JPH081475A - ターンテーブル装置 - Google Patents
ターンテーブル装置Info
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- JPH081475A JPH081475A JP14028894A JP14028894A JPH081475A JP H081475 A JPH081475 A JP H081475A JP 14028894 A JP14028894 A JP 14028894A JP 14028894 A JP14028894 A JP 14028894A JP H081475 A JPH081475 A JP H081475A
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- JP
- Japan
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- turntable
- fixed
- fixed housing
- housing
- sealing device
- Prior art date
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-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C37/00—Cooling of bearings
- F16C37/005—Cooling of bearings of magnetic bearings
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16C—SHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
- F16C32/00—Bearings not otherwise provided for
- F16C32/04—Bearings not otherwise provided for using magnetic or electric supporting means
- F16C32/0406—Magnetic bearings
- F16C32/0408—Passive magnetic bearings
- F16C32/0436—Passive magnetic bearings with a conductor on one part movable with respect to a magnetic field, e.g. a body of copper on one part and a permanent magnet on the other part
- F16C32/0438—Passive magnetic bearings with a conductor on one part movable with respect to a magnetic field, e.g. a body of copper on one part and a permanent magnet on the other part with a superconducting body, e.g. a body made of high temperature superconducting material such as YBaCuO
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- General Engineering & Computer Science (AREA)
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- Feeding Of Workpieces (AREA)
- Magnetic Bearings And Hydrostatic Bearings (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 軸受部分で発生する摩耗粉等により清浄空間
を汚す事のない装置を得る。 【構成】 ターンテーブル本体１に固定した永久磁石
２、２の下面と、固定ハウジング３に固定した超電導体
８、８の上面とを、密閉装置１４を構成する仕切板１５
を介して対向させる。冷却ジャケット１１内に液体窒素
を流通させる事で、上記超電導体８、８を冷却する。タ
ーンテーブル本体１の下面中央部にロータ２３を、固定
ハウジング３の上面中央部にステータ２５をそれぞれ設
けて、モータ２６を構成する。
を汚す事のない装置を得る。 【構成】 ターンテーブル本体１に固定した永久磁石
２、２の下面と、固定ハウジング３に固定した超電導体
８、８の上面とを、密閉装置１４を構成する仕切板１５
を介して対向させる。冷却ジャケット１１内に液体窒素
を流通させる事で、上記超電導体８、８を冷却する。タ
ーンテーブル本体１の下面中央部にロータ２３を、固定
ハウジング３の上面中央部にステータ２５をそれぞれ設
けて、モータ２６を構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明に係るターンテーブル装
置は、半導体製造装置や液晶製造装置に組み込んで、半
導体ウエハ等の被加工物を支持する。
置は、半導体製造装置や液晶製造装置に組み込んで、半
導体ウエハ等の被加工物を支持する。
【０００２】
【従来の技術】例えば半導体製造装置には、被加工物で
ある半導体ウエハを回転させるべく、ターンテーブルを
組み込んでいる。又、半導体製造装置の内部は、高真
空、高清浄でなければならない。この為従来は、上記タ
ーンテーブルを回転自在に支持する為の軸受として、
金、銀等の固体潤滑剤を使用した、真空用の玉軸受が使
用されていた。
ある半導体ウエハを回転させるべく、ターンテーブルを
組み込んでいる。又、半導体製造装置の内部は、高真
空、高清浄でなければならない。この為従来は、上記タ
ーンテーブルを回転自在に支持する為の軸受として、
金、銀等の固体潤滑剤を使用した、真空用の玉軸受が使
用されていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、真空用とは
言え、玉軸受によりターンテーブルを支持した場合に
は、微量の潤滑剤や摩耗粉が周囲に飛散し、周囲の清浄
度を低下させる可能性があった。近年、より高集積化さ
れた半導体の製造が行われる様になっている。従って、
半導体製造装置内部の清浄度が僅かとは言え低下する事
は好ましくない。本発明のターンテーブル装置は、この
様な事情に鑑みて発明したものである。
言え、玉軸受によりターンテーブルを支持した場合に
は、微量の潤滑剤や摩耗粉が周囲に飛散し、周囲の清浄
度を低下させる可能性があった。近年、より高集積化さ
れた半導体の製造が行われる様になっている。従って、
半導体製造装置内部の清浄度が僅かとは言え低下する事
は好ましくない。本発明のターンテーブル装置は、この
様な事情に鑑みて発明したものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明のターンテーブル
装置は、回転自在なターンテーブル本体と、このターン
テーブル本体の下面に固定された、このターンテーブル
本体の回転中心をその中心とする円環状の永久磁石と、
上記ターンテーブル本体の下方に設けられた固定ハウジ
ングと、この固定ハウジングに支持され、その上面を上
記永久磁石の下面に隙間を介して対向させる超電導体
と、この超電導体を冷却すべく、上記固定ハウジングに
付設された冷却装置と、上記隙間部分に配設された仕切
板を含んで構成され、上記超電導体及び固定ハウジング
を外部から遮断する密閉装置と、この密閉装置内を真空
にする為の真空手段と、上記仕切板の上側で上記ターン
テーブル本体の下面に固定されたロータと、上記仕切板
の下側で上記固定ハウジングに固定され、上記ロータと
組み合わされて電動モータを構成するステータとを備え
ている。
装置は、回転自在なターンテーブル本体と、このターン
テーブル本体の下面に固定された、このターンテーブル
本体の回転中心をその中心とする円環状の永久磁石と、
上記ターンテーブル本体の下方に設けられた固定ハウジ
ングと、この固定ハウジングに支持され、その上面を上
記永久磁石の下面に隙間を介して対向させる超電導体
と、この超電導体を冷却すべく、上記固定ハウジングに
付設された冷却装置と、上記隙間部分に配設された仕切
板を含んで構成され、上記超電導体及び固定ハウジング
を外部から遮断する密閉装置と、この密閉装置内を真空
にする為の真空手段と、上記仕切板の上側で上記ターン
テーブル本体の下面に固定されたロータと、上記仕切板
の下側で上記固定ハウジングに固定され、上記ロータと
組み合わされて電動モータを構成するステータとを備え
ている。
【０００５】
【作用】上述の様に構成される本発明のターンテーブル
装置の使用時には、冷却装置により超電導体を冷却し、
この超電導体を超電導状態とする。この状態では、固定
ハウジングに支持された超電導体とターンテーブル本体
の下面に固定された永久磁石との距離が、上記超電導体
のピン止め効果により一定に保たれる。この結果、上記
ターンテーブル本体が上記固定ハウジングから浮上した
ままの状態となり、このターンテーブル本体を軽い力で
回転可能となる。この状態で上記固定ハウジングに設け
たステータに通電すれば、上記ターンテーブル本体が回
転する。
装置の使用時には、冷却装置により超電導体を冷却し、
この超電導体を超電導状態とする。この状態では、固定
ハウジングに支持された超電導体とターンテーブル本体
の下面に固定された永久磁石との距離が、上記超電導体
のピン止め効果により一定に保たれる。この結果、上記
ターンテーブル本体が上記固定ハウジングから浮上した
ままの状態となり、このターンテーブル本体を軽い力で
回転可能となる。この状態で上記固定ハウジングに設け
たステータに通電すれば、上記ターンテーブル本体が回
転する。
【０００６】又、ターンテーブル装置の使用時には、真
空手段により密閉装置内を真空にする。この状態では、
この密閉装置内に収納された固定ハウジング及び超電導
体からこの密閉装置への熱伝導が極く僅かとなる。従っ
て、上記固定ハウジング及び超電導体を低温にしても、
上記密閉装置の温度が低下する事はなくなる。この結
果、密閉装置を構成する仕切板と対向するターンテーブ
ル本体の温度も必要以上に低下する事がなくなって、こ
のターンテーブル本体に載置された被加工物を、所望の
温度条件で加工できる。
空手段により密閉装置内を真空にする。この状態では、
この密閉装置内に収納された固定ハウジング及び超電導
体からこの密閉装置への熱伝導が極く僅かとなる。従っ
て、上記固定ハウジング及び超電導体を低温にしても、
上記密閉装置の温度が低下する事はなくなる。この結
果、密閉装置を構成する仕切板と対向するターンテーブ
ル本体の温度も必要以上に低下する事がなくなって、こ
のターンテーブル本体に載置された被加工物を、所望の
温度条件で加工できる。
【０００７】
【実施例】図１〜３は本発明の実施例を示している。円
板状のターンテーブル本体１の下面には、それぞれが円
環状に形成された複数個（図示の例では２個）の永久磁
石２、２を、図１〜２に示す様に同心円上に配置してい
る。これら各永久磁石２、２の中心は、上記ターンテー
ブル本体１の回転中心、即ち、このターンテーブル本体
１の中心と一致させている。又、これら各永久磁石２、
２は、軸方向（図１の上下方向）に亙って着磁されてい
る。更に、このターンテーブル本体１の外周縁には案内
筒６の上端部を外嵌固定している。従ってこの案内筒６
の下半部は、上記ターンテーブル本体１の下面から垂下
された状態となる。
板状のターンテーブル本体１の下面には、それぞれが円
環状に形成された複数個（図示の例では２個）の永久磁
石２、２を、図１〜２に示す様に同心円上に配置してい
る。これら各永久磁石２、２の中心は、上記ターンテー
ブル本体１の回転中心、即ち、このターンテーブル本体
１の中心と一致させている。又、これら各永久磁石２、
２は、軸方向（図１の上下方向）に亙って着磁されてい
る。更に、このターンテーブル本体１の外周縁には案内
筒６の上端部を外嵌固定している。従ってこの案内筒６
の下半部は、上記ターンテーブル本体１の下面から垂下
された状態となる。
【０００８】一方、上記ターンテーブル本体１の下方に
は固定ハウジング３を設けている。この固定ハウジング
３は、厚肉円板状に形成されたハウジング本体４と、こ
のハウジング本体４よりも少し大径の円板状に形成さ
れ、このハウジング本体４の下面に突き当てられた底板
５とから構成されている。これらハウジング本体４と底
板５とのうち、少なくともハウジング本体４は、銅、ア
ルミニウム等の伝熱性の良好な金属により造られてい
る。尚、好ましくはこれら両部材４、５は、熱膨張率が
同程度の材料（更に好ましくは同材質）により造る。
又、上記ハウジング本体４の下面と底板５の上面との当
接面は、接着剤、ろう材等によりシールされている。
は固定ハウジング３を設けている。この固定ハウジング
３は、厚肉円板状に形成されたハウジング本体４と、こ
のハウジング本体４よりも少し大径の円板状に形成さ
れ、このハウジング本体４の下面に突き当てられた底板
５とから構成されている。これらハウジング本体４と底
板５とのうち、少なくともハウジング本体４は、銅、ア
ルミニウム等の伝熱性の良好な金属により造られてい
る。尚、好ましくはこれら両部材４、５は、熱膨張率が
同程度の材料（更に好ましくは同材質）により造る。
又、上記ハウジング本体４の下面と底板５の上面との当
接面は、接着剤、ろう材等によりシールされている。
【０００９】上記ハウジング本体４の上面外周寄り部分
には、図１、３に示す様に、複数の凹部７、７を形成し
ており、これら各凹部７、７内に、超電導体８、８を嵌
合固定している。上記各凹部７、７は、前記ターンテー
ブル本体１及び上記ハウジング本体４の中心をその中心
とする円弧上に配置されている。従ってこれら各凹部
７、７内に固定された超電導体８、８の上面は、前記永
久磁石２、２の下面と、隙間９、９を介して対向する。
には、図１、３に示す様に、複数の凹部７、７を形成し
ており、これら各凹部７、７内に、超電導体８、８を嵌
合固定している。上記各凹部７、７は、前記ターンテー
ブル本体１及び上記ハウジング本体４の中心をその中心
とする円弧上に配置されている。従ってこれら各凹部
７、７内に固定された超電導体８、８の上面は、前記永
久磁石２、２の下面と、隙間９、９を介して対向する。
【００１０】尚、上記超電導体８、８としては、従来か
ら知られた各種のものを使用できるが、イットリウム
（Ｙ）系の超電導体が、液体窒素の温度で超電導状態と
なり、運転経費を安くできる事から好ましい。更にこの
うちで、超電導相内に常電導相を含むものは、大きなピ
ン止め力を得られ、重量の嵩むターンテーブル本体１を
浮上させられる事から、好ましく利用できる。
ら知られた各種のものを使用できるが、イットリウム
（Ｙ）系の超電導体が、液体窒素の温度で超電導状態と
なり、運転経費を安くできる事から好ましい。更にこの
うちで、超電導相内に常電導相を含むものは、大きなピ
ン止め力を得られ、重量の嵩むターンテーブル本体１を
浮上させられる事から、好ましく利用できる。
【００１１】又、前記ハウジング本体４の下面外周寄り
部分には、環状の凹部１０を形成し、この凹部と前記底
板５の上面とで囲まれる空間を冷却ジャケット１１とし
ている。そして、この冷却ジャケット１１の一端側（図
１の左側）に冷却剤送り込み管１２の上端部を、他端側
（図１の右側）に冷却剤取り出し管１３の上端部を、そ
れぞれ接続して、冷却装置２７を構成している。
部分には、環状の凹部１０を形成し、この凹部と前記底
板５の上面とで囲まれる空間を冷却ジャケット１１とし
ている。そして、この冷却ジャケット１１の一端側（図
１の左側）に冷却剤送り込み管１２の上端部を、他端側
（図１の右側）に冷却剤取り出し管１３の上端部を、そ
れぞれ接続して、冷却装置２７を構成している。
【００１２】又、前記固定ハウジング３及び超電導体
８、８は、密閉装置１４によって、外部から遮断されて
いる。この密閉装置１４は、前記隙間９部分に配設され
た仕切板１５と、上記固定ハウジング３の周囲に配設さ
れた外筒１６と、この固定ハウジング３の下側に設けら
れた下板１７とから構成されている。上記仕切板１５
は、銅、アルミニウム、合成樹脂等の非磁性材により薄
肉円板状に形成されている。又、上記外筒１６の上半部
の外径寸法は、前記案内筒６の内径寸法よりも小さく、
この外筒１６の下端部には、断面がクランク形の保持部
１９を形成している。
８、８は、密閉装置１４によって、外部から遮断されて
いる。この密閉装置１４は、前記隙間９部分に配設され
た仕切板１５と、上記固定ハウジング３の周囲に配設さ
れた外筒１６と、この固定ハウジング３の下側に設けら
れた下板１７とから構成されている。上記仕切板１５
は、銅、アルミニウム、合成樹脂等の非磁性材により薄
肉円板状に形成されている。又、上記外筒１６の上半部
の外径寸法は、前記案内筒６の内径寸法よりも小さく、
この外筒１６の下端部には、断面がクランク形の保持部
１９を形成している。
【００１３】上記固定ハウジング３の底板５の外周端部
５ａで、ハウジング本体４の外周面から突出した部分
は、上記保持部１９の内側に入り込んでいる。そして、
この外周端部５ａの上面と上記保持部１９の下面との
間、並びに上記外周端部５ａの下面と上記下板１７の上
面との間に断熱材１８ａ、１８ｂを挟持した状態で、上
記保持部１９を上記下板１７にねじ止め固定している。
上記仕切板１５の外周縁部と上記外筒１６の上端縁部と
の当接部、並びにこの外筒１６の下面と上記下板１７の
上面との当接部は、それぞれ接着剤、ろう材等でシール
している。又、上記ハウジング本体４及び前記超電導体
８、８の上面と上記仕切板１５の下面との間、上記ハウ
ジング本体４の外周面と外筒１６の内周面との間、並び
に底板５の外周縁と上記保持部１９の内周面との間には
隙間を介在させている。従って、上記固定ハウジング３
及び超電導体８、８は、上記冷却剤送り込み管１２、冷
却剤取り出し管１３、断熱材１８ａ、１８ｂの他は、他
の部材と接触しない状態で、上記密閉装置１４内に保持
されている。
５ａで、ハウジング本体４の外周面から突出した部分
は、上記保持部１９の内側に入り込んでいる。そして、
この外周端部５ａの上面と上記保持部１９の下面との
間、並びに上記外周端部５ａの下面と上記下板１７の上
面との間に断熱材１８ａ、１８ｂを挟持した状態で、上
記保持部１９を上記下板１７にねじ止め固定している。
上記仕切板１５の外周縁部と上記外筒１６の上端縁部と
の当接部、並びにこの外筒１６の下面と上記下板１７の
上面との当接部は、それぞれ接着剤、ろう材等でシール
している。又、上記ハウジング本体４及び前記超電導体
８、８の上面と上記仕切板１５の下面との間、上記ハウ
ジング本体４の外周面と外筒１６の内周面との間、並び
に底板５の外周縁と上記保持部１９の内周面との間には
隙間を介在させている。従って、上記固定ハウジング３
及び超電導体８、８は、上記冷却剤送り込み管１２、冷
却剤取り出し管１３、断熱材１８ａ、１８ｂの他は、他
の部材と接触しない状態で、上記密閉装置１４内に保持
されている。
【００１４】又、上記冷却剤送り込み管１２及び冷却剤
取り出し管１３は、上記下板１７に形成した通孔２０
ａ、２０ｂを挿通されて、この下板１７の下方にまで突
出している。そして、これら各管１２、１３の下端部外
周面と上記各通孔２０ａ、２０ｂの下端開口部との間に
ベローズ２１ａ、２１ｂを設けて、上記密閉装置１４内
外の気密保持を図っている。又、上記下板１７の中央部
上面には、図示しない真空ポンプ等の負圧源に通じる排
気管２２の端部を開口させて、上記密閉装置１４内を真
空にする為の真空手段を構成している。
取り出し管１３は、上記下板１７に形成した通孔２０
ａ、２０ｂを挿通されて、この下板１７の下方にまで突
出している。そして、これら各管１２、１３の下端部外
周面と上記各通孔２０ａ、２０ｂの下端開口部との間に
ベローズ２１ａ、２１ｂを設けて、上記密閉装置１４内
外の気密保持を図っている。又、上記下板１７の中央部
上面には、図示しない真空ポンプ等の負圧源に通じる排
気管２２の端部を開口させて、上記密閉装置１４内を真
空にする為の真空手段を構成している。
【００１５】更に、上記仕切板１５の上側で上記ターン
テーブル本体１の下面中央部にはロータ２３を、前記永
久磁石２、２と同心に固定している。又、上記仕切板１
５の下側に位置する、前記ハウジング本体４の上面中央
部には円形の凹部２４を形成し、この凹部２４内にステ
ータ２５を固定している。これらロータ２３とステータ
２５とが、スラストリング状のステッピングモータ２６
を構成し、通電に基づいて上記ターンテーブル本体１を
所定角度ずつ回転駆動する。
テーブル本体１の下面中央部にはロータ２３を、前記永
久磁石２、２と同心に固定している。又、上記仕切板１
５の下側に位置する、前記ハウジング本体４の上面中央
部には円形の凹部２４を形成し、この凹部２４内にステ
ータ２５を固定している。これらロータ２３とステータ
２５とが、スラストリング状のステッピングモータ２６
を構成し、通電に基づいて上記ターンテーブル本体１を
所定角度ずつ回転駆動する。
【００１６】上述の様に構成される本発明のターンテー
ブル装置の使用時には、上記冷却剤送り込み管１２から
送り込んだ液体窒素を上記冷却剤取り出し管１３から取
り出す事により、前記冷却ジャケット１１内に液体窒素
を流通させる。この結果、前記ハウジング本体４並びに
超電導体８、８が、液体窒素の温度（７７°Ｋ）にまで
冷却され、この超電導体８、８が超電導状態になる。こ
れと同時に、上記排気管２２を通じて密閉装置１４内の
空気を排出し、この密閉装置１４内を真空にする。尚、
本発明のターンテーブル装置を組み込む半導体製造装置
は、使用時に内部を高真空、高清浄状態に保持する。こ
の為に、使用状態では、この密閉装置１４の周囲空間も
真空にする。従って、使用時に前記仕切板１５の上下両
側に大きな圧力差が発生する事はなく、この仕切板１５
が大きく撓む事もない。使用開始前の準備段階では、密
閉装置１４内が真空で周囲が大気圧となる場合もある
が、この場合でも上記仕切板１５は、その下面を前記ハ
ウジング本体３の上面で支えられる。従って、この仕切
板１５が過度に撓んで破れる事はない。
ブル装置の使用時には、上記冷却剤送り込み管１２から
送り込んだ液体窒素を上記冷却剤取り出し管１３から取
り出す事により、前記冷却ジャケット１１内に液体窒素
を流通させる。この結果、前記ハウジング本体４並びに
超電導体８、８が、液体窒素の温度（７７°Ｋ）にまで
冷却され、この超電導体８、８が超電導状態になる。こ
れと同時に、上記排気管２２を通じて密閉装置１４内の
空気を排出し、この密閉装置１４内を真空にする。尚、
本発明のターンテーブル装置を組み込む半導体製造装置
は、使用時に内部を高真空、高清浄状態に保持する。こ
の為に、使用状態では、この密閉装置１４の周囲空間も
真空にする。従って、使用時に前記仕切板１５の上下両
側に大きな圧力差が発生する事はなく、この仕切板１５
が大きく撓む事もない。使用開始前の準備段階では、密
閉装置１４内が真空で周囲が大気圧となる場合もある
が、この場合でも上記仕切板１５は、その下面を前記ハ
ウジング本体３の上面で支えられる。従って、この仕切
板１５が過度に撓んで破れる事はない。
【００１７】上述の様にして超電導体８、８を超電導状
態とすると共に、上記ターンテーブル本体１を少し下降
させ（押し下げ）る。この際、前記案内筒６の内周面と
外筒１６の上部外周面との間にスペーサを挟持して、こ
れら両周面同士の間隔が全周に亙って均一な状態に保持
される様にする。従って、上記ターンテーブル本体１の
下降に拘らず、このターンテーブル本体１と前記固定ハ
ウジング３とは互いに同心のままに保持される。そし
て、この様に超電導状態にある超電導体８、８に向け
て、永久磁石２、２を固定したターンテーブル本体１を
押し下げると、超電導体８、８が磁束を繋ぎ止める所謂
ピン止め効果によって、固定ハウジング３に支持された
超電導体８、８とターンテーブル本体１の下面に固定さ
れた永久磁石２、２との距離が一定に保たれる。上記ス
ペーサは、上記ターンテーブル本体１を下降させた後に
除去する。
態とすると共に、上記ターンテーブル本体１を少し下降
させ（押し下げ）る。この際、前記案内筒６の内周面と
外筒１６の上部外周面との間にスペーサを挟持して、こ
れら両周面同士の間隔が全周に亙って均一な状態に保持
される様にする。従って、上記ターンテーブル本体１の
下降に拘らず、このターンテーブル本体１と前記固定ハ
ウジング３とは互いに同心のままに保持される。そし
て、この様に超電導状態にある超電導体８、８に向け
て、永久磁石２、２を固定したターンテーブル本体１を
押し下げると、超電導体８、８が磁束を繋ぎ止める所謂
ピン止め効果によって、固定ハウジング３に支持された
超電導体８、８とターンテーブル本体１の下面に固定さ
れた永久磁石２、２との距離が一定に保たれる。上記ス
ペーサは、上記ターンテーブル本体１を下降させた後に
除去する。
【００１８】この結果、上記ターンテーブル本体１が上
記固定ハウジング３から浮上したままの状態となり、こ
のターンテーブル本体１を軽い力で回転可能となる。こ
の状態で上記固定ハウジング３に設けたステータ２５に
通電すれば、上記ターンテーブル本体１が回転する。図
示の実施例では、このステータ２５とロータ２３とでス
ラストリング状のステッピングモータ２６を構成してい
るので、上記ターンテーブル本体１を所定角度ずつ、正
確に回転駆動できる。従って、被加工物の割り出し作業
等を、容易且つ正確に行える。
記固定ハウジング３から浮上したままの状態となり、こ
のターンテーブル本体１を軽い力で回転可能となる。こ
の状態で上記固定ハウジング３に設けたステータ２５に
通電すれば、上記ターンテーブル本体１が回転する。図
示の実施例では、このステータ２５とロータ２３とでス
ラストリング状のステッピングモータ２６を構成してい
るので、上記ターンテーブル本体１を所定角度ずつ、正
確に回転駆動できる。従って、被加工物の割り出し作業
等を、容易且つ正確に行える。
【００１９】又、ターンテーブル装置の使用時には、前
記排気管２２を通じて密閉装置１４内の空気を排出する
事により、この密閉装置１４内を真空にする。この状態
では、この密閉装置１４内に収納された固定ハウジング
３及び超電導体８、８からこの密閉装置１４への熱伝導
が、前記冷却剤送り込み管１２、冷却剤取り出し管１
３、断熱材１８ａ、１８ｂを通じて伝達されるだけの極
く僅かとなる。従って、上記固定ハウジング３及び超電
導体８、８を低温にしても、上記密閉装置１４の温度が
低下する事はない。この結果、密閉装置１４を構成する
仕切板１５と対向するターンテーブル本体１の温度も必
要以上に低下する事がなくなって、このターンテーブル
本体１に載置された被加工物を、所望の温度条件で加工
できる。
記排気管２２を通じて密閉装置１４内の空気を排出する
事により、この密閉装置１４内を真空にする。この状態
では、この密閉装置１４内に収納された固定ハウジング
３及び超電導体８、８からこの密閉装置１４への熱伝導
が、前記冷却剤送り込み管１２、冷却剤取り出し管１
３、断熱材１８ａ、１８ｂを通じて伝達されるだけの極
く僅かとなる。従って、上記固定ハウジング３及び超電
導体８、８を低温にしても、上記密閉装置１４の温度が
低下する事はない。この結果、密閉装置１４を構成する
仕切板１５と対向するターンテーブル本体１の温度も必
要以上に低下する事がなくなって、このターンテーブル
本体１に載置された被加工物を、所望の温度条件で加工
できる。
【００２０】又、前記固定ハウジング３の温度上昇も抑
えられる為、前記冷却ジャケット１１内を流通する液体
窒素の蒸発も抑えられる。従って、液体窒素の補充も少
なくて済み、ターンテーブル装置の運転経費を抑える事
もできる。
えられる為、前記冷却ジャケット１１内を流通する液体
窒素の蒸発も抑えられる。従って、液体窒素の補充も少
なくて済み、ターンテーブル装置の運転経費を抑える事
もできる。
【００２１】
【発明の効果】本発明のターンテーブル装置は、以上に
述べた通り構成され作用するので、運転時に潤滑剤や摩
耗粉等の異物を全く発生しない。従って、超高清浄空間
に設置した場合でもこの空間内の清浄度を低下させる事
がなく、高品質、高信頼性を有する半導体等の製造が可
能になる。
述べた通り構成され作用するので、運転時に潤滑剤や摩
耗粉等の異物を全く発生しない。従って、超高清浄空間
に設置した場合でもこの空間内の清浄度を低下させる事
がなく、高品質、高信頼性を有する半導体等の製造が可
能になる。
【図１】本発明の実施例を示す縦断面図。
【図２】ターンテーブル本体の下面図。
【図３】固定ハウジングの平面図。
１ ターンテーブル本体 ２ 永久磁石 ３ 固定ハウジング ４ ハウジング本体 ５ 底板 ５ａ 外周端部 ６ 案内筒 ７ 凹部 ８ 超電導体 ９ 隙間 １０ 凹部 １１ 冷却ジャケット １２ 冷却剤送り込み管 １３ 冷却剤取り出し管 １４ 密閉装置 １５ 仕切板 １６ 外筒 １７ 下板 １８ａ、１８ｂ 断熱材 １９ 保持部 ２０ａ、２０ｂ 通孔 ２１ａ、２１ｂ ベローズ ２２ 排気管 ２３ ロータ ２４ 凹部 ２５ ステータ ２６ ステッピングモータ ２７ 冷却装置
Claims (1)
- 【請求項１】 回転自在なターンテーブル本体と、この
ターンテーブル本体の下面に固定された、このターンテ
ーブル本体の回転中心をその中心とする円環状の永久磁
石と、上記ターンテーブル本体の下方に設けられた固定
ハウジングと、この固定ハウジングに支持され、その上
面を上記永久磁石の下面に隙間を介して対向させる超電
導体と、この超電導体を冷却すべく、上記固定ハウジン
グに付設された冷却装置と、上記隙間部分に配設された
仕切板を含んで構成され、上記超電導体及び固定ハウジ
ングを外部から遮断する密閉装置と、この密閉装置内を
真空にする為の真空手段と、上記仕切板の上側で上記タ
ーンテーブル本体の下面に固定されたロータと、上記仕
切板の下側で上記固定ハウジングに固定され、上記ロー
タと組み合わされて電動モータを構成するステータとを
備えたターンテーブル装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14028894A JPH081475A (ja) | 1994-06-22 | 1994-06-22 | ターンテーブル装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14028894A JPH081475A (ja) | 1994-06-22 | 1994-06-22 | ターンテーブル装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH081475A true JPH081475A (ja) | 1996-01-09 |
Family
ID=15265306
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14028894A Pending JPH081475A (ja) | 1994-06-22 | 1994-06-22 | ターンテーブル装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH081475A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1536153A1 (de) * | 2003-11-27 | 2005-06-01 | Nexans | Magnetische Lagerung mit einem in einem ringförmigen, evakuierten Gehäuse angeordneten Supraleiter |
| US7048824B1 (en) * | 1999-04-27 | 2006-05-23 | Gebrüder Decker GmbH & Co. KG | Device for treating silicon wafers |
| WO2010070562A3 (en) * | 2008-12-19 | 2010-10-14 | Lam Research Ag | Device for treating disc-like articles and method for oparating same |
| JP2014123761A (ja) * | 2007-07-17 | 2014-07-03 | Brooks Automation Inc | チャンバ壁に一体化されたモータを伴う基板処理装置 |
| DE102015222673A1 (de) * | 2015-11-17 | 2017-05-18 | Festo Ag & Co. Kg | Bewegungseinrichtung |
-
1994
- 1994-06-22 JP JP14028894A patent/JPH081475A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7048824B1 (en) * | 1999-04-27 | 2006-05-23 | Gebrüder Decker GmbH & Co. KG | Device for treating silicon wafers |
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| US7002273B2 (en) | 2003-11-27 | 2006-02-21 | Nexans | Magnetic bearing |
| JP2014123761A (ja) * | 2007-07-17 | 2014-07-03 | Brooks Automation Inc | チャンバ壁に一体化されたモータを伴う基板処理装置 |
| WO2010070562A3 (en) * | 2008-12-19 | 2010-10-14 | Lam Research Ag | Device for treating disc-like articles and method for oparating same |
| US8791614B2 (en) | 2008-12-19 | 2014-07-29 | Lam Research Ag | Device for treating disc-like article and method for operating same |
| DE102015222673A1 (de) * | 2015-11-17 | 2017-05-18 | Festo Ag & Co. Kg | Bewegungseinrichtung |
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