001004 magnetic alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- -1 phosphorus compound Chemical class 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000004671 saturated fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000003441 saturated fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003718 tetrahydrofuranyl group Chemical group 0.000 description 1
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は非磁性基板状に強磁性金属薄膜を設けて成る磁
気記録媒体に関する。
気記録媒体に関する。
金属媒体を有する磁気記録媒体では、磁気ヘッドとの接
触に十分耐えろる機械的信頼性を有することが必要不可
欠である。磁気記録媒体はドライブ構成の簡略化により
、コンタクト・スタート・ストップ（以下Ｃ８Ｓ方式と
略す）が採用され、更に磁気記録面の保護のため、磁気
記録面以外のシツピングゾーンの同一トラックでＣ８Ｓ
が行われる場合が多い。
触に十分耐えろる機械的信頼性を有することが必要不可
欠である。磁気記録媒体はドライブ構成の簡略化により
、コンタクト・スタート・ストップ（以下Ｃ８Ｓ方式と
略す）が採用され、更に磁気記録面の保護のため、磁気
記録面以外のシツピングゾーンの同一トラックでＣ８Ｓ
が行われる場合が多い。
また、磁気記録の高密度化にともない磁気ヘッドもフェ
ライトミニモノリシックヘッドがら、コンポジットヘッ
ド、薄膜ヘッドと変わり、スライダー材の硬度が増加し
磁気記録体の保護膜の耐久性の向上が求められている。
ライトミニモノリシックヘッドがら、コンポジットヘッ
ド、薄膜ヘッドと変わり、スライダー材の硬度が増加し
磁気記録体の保護膜の耐久性の向上が求められている。
従来、金属磁性媒体の表面に飽和脂肪酸等の有機潤滑層
を設ける方法（特公昭５６−３０６０９号）脂肪酸アミ
ドとリン系化合物の混合潤滑層を設ける方法（特公昭５
９−１６５２３８）高級脂肪酸と脂肪酸金属塩の混合潤
滑層を設ける方法（特公昭５９−１７７７２８）等があ
るが、硬度の高いスライダーを有する磁気ヘッドでのＣ
８Ｓでは摩擦係数の上昇、クラッシュの問題がある。
を設ける方法（特公昭５６−３０６０９号）脂肪酸アミ
ドとリン系化合物の混合潤滑層を設ける方法（特公昭５
９−１６５２３８）高級脂肪酸と脂肪酸金属塩の混合潤
滑層を設ける方法（特公昭５９−１７７７２８）等があ
るが、硬度の高いスライダーを有する磁気ヘッドでのＣ
８Ｓでは摩擦係数の上昇、クラッシュの問題がある。
潤滑層と保護膜層との両方の特性を示す炭素質膜（特公
昭５４−３３５２１）（特開昭５３−１４３２０６）（
特開昭５６−４１５２４）は、ｃｓＳ時に傷が入らず磁
気ヘッドの衝撃を！！衝するため、磁気特性の劣化も見
られないが、硬度の高いスライダーを有する磁気ヘッド
でのＣ８Ｓでは、Ｃ８Ｓ回数の増加につれ炭素質膜が削
れ摩擦係数が増大するという問題を有していた。
昭５４−３３５２１）（特開昭５３−１４３２０６）（
特開昭５６−４１５２４）は、ｃｓＳ時に傷が入らず磁
気ヘッドの衝撃を！！衝するため、磁気特性の劣化も見
られないが、硬度の高いスライダーを有する磁気ヘッド
でのＣ８Ｓでは、Ｃ８Ｓ回数の増加につれ炭素質膜が削
れ摩擦係数が増大するという問題を有していた。
上述のごと〈従来技術では硬度の高いスライダーを有す
る磁気ヘッドとのＣ８Ｓでは十分な機械的信頼性が得ら
れず摩擦係数の上昇を押さえることができなかった。
る磁気ヘッドとのＣ８Ｓでは十分な機械的信頼性が得ら
れず摩擦係数の上昇を押さえることができなかった。
そこで本発明はこの様な問題点を解決するもので、その
目的とするところは硬度の高いスライダーを有する磁気
ヘッドでのＣ８Ｓでも強磁性金属媒体に機械的ダメージ
を与えず、かつ摩擦係数も増加しない磁気記録媒体を提
供することである。
目的とするところは硬度の高いスライダーを有する磁気
ヘッドでのＣ８Ｓでも強磁性金属媒体に機械的ダメージ
を与えず、かつ摩擦係数も増加しない磁気記録媒体を提
供することである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の磁気記録媒体は、非磁性基板上に形成された強
磁性金属媒体上にＣｒ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｎｂから選ばれる
少なくとも１種の物質より成る被膜の有無に於いて、炭
化物および炭素の物質より成る薄膜を形成し、概薄膜上
にポリパラバン酸樹脂が被覆され、概薄膜の表面にパー
フロロカーボンを被覆せしめたことを特徴とする。
磁性金属媒体上にＣｒ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｎｂから選ばれる
少なくとも１種の物質より成る被膜の有無に於いて、炭
化物および炭素の物質より成る薄膜を形成し、概薄膜上
にポリパラバン酸樹脂が被覆され、概薄膜の表面にパー
フロロカーボンを被覆せしめたことを特徴とする。
Ｃｒ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｎｂは強磁性体金属媒体と炭化物お
よび炭素間の密着をより確かにする目的で被覆し、その
膜厚は５０人〜１００人で十分である。
よび炭素間の密着をより確かにする目的で被覆し、その
膜厚は５０人〜１００人で十分である。
炭素はダイヤモンド状、グラファイト状、アモルフォス
状の何れでもよく膜厚は１５０人〜８００人形成する。
状の何れでもよく膜厚は１５０人〜８００人形成する。
以上は真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーテ
ィング法やＣＶＤ法の何れの方法でも形成可能である。
ィング法やＣＶＤ法の何れの方法でも形成可能である。
パーフロロカーボンは、Ｆ−（ｃＦ、・ＣＦｓ・ＣＦ、
Ｏ） 、＋ Ｃ，Ｆ５などの構造式で示されるパーフロ
ロポリエーテルを使用する。パーフロロカーボンとポリ
パラバン酸樹脂は極性溶媒に溶解し、スピンコード法、
スプレー法、等速用き上げ法の既知の塗布方で形成する
。何れの方法でも膜厚は２０人〜１００人が適切であっ
た。
Ｏ） 、＋ Ｃ，Ｆ５などの構造式で示されるパーフロ
ロポリエーテルを使用する。パーフロロカーボンとポリ
パラバン酸樹脂は極性溶媒に溶解し、スピンコード法、
スプレー法、等速用き上げ法の既知の塗布方で形成する
。何れの方法でも膜厚は２０人〜１００人が適切であっ
た。
強磁性金属媒体上に形成された炭化物、炭素は磁気ヘッ
ドのｓｅｐを緩衝する機能があるが硬度の高いスライダ
ーを有する磁気ヘッドとのＣ８Ｓでは炭素質膜が削れて
しまう。そこで炭素質膜の表面に、耐摩耗性の優れたポ
リパラバン酸樹脂を被覆する。ポリパラバン酸樹脂の被
膜は柔軟性にも富むため耐衝撃性にも強く、また耐熱性
にも優れており１８０℃で長時間保存しても劣化しない
。
ドのｓｅｐを緩衝する機能があるが硬度の高いスライダ
ーを有する磁気ヘッドとのＣ８Ｓでは炭素質膜が削れて
しまう。そこで炭素質膜の表面に、耐摩耗性の優れたポ
リパラバン酸樹脂を被覆する。ポリパラバン酸樹脂の被
膜は柔軟性にも富むため耐衝撃性にも強く、また耐熱性
にも優れており１８０℃で長時間保存しても劣化しない
。
パーフロロカーボンは摩擦力を低減する。
次に実施例で具体的に説明する。
〔実施例−１〕
鏡面仕上げされたディスク状アルミニウム合金基板状に
非磁性合金めっきとしてＮ１−Ｐ合金めっきを約１５μ
ｍの厚さにめっき後、研磨により１０μｍの厚さ、表面
粗き０．０３μｍ以下にし、更に金属磁性薄膜としてＧ
ｏ−Ｎｉ−Ｐ合金を約０．０６μｍＪｌにめっきした。
非磁性合金めっきとしてＮ１−Ｐ合金めっきを約１５μ
ｍの厚さにめっき後、研磨により１０μｍの厚さ、表面
粗き０．０３μｍ以下にし、更に金属磁性薄膜としてＧ
ｏ−Ｎｉ−Ｐ合金を約０．０６μｍＪｌにめっきした。
次にマグネトロンスパッタ法でＣｒを１００人、アモル
フォス状炭素質膜を３００人連続して形成した。
フォス状炭素質膜を３００人連続して形成した。
このディスクに下記処理液（１）約２ｍｌをディスクに
滴下し３０００ｒｐｍで２０秒間回転させるスピンコー
ドを行い、更にクリーンオープン中で１００°Ｃ３０分
焼成した。更に下記処理液（２）を用い等速用き上げ法
（引き上げ速度１００ｍ／ｍ１ｎ）で引き上げ、パーフ
ロロカーボンを塗布した。
滴下し３０００ｒｐｍで２０秒間回転させるスピンコー
ドを行い、更にクリーンオープン中で１００°Ｃ３０分
焼成した。更に下記処理液（２）を用い等速用き上げ法
（引き上げ速度１００ｍ／ｍ１ｎ）で引き上げ、パーフ
ロロカーボンを塗布した。
処理液（ｌン
ポリパラバン酸樹脂 ＸＴ−１リ ０．５ｇＤＭＦ
（ジメチルフォルムアミド） ５０ｍ１＊１東亜
燃料工業（株）製 処理液（２） ＫＲＹＴＯＸ１４３ＣＺ” ０．５ｇダイ
フＯ：／Ｓ−３” １０１００Ｏ＊２デ
ユポン社製 ＊３ダイキン工業（株）製 （実施例−２〕 実施例１と同様にして金属媒体を有するディスクを作成
した。
（ジメチルフォルムアミド） ５０ｍ１＊１東亜
燃料工業（株）製 処理液（２） ＫＲＹＴＯＸ１４３ＣＺ” ０．５ｇダイ
フＯ：／Ｓ−３” １０１００Ｏ＊２デ
ユポン社製 ＊３ダイキン工業（株）製 （実施例−２〕 実施例１と同様にして金属媒体を有するディスクを作成
した。
次にマグネトロンスパッタ装置でＮｂを１００Ａアモル
フォス状の炭素質膜を３００人連続して形成した。この
ディスクに下記処理液（３）約２ｍ１滴下し３０００ｒ
ｐｍで３０秒間回転させるスビンコートを行い、さらに
クリーンオーブンで１５０°Ｃ３０分焼成した。更に下
記処理液（４）を用い等速引き上げ法（引き上げ速度ｉ
ｏａｍ／ｍ１ｎ）で引き上げパーフロロカーボンを塗布
した。
フォス状の炭素質膜を３００人連続して形成した。この
ディスクに下記処理液（３）約２ｍ１滴下し３０００ｒ
ｐｍで３０秒間回転させるスビンコートを行い、さらに
クリーンオーブンで１５０°Ｃ３０分焼成した。更に下
記処理液（４）を用い等速引き上げ法（引き上げ速度ｉ
ｏａｍ／ｍ１ｎ）で引き上げパーフロロカーボンを塗布
した。
処理液（３）
ポリパラバン酸樹脂 ＸＴ−４°４ ０．２５ｇＴＨＦ
（テトラヒドロフラン） ３５ｍｌＤＭＦ
（ジメチルフォルムアミド） １５ｍ１＊４東亜燃
料工業（株）製 処理液（４） ＫＲＹＴＯＸ１４３ＡＺ ０．３ｇダイ
フロンＳ−５−３ｌ０００ 〔実施例−３〕 実施例１と同様にして金属媒体を有するディスクを作成
した。
（テトラヒドロフラン） ３５ｍｌＤＭＦ
（ジメチルフォルムアミド） １５ｍ１＊４東亜燃
料工業（株）製 処理液（４） ＫＲＹＴＯＸ１４３ＡＺ ０．３ｇダイ
フロンＳ−５−３ｌ０００ 〔実施例−３〕 実施例１と同様にして金属媒体を有するディスクを作成
した。
次にマグネトロンスパッタ装置でアモルフオス状の炭素
質膜を８００人形成した。次に下記処理液（５）を用い
、等速引き上げ法（引き上げ速度１０ｃｍ／ｍ１ｎ）で
引き上げ、クリーンオープン中で１５０°Ｃ３０分焼成
した。更に下記処理液（６）を用い等速引き上げ法（引
き上げ速度１０ｃｍ／ｍ１ｎ）で引き上げ、パーフロロ
カーボン塗布した。
質膜を８００人形成した。次に下記処理液（５）を用い
、等速引き上げ法（引き上げ速度１０ｃｍ／ｍ１ｎ）で
引き上げ、クリーンオープン中で１５０°Ｃ３０分焼成
した。更に下記処理液（６）を用い等速引き上げ法（引
き上げ速度１０ｃｍ／ｍ１ｎ）で引き上げ、パーフロロ
カーボン塗布した。
処理液（５）
ポリパラバン酸樹脂 ＸＴ−４０，５ｇＴ ＨＦ ’（
テトラヒドロフラ：／） ７００ｍｌＤＭＦ （
ジメチルフォルムアミド） ３００ｍ１処理液（６） ＦＯＭＢ Ｌ Ｉ ＮＺ−２５” ０
、５ ｇダイフ０ンＳ−３１０１００Ｏ ＊５モンテジソン社製 〔実施例−４〕 実施例１と同様にして金属媒体を有するディスクを作成
した。
テトラヒドロフラ：／） ７００ｍｌＤＭＦ （
ジメチルフォルムアミド） ３００ｍ１処理液（６） ＦＯＭＢ Ｌ Ｉ ＮＺ−２５” ０
、５ ｇダイフ０ンＳ−３１０１００Ｏ ＊５モンテジソン社製 〔実施例−４〕 実施例１と同様にして金属媒体を有するディスクを作成
した。
次にマグネトロンスパッタ装置でグラファイト状の炭素
質膜を５００人形成した。次に下記処理液（７）を用い
等速引き上げ法（引き上げ速度１０ｃ ｍ ／ ｍ ｉ
ｎ ）で引き上げ、クリーンオーブン中で８０°Ｃ３
０分焼成した。更に下記処理液（８）を用い等速引き上
げ法（引き上げ速度３０ｃｍ／ｍ１ｎ）で引き上げパー
フロロカーボンを塗布した。
質膜を５００人形成した。次に下記処理液（７）を用い
等速引き上げ法（引き上げ速度１０ｃ ｍ ／ ｍ ｉ
ｎ ）で引き上げ、クリーンオーブン中で８０°Ｃ３
０分焼成した。更に下記処理液（８）を用い等速引き上
げ法（引き上げ速度３０ｃｍ／ｍ１ｎ）で引き上げパー
フロロカーボンを塗布した。
処理液（７）
ポリパラバン酸樹脂ＸＴ−１０，５ｇ
ＴＨＦ（テトラヒドロフラｙ’） ７００ ｍ
ＩＤＭＦ （ジメチルフォルムアミド） ３００ｍ１
処理液（８） ＦＯＭＢＬＩＮＺ−２５１，０ｇ ダイフロンＳ−５−３ｌ０００ 〔比較例−１〕 実施例１に於いて処理液（１）を使用せず処理液（２）
でパーフロロカーボンを塗布した。
ＩＤＭＦ （ジメチルフォルムアミド） ３００ｍ１
処理液（８） ＦＯＭＢＬＩＮＺ−２５１，０ｇ ダイフロンＳ−５−３ｌ０００ 〔比較例−１〕 実施例１に於いて処理液（１）を使用せず処理液（２）
でパーフロロカーボンを塗布した。
〔比較例−２〕
実施例２に於いて処理液（３）を使用せず処理液（４）
でパーフロロカーボンを塗布した・〔比較例−３〕 実施例３に於いて処理液（５）を使用せず処理液（６）
でパーフロロカーボンを塗布した。
でパーフロロカーボンを塗布した・〔比較例−３〕 実施例３に於いて処理液（５）を使用せず処理液（６）
でパーフロロカーボンを塗布した。
〔比較例−４〕
実施例４に於いて処理液（７）を使用せず処理液（８）
でパーフロロカーボンを塗布した。
でパーフロロカーボンを塗布した。
以上の実施例、比較例のディスクをＣ３Ｓ試験した。Ｃ
ＳＳ試験は、浮上ｉｏ、２０μｍ、Ｈｖ１２００のスラ
イダー材質アルミナチタンカーバイドの薄膜ヘッドを用
いてＣＳＳ前とＣ３８２００００回後の静摩擦係数の測
定を行った。その結果を表に示す。
ＳＳ試験は、浮上ｉｏ、２０μｍ、Ｈｖ１２００のスラ
イダー材質アルミナチタンカーバイドの薄膜ヘッドを用
いてＣＳＳ前とＣ３８２００００回後の静摩擦係数の測
定を行った。その結果を表に示す。
尚本発明は、フロッピーディスク、磁気テープ、磁気カ
ードにも適用が可能であり、基板材料はガラス、プラス
チックでも同様の効果を奏する。
ードにも適用が可能であり、基板材料はガラス、プラス
チックでも同様の効果を奏する。
表
〔発明の効果〕
以上述べたように本発明によれば、炭素質膜状に耐摩耗
性の優れたポリパラバン酸樹脂を被服し更にフロロカー
ボンを被覆したことにより、硬度の高いスライダーを有
する薄膜磁気ヘッドでのＣ３Ｓにおいても潤滑層の剥離
、飛散がなく、低摩擦係数の維持が可能な機械的信頼性
の高い磁気記録媒体の提供が可能となった。
性の優れたポリパラバン酸樹脂を被服し更にフロロカー
ボンを被覆したことにより、硬度の高いスライダーを有
する薄膜磁気ヘッドでのＣ３Ｓにおいても潤滑層の剥離
、飛散がなく、低摩擦係数の維持が可能な機械的信頼性
の高い磁気記録媒体の提供が可能となった。
以上
出願人セイコーエプソン株式会社
代理人弁理土鈴木喜三部（他１名）
Claims (2)
- （１）非磁性基板状に形成された強磁性金属薄膜媒体上
に、炭化物および炭素の物質より成る薄膜が被覆され、
更に該薄膜にパラバン酸樹脂が被覆され、該薄膜の表面
にフロロカーボンを被覆せしめたことを特徴とする磁気
記録媒体。 - （２）強磁性金属薄膜媒体と炭化物および炭素の物質よ
り成る薄膜との間にＣｒ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｎｂから選ばれ
る少なくとも１種の物質より成る被膜が形成せしめられ
た事を特徴とする第１項記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9943088A JPH01271909A (ja) | 1988-04-22 | 1988-04-22 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9943088A JPH01271909A (ja) | 1988-04-22 | 1988-04-22 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01271909A true JPH01271909A (ja) | 1989-10-31 |
Family
ID=14247230
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9943088A Pending JPH01271909A (ja) | 1988-04-22 | 1988-04-22 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01271909A (ja) |
-
1988
- 1988-04-22 JP JP9943088A patent/JPH01271909A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4554217A (en) | Process for creating wear and corrosion resistant film for magnetic recording media | |
| JPH01271909A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS62103823A (ja) | 磁気デイスク | |
| JPH01134714A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01271911A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01271910A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01113916A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS61208620A (ja) | 磁気デイスク | |
| JPH02173929A (ja) | 磁気記憶媒体 | |
| JPS6061919A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPS63263626A (ja) | 磁気デイスク | |
| JPH02304714A (ja) | 磁気記憶媒体及びその製造方法 | |
| JPH02294923A (ja) | 磁性記憶媒体及びその製造方法 | |
| JPH01286112A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS63188823A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH02294922A (ja) | 磁性記憶媒体及びその製造方法 | |
| JPS62150525A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS62146430A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS62150526A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS63281220A (ja) | 磁気ディスク | |
| JPS63292416A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01106315A (ja) | 磁気デイスク媒体 | |
| JPS63239602A (ja) | 磁気記録装置 | |
| JPS63144413A (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| JPS6289216A (ja) | 磁気記憶体 |