JPH01276452A

JPH01276452A - 光磁気記録素子

Info

Publication number: JPH01276452A
Application number: JP10369588A
Authority: JP
Inventors: Toshiyuki Shibata; 柴田　俊幸; Hisao Arimune; 久雄有宗
Original assignee: Kyocera Corp
Current assignee: Kyocera Corp
Priority date: 1988-04-26
Filing date: 1988-04-26
Publication date: 1989-11-07
Anticipated expiration: 2012-05-21
Also published as: JP2613082B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は２種類の基板を備えた光磁気記録素子並びに２
種類の光磁気記録部材を貼り合わせて成る光磁気記録素
子に関するものでる。

〔従来技術及びその問題点〕

近時、希土類金属と遷移金属から成る非晶質金属合金を
用いた高密度光磁気記録が盛んに研究されており、その
記録方式は集束レーザー光を記録媒体に投光して局部加
熱し、これによってビットを書き込み、次に磁気光学効
果を利用して読み出しており、更に記録ビットを消去し
、改めてビットを書き込むこともできる。

このような光磁気記録方式においては、第４図に示すよ
うに２種類の光磁気記録部材を接着用樹脂層を介して貼
り合わせ、その光磁気記録の利用度を著しく高めること
ができる。

同図において、基板１ａの上に磁性体Ｎ２ａ、紫外線硬
化型保護樹脂層３ａが順次積層して成る光磁気記録部材
Ａがつくられており、一方、基板１ｂの上に磁性体層２
ｂ、紫外線硬化型保護樹脂層３ｂが順次積層して成る光
磁気記録部材Ｂがつくられており、両者の記録部材Ａ、
Ｂは接着用樹脂層４を介して貼り合わされている。そし
て、このような光磁気記録素子においては、基板１ａ又
は基板１ｂより集束レーザー光を投光して記録・再生・
書き換えを行うことができる。

上記構成の光磁気記録素子に用いられる接着用樹脂層４
には紫外線硬化型樹脂やエポキシ系、アクリル系、ウレ
タン系、シアノアクリレート系などの樹脂接着剤が使用
されている。

しかしながら、これらの樹脂を紫外線硬化型保護樹脂層
３ａ、３ｂの上に塗布し、次いで硬化させた場合、その
硬化に伴って樹脂層４が収縮し、この樹脂層４及び保護
樹脂層３ａ、３ｂに応力歪みが生じ、これにより、磁性
体層２ａ　、　２ｂに応力腐蝕が発生し、その結果、光
磁気記録特性が経時的に劣化する。

また、この光磁気記録素子に複屈折がある基板１ａ、ｌ
ｂを用いた場合には上記応力に起因して複屈折が増加し
、その結果、光磁気記録の初期特性が劣化する。

上記樹脂層４に熱可塑性樹脂から成るホントメルト型接
着剤を用いた場合には上記問題点が解決されるが、その
反面、この接着剤は高温環境下で軟化並びに流動し、そ
のために接着性能が著しく劣る。

また、上記接着用樹脂Ｎ４には、磁性体層２ａ、２ｂを
腐蝕させず、しかも、基＋Ｈ１ａ、ｌｂを化学的に劣化
させない樹脂を用いるのがよく、この場合には光磁気記
録特性が損なわれない。

〔発明の目的〕

従って本発明は上記事情に濫みて完成されたものであり
、その目的は光磁気記録部材に応力歪みが生じなくなり
、これによって優れた光磁気記録特性が得られると共に
その初期特性が維持された光磁気記録素子を提供するこ
とにある。

また本発明の他の目的は光磁気記録素子に用いられる樹
脂接着剤が磁性体層や基板などを侵さず、これによって
高品質且つ高信頼性の光磁気記録素子を提供することに
ある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明によれば、プラスチック製第１基板上に少なくと
も磁性体層、接着用樹脂層及び第２基板が順次形成され
た光磁気記録素子において、前記接着用樹脂層が脱アル
コール型シリコーン系樹脂から成り且つ弾性率が１．５
　Ｘ　１０’ｄｙｎ／ｃｍ”以下に設定されていること
を特徴とする光磁気記録素子が提供される。

また本発明によれば、プラスチック製基板上に少な（と
も磁性体層を形成して成る第１光磁気記録部材、プラス
チック製基板上に少なくとも磁性体層を形成して成る第
２光磁気記録部材、並びに第１光磁気記録部材と第２光
磁気記録部材を貼り合わせるための接着用樹脂層から成
る光磁気記録素子において、前記接着用樹脂層が脱アル
コール型シリコーン系樹脂から成り且つ弾性率が１．５
×１０’ｄｙｎ／ｃｍ”以下に設定されていることを特
徴とする光磁気記録素子が提供される。

以下、本発明の詳細な説明する。

第１図は本発明光磁気記録素子の個々の光磁気記録部材
であり、第２図はその光磁気記録部材を貼り合わせた場
合の基本的な層構成を示す。

第１図によれば、プラスチック製基板ＩＣの上に磁性体
層２ｃを形成して成る光磁気記録部材Ｃが作られており
、一方、プラスチック製基板１ｄの上に磁性体層２ｄを
形成して成る光磁気記録部材りも作られている。

次に磁性体層２ｃ、２ｄの少なくとも一方の層に接着用
樹脂５を塗布し、室温下における自然硬化あるいは加熱
により硬化させると第２図に示す通りの光磁気記録素子
が得られる。

本発明においては、上記接着用樹脂層５を脱アルコール
型シリコーン系樹脂により形成し、しかも、弾性率を所
定の範囲内に設定し、これにより、樹脂層５に応力歪み
が生じなくなり、磁性体層２ｃ、２ｄに応力腐蝕が発生
しな（なる。

脱アルコール型シリコーン系樹脂は縮合型シリコーン系
樹脂の一種であり、この縮合型シリコーン系樹脂は主成
分であるシラノールと架橋剤との加水分解縮合反応によ
り硬化され、そして、その架橋剤にアルコキシシラン、
アセトキシシラン、エノキシシランなどを用いることに
よりそれぞれアルコール、酢酸、ケトンなどの縮合副生
物ができる。従って、縮合副生物の種類に対応して脱ア
ルコール型シリコーン系樹脂、脱酢酸型シリコーン系樹
脂、脱アセトン型シリコーン系樹脂などに区別される。

本発明者等は種々の実験を繰り返し行った結果、上記縮
合型シリコーン系樹脂のなかで脱アルコール型シリコー
ン系樹脂を選択し、これを接着用樹脂層５に用いた場合
、磁性体層２ｃ、２ｄを腐蝕させたり、基板１ｃ、　ｌ
ｄを侵さないことを見い出した。

即ち、脱酢酸型シリコーン系樹脂を用いた場合には磁性
体層２ｃ、２ｄを腐蝕させ、また、脱アセトン型シリコ
ーン系樹脂については基板１ｃ＋１ｄ＋特にポリカーボ
ネート樹脂基板やアクリル樹脂基板が侵食されることを
見い出した。

また、上記脱アルコール型シリコーン系樹脂を用いるに
当たって、その分子構造中の有機基Ｒの種類並びに重合
度及び架橋密度を変えることにより弾性率を所定の範囲
内に設定する。

この弾性率を１．５　Ｘ　１０’ｄｙｎ／ｃｍ”以下、
好適には１．０　Ｘ　１０’ｄｙｎ／ｃｍ”以下に設定
した場合、接着用樹脂層５と磁性体層２ｃ、２ｄの界面
に生じる応力が小さくなり、しかも、応力腐蝕がなく、
また、プラスチック製基板１ｃ、　ｌｄの複屈折が増加
する等の悪影響を受けなくなる。

また、磁性体層２ｃ、２ｄは膜面に垂直な方向に磁化容
易軸を有する非晶質金属垂直磁化膜であり、例えばＴｂ
Ｆｅ、　ＧｄＣｏ、　ＴｂＦｅＣｏ、　ＧｄＤｙＦｅ、
　ＤｙＦｅＣｏ、　ＧｄＴｂＦｅＣｏ、ＧｄＤｙＦｅＣ
ｏなどの希土類金属−遷移金属の合金から成る薄膜があ
る。

基板１ｃ、ｌｄにはプラスチック板が用いられ、このプ
ラスチック基板用材料としてポリカーボネート樹脂、エ
ポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂などがあ
る。

また本発明の光磁気記録素子においては、基板ｌｃ、　
ｔｄと磁性体層２ｃ、２ｄの間に誘電体層を形成しても
よく、これにより、基板側よりレーザー光を投光させる
とエンハンスメント効果によりみかけのカー回転角を増
大させて性能指数を高めることができる。

この誘電体層はサイアロン、ＳｉＮ＋ＡＩＮ、５ｉＣｔ
ＣｄＳ、Ｔｉｃ、　ＴｉＮ、　ＺｎＳ＋　ＭｇＦｚ＋　
Ａｌ２Ｏ３＋　ＣｅＯ，Ｚｒ０ｚ　＋　Ｓｉｎ、　５ｉ
Ｏｚ＋　ＣｄＯ、ＢｉｚＯ＋などの材料により形成され
る。

更に、磁性体層２ｃ、２ｄと樹脂層５の間に上記誘電体
層用材料又はＴ　ｉ　Ｉ　Ｃｒ　Ｉ　Ｚｒ　＋　Ｔａ　
＋　Ａ　Ｉ等の耐食性金属あるいはそれらの酸化物、窒
化物、炭化物、硫化物などの化合物を単独で又は組合せ
て成る非磁性体層を形成してもよい。

更にまた、磁性体層２ｃ、２ｄと樹脂層５の間、もしく
は磁性体Ｊｉ２ｃ、２ｄに形成された上記非磁性体層と
樹脂層５の間に紫外線硬化型樹脂層を形成してもよく、
これによって光磁気記録素子自体の信転性を更に向上さ
せることができる。

かくして上記構成の光磁気記録素子によれば、接着用樹
脂層５に応力歪みが生じなく、また、磁性体層２ｃ、２
ｄと基板１ｃ、　ｌｄが化学的に侵されなくなり、その
結果、優れた光磁気記録特性が得られ、更に光磁気記録
初期特性が維持される。

また本発明によれば、第３図に示すように２種類の基板
を備えた光磁気記録素子についても同様な効果を奏する
。

同図においては、基板６の上に磁性体層７が形成されて
おり、また、保護基板８を用意し、その基板８の上に接
着用樹脂を塗布し、そして、この基板８を接着用樹脂を
介して貼り合わせ、次いで室温下における自然硬化或い
は加熱により硬化させると接着用樹脂層９が形成され、
かくして第３図に示す通りの光磁気記録素子が得られる
。

このような保護基板８には前記基板６と同様なプラスチ
ック板又はガラス板を用いることができる。

〔実施例〕

次に本発明の実施例を述べる。

交流三源マグネトロンスパッタリング装置を用いてポリ
カーボネート製ディスク基板に誘電体層（窒化シリコン
を主要成分とし、これにＹ原子、Ａ１原子及びＯ原子が
含まれた層であり、これは所謂、ＹＳｉＡ１ＯＮ層・・
・イツトリウムサイアロン層と呼ばれる層である）を７
２５人の厚みで形成し、この層の上にＧｄＤｙＦｅ垂直
磁化膜を３００人の厚みで形成し、そして、同装置内で
続けて酸化チタン層（チタン原子に対する酸素原子比率
が０．０５〜０．９０の範囲内に設定されている）を６
５０人の厚みで形成し、然る後、この酸化チタン層の上
に紫外線硬化型樹脂をスピンコードで塗布して樹脂層を
形成し、光磁気記録部材をつくった。

次いで、このような光磁気記録部材をそれぞれ２個用意
し、その一方の光磁気記録部材の紫外線硬化型樹脂層の
上に第１表に示すような接着用樹脂を塗布し、この接着
用樹脂を介して両部材を接着させた。

かくして得られる６種類の光磁気記録素子（隘１〜阻６
）について偏光顕微鏡を用いて基板面全体に亘る複屈折
の分布状態を調べたところ、第１表に示す通りの結果へ
が得られた。

結果へにおいて、Ｏ印は基板面全体に亘って均一な複屈
折が得られた場合であり、Ｘ印は基板面の一部に異常な
複屈折が認められた場合であり、Δ印は基板面の一部に
わずかに異常な複屈折が認められた場合を示す。

また、各々の光磁気記録素子を貰温高湿下（７５℃、８
５χＲＨ）に５００時間放置し、磁性体層の腐食発生状
況を調べたところ、結果Ｂが得られた。

結果Ｂにおいて、Ｏ印は腐食が発生しなかった場合であ
り、Ｘ印は腐食の発生が顕著である場合であり、Δ印は
わずかに腐蝕発生が認められた場合である。

更に、各々の光磁気記録素子について、基板の変質状況
、即ち、基板の溶解や分解に起因する変色や割れの発生
状況を調べたところ、結果Ｃが得られた。

結果Ｃにおいて、Ｏ印は基板に何ら異常が認められなか
った場合であり、Ｘ印は変色や割れが認められた場合で
ある。

〔以下余白〕

第１表より明らかな通り、素子阻６は基板面全体に亘っ
て均一な複屈折が得られ、しかも、磁性体層に腐蝕が発
生せず、また、ポリカードネート製基板自体に同等異常
が生じなかった。

次に上記光磁気記録素子のなかで、（ｉ）　　・・・素子６（ｉｉ）　　・・・素子５（ｉｉｉ　）　　・・・素子３（ｉｖ）　　・・・素子１を高温高湿下（７５℃、８５χＲＨ）に設置し、そのビ
ット・エラー・レートの経時変化を追ったところ、第５
図に示す通りの結果が得られた。

同図中、横軸は放置時間であり、縦軸は放置開始時のピ
ント・エラー・レー）　ＢＥＲ（０）に対する放置後の
ビット・エラー・レートＢＥＴ（Ｔ）の比率であり、ま
た、○印、・印、△印及びム印はそれぞれ上記（ｉ）、
（ｉｉ　）、（ｉｉｉ　）及び（ｉｖ）に対応するプロ
ットであり、そして、図中の特性曲線の表示はいずれも
（ｉ　）　　（ｉｉ　）　　（ｉｉｉ　）　　（ｉｖ　
）に対応する。

第５図より明らかな通り、本発明の素子６は長期間に亘
って優れた光磁気記録特性が得られることが判る。

また、本発明者等は上記接着用樹脂に脱酢酸型シリコー
ン系樹脂を用いた場合、磁性体層に腐蝕が顕著に生じ、
そして、ピットエラーレートが経時的に劣化し、そのた
めに接着用樹脂として不適であることを確認した。

更にまた本発明者等は上記実施例以外に第３図に示す光
磁気記録素子についても同様な結果が得られることを確
認した。

〔発明の効果〕以上の通り、本発明の光磁気記録素子によれば、脱アル
コール型シリコーン系樹脂を接着用樹脂として用いてお
り、これによって応力腐蝕がなくなり、また、この樹脂
により磁性体層や基板が化学的に侵されず、その結果、
優れた光磁気記録特性が得られると共にその初期特性が
維持された高性能且つ長期信頼性の光磁気記録素子が提
供できた。

【図面の簡単な説明】

第１図は貼り合わせ前の各々の光磁気記録部材の層構成
を示す断面図、第２図は本発明光磁気記録素子の層構成
を示す断面図、第３図は本発明光磁気記録素子の他の層
構成を示す断面図、第４図は従来の光磁気記録素子の層
構成を示す断面図、第５図はビット・エラー・レートの
経時変化を示す線図である。ｌａ、ｌｂ、ｌｃ、ｌｄ、６　　・・・基板２ａ、２ｂ
、２ｃ、２ｄ、７　　・・・磁性体層４．５．９　　・
・・・・・・接着用樹脂層Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄ　　・・・・
・・光磁気記録部材特許出願人（６６３）京セラ株式会
社代表者安城欽寿

Claims

【特許請求の範囲】

（１）プラスチック製第１基板上に少なくとも磁性体層
、接着用樹脂層及び第２基板が順次形成された光磁気記
録素子において、前記接着用樹脂層が脱アルコール型シ
リコーン系樹脂から成り且つ弾性率が１．５×１０＾７
ｄｙｎ／ｃｍ＾２以下に設定されていることを特徴とす
る光磁気記録素子。
（２）プラスチック製基板上に少なくとも磁性体層を形
成して成る第１光磁気記録部材、プラスチック製基板上
に少なくとも磁性体層を形成して成る第２光磁気記録部
材、並びに第１光磁気記録部材と第２光磁気記録部材を
貼り合わせるための接着用樹脂層から成る光磁気記録素
子において、前記接着用樹脂層が脱アルコール型シリコ
ーン系樹脂から成り且つ弾性率が１．５×１０＾７ｄｙ
ｎ／ｃｍ＾２以下に設定されていることを特徴とする光
磁気記録素子。